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专利标题：
露光方法及び装置、照明光学装置、並びにデバイス製造方法
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- 专利标题（英）：Exposure method and apparatus, illumination optical apparatus, and device manufacturing method
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申请号：JP2014256977
申请日：2014-12-19
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公开(公告)号：JP6137159B2
公开(公告)日：2017-05-31
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发明人：
工藤 威人
, 蛭川 茂
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申请人：
株式会社ニコン
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申请人地址：
東京都港区港南二丁目15番3号
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专利权人：
株式会社ニコン
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当前专利权人：
株式会社ニコン
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当前专利权人地址：
東京都港区港南二丁目15番3号
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代理人：
大野 聖二; 小林 英了; 加藤 真司; 鈴木 守; 大谷 寛
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优先权：
JP2003105920 2003-04-09 JP2003299628 2003-08-25 JP2003307806 2003-08-29 JP2003329194 2003-09-19 JP2003329309 2003-09-22
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主分类号：
G02B19/00
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IPC分类号：
G02B19/00
; G03F7/20
