专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP2011107521A Maintenance method of conveyance device 审中-公开
标题翻译：传动装置的维护方法
公开(公告)号：JP2011107521A
公开(公告)日：2011-06-02
申请号：JP2009264017
申请日：2009-11-19
申请人： Miyagi Nikon Precision Co Ltd , Nikon Corp , 株式会社ニコン , 株式会社宮城ニコンプレシジョン
发明人： ABE TAKAYA , MUKAI MIKITO , FUKITA BUNGO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/677
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a maintenance method of a conveyance device for efficiently carrying out a maintenance work on a conveyance device.
SOLUTION: The maintenance method of a mask case conveyance device (29) includes: a step (S102) of disposing a case holding unit (23) at a first position in a vertical direction by a CZ-axis driving unit (26); a step (S106) of carrying out a first dismounting work to dismount a cover member placed at a height different from the height of the case holding unit placed at the first position, among the cover members of a plurality of CZ-axis driving units 26 disposed in uppermost, lowermost and center stages; and a step (S107) of carrying out a second dismounting work to dismount a cover member placed at a height different from the height of the case holding unit placed at the first position, among the plurality of cover members not dismounted after the first dismounting work.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于在输送装置上有效地执行维护工作的输送装置的维护方法。＆lt; P＆gt;解决方案：掩模盒输送装置（29）的维护方法包括：通过CZ轴驱动单元（26）将壳体保持单元（23）设置在垂直方向的第一位置的步骤（S102））; 在多个CZ轴驱动单元26的盖构件之间进行第一拆卸工作以拆下放置在与放置在第一位置的壳体保持单元的高度不同的高度的盖构件的步骤（S106）放置在最上面，最下部和中部; 以及进行第二拆卸工作的步骤（S107），以在第一次拆卸工作之后未卸下的多个盖构件中，拆下放置在与放置在第一位置的箱保持单元的高度不同的高度的盖构件。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

2. 发明专利

JP5079717B2 Substrate transfer apparatus and a substrate transfer method, an exposure apparatus and an exposure method, a device manufacturing apparatus and device manufacturing method 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5079717B2
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：JP2009013518
申请日：2009-01-23
申请人：株式会社宮城ニコンプレシジョン , 株式会社ニコン
发明人：篤太田 , 貴史堀内
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03D3/00 , G03F7/2041 , G03F7/7075

3. 发明专利

JP2012138623A Substrate conveying device and substrate conveying method, exposure device and exposure method, and device manufacturing apparatus and device manufacturing method 审中-公开
标题翻译：基板输送装置和底板输送方法，曝光装置和曝光方法以及装置制造装置和装置制造方法
公开(公告)号：JP2012138623A
公开(公告)日：2012-07-19
申请号：JP2012079587
申请日：2012-03-30
申请人： Miyagi Nikon Precision Co Ltd , Nikon Corp , 株式会社ニコン , 株式会社宮城ニコンプレシジョン
发明人： HORIUCHI TAKASHI , OTA ATSUSHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03D3/00 , G03F7/2041 , G03F7/7075
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate conveying device capable of preventing device deterioration caused by liquid remained on a substrate subjected to immersion exposure.SOLUTION: A substrate conveying device conveys a substrate subjected to exposure by a pattern image through a projection optical system and liquid. The substrate conveying device is provided with a liquid detector capable of detecting the liquid remained on the substrate, and the liquid detector detects remained liquid by comparing first information about a substrate surface before substrate exposure and second information about the substrate surface after the substrate exposure.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够防止由浸渍曝光的基板上残留的液体引起的装置劣化的基板输送装置。解决方案：基板输送装置通过投影光学系统和液体将通过图案图像曝光的基板输送。基板输送装置设置有能够检测残留在基板上的液体的液体检测器，并且液体检测器通过在基板曝光之前比较关于基板表面的第一信息和在基板曝光之后关于基板表面的第二信息来检测残留液体。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP5634947B2 基板搬送装置、露光装置、基板搬送方法、及び処理方法有权
标题翻译：基板输送装置，曝光装置，基板搬送方法，和处理方法
公开(公告)号：JP5634947B2
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：JP2011126741
申请日：2011-06-06
申请人：株式会社宮城ニコンプレシジョン , 株式会社ニコン
发明人：篤太田 , 篤太田 , 貴史堀内 , 貴史堀内
IPC分类号： H01L21/027 , B65G49/07 , G03F7/20 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03D3/00 , G03F7/2041 , G03F7/7075

5. 发明专利

JP2011211221A Substrate conveyance and substrate carrying method, exposure apparatus and exposure method, device manufacturing apparatus, and device manufacturing method 有权
标题翻译：基板输送和基板承载方法，曝光装置和曝光方法，装置制造装置和装置制造方法
公开(公告)号：JP2011211221A
公开(公告)日：2011-10-20
申请号：JP2011126741
申请日：2011-06-06
申请人： Miyagi Nikon Precision Co Ltd , Nikon Corp , 株式会社ニコン , 株式会社宮城ニコンプレシジョン
发明人： OTA ATSUSHI , HORIUCHI TAKASHI
IPC分类号： H01L21/027 , B65G49/07 , G03F7/20 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03D3/00 , G03F7/2041 , G03F7/7075
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate conveyance capable of preventing device degradation caused by a liquid remaining on a substrate that has been subjected to liquid-immersion exposure.SOLUTION: The substrate conveyance conveys a substrate that has been exposed to a pattern image through a projection optical system and liquid. The substrate conveyance includes a liquid detector capable of detecting the liquid remaining on the substrate. The liquid detector detects a remaining liquid by comparing the first information regarding a substrate surface, before the substrate is exposed, with the second information regarding the substrate surface after the substrate is exposed.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够防止由残留在已经被浸渍曝光的基板上残留的液体引起的装置劣化的基板输送。解决方案：基板输送将已经暴露于图案图像的基板通过投影光学系统和液体。基板输送包括能够检测残留在基板上的液体的液体检测器。液体检测器通过将衬底暴露之前的衬底表面的第一信息与衬底暴露后的衬底表面的第二信息进行比较来检测剩余液体。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式