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1. 发明专利

JP4634852B2 Sem Shikigaikan inspection apparatus and method 有权
公开(公告)号：JP4634852B2
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：JP2005125859
申请日：2005-04-25
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：裕史宮井 , 成弥田中 , 康弘郡司
IPC分类号： G01N23/225 , H01L21/66
CPC分类号： G01N23/203 , G01N23/2251 , G01N2223/3302 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/2817
摘要： A visual inspection apparatus and method using the scanning electron microscope are disclosed. An electron beam is scanned repeatedly on a sample, and an inspection and a reference image are generated by the secondary electrons generated from the sample or reflected electrons. From the differential image between the inspection image and the reference image, a defect is determined. The number of pixels in the generated image along the direction of repetitive scanning by the electron beam can be changed.

2. 发明专利

JP2006300848A Sem-type visual inspection apparatus and inspection method 有权
标题翻译： SEM型视觉检测设备和检测方法
公开(公告)号：JP2006300848A
公开(公告)日：2006-11-02
申请号：JP2005125859
申请日：2005-04-25
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： GUNJI YASUHIRO , MIYAI YASUSHI , TANAKA SHIGEYA
IPC分类号： G01N23/225 , H01L21/66
CPC分类号： G01N23/203 , G01N23/2251 , G01N2223/3302 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/2817
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection apparatus and an inspection method for achieving precise and high-throughput defect detection performance, in a wide range of defect sizes from a small defect to a large one.
SOLUTION: The SEM-type inspection apparatus for repeatedly scanning a sample with electron beams, generating inspection images and reference images based on secondary electrons or reflection electrons generated from the sample, and obtaining a defective section from the differential image has a function for varying the number of pixels in the repeated scanning direction of the electron beams in the images generated.
COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在从小缺陷到大尺寸的缺陷尺寸的范围内实现精确和高通量缺陷检测性能的检查装置和检查方法。解决方案：用于用电子束反复扫描样品的SEM型检查装置，基于从样品产生的二次电子或反射电子产生检查图像和参考图像，以及从差分图像获得缺陷部分具有功能用于改变所生成的图像中的电子束的重复扫描方向上的像素数。版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

3. 发明专利

JP2018088321A 走査透過電子顕微鏡および画像生成方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018088321A
公开(公告)日：2018-06-07
申请号：JP2016230168
申请日：2016-11-28
申请人：日本電子株式会社
发明人：佐川隆亮
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/147 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/28 , G01N23/20058 , G01N2223/0565 , G01N2223/102 , G01N2223/3302 , G01N2223/418 , H01J37/10 , H01J37/1475 , H01J37/1477 , H01J37/244 , H01J37/265 , H01J2237/2446 , H01J2237/2802 , H01J2237/2803
摘要：【課題】1つの検出器で、複数種のSTEM像を取得することができる走査透過電子顕微鏡を提供する。【解決手段】走査透過電子顕微鏡は、電子線を放出する電子源と、電子源から放出された電子線を試料上で走査するための走査偏向素子と、電子線を収束させる対物レンズと、対物レンズの後焦点面および当該後焦点面の共役な面に配置された撮像装置と、撮像装置で撮像された画像に基づいて、走査像を生成する走査像生成部と、を含み、走査像生成部は、電子線の走査によって試料上の各位置を透過した電子線で形成された電子回折パターンを撮像装置で撮像して得られた複数の画像を取得する処理と、取得された複数の画像の各々について、画像中の透過波の像の大きさに基づき設定された積分領域内の各画素の強度を積分して、試料上の各位置の信号強度を求める処理と、試料上の各位置の信号強度に基づいて、走査像を生成する処理と、を行う。【選択図】図5

4. 发明专利

JP2010075620A Radiation tomosynthesis photographing apparatus 审中-公开
标题翻译：辐射TOMOSYNTHESIS摄影装置
公开(公告)号：JP2010075620A
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：JP2008250276
申请日：2008-09-29
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： TAKAHASHI KENJI
IPC分类号： A61B6/02 , G01N23/04
CPC分类号： G01N23/046 , A61B6/025 , A61B6/06 , A61B6/4291 , A61B6/484 , G01N2223/3302 , G01N2223/419 , G01N2223/612
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate the influence of a scattered radiation, and also to enhance the availability of radiation sources in a radiation tomosynthesis photographing apparatus. SOLUTION: The radiation tomosynthesis photographing apparatus includes a radiation irradiating part 1 which has multiple radiation sources 1a for emitting the radiation toward a subject, and where the multiple radiation sources are arranged by distribution, so as to allow the radiation emitted from the respective radiation sources 1a and transmitting the subject to form a portion of the projection image of the subject. The respective radiation sources 1a are the ones which emit a fan beam radiation, and where the surfaces with the larger spread angle of the fan beam are crossed with the arrayal direction of the multiple radiation sources 1a and are mutually aligned in parallel. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：消除散射辐射的影响，并且还可以增强辐射断层摄影装置中的辐射源的可用性。解决方案：辐射断层摄影装置包括：辐射照射部分1，其具有用于向被摄体发射辐射的多个辐射源1a，并且其中多个辐射源通过分布布置，以便允许从各个辐射源1a并且传送被摄体以形成被摄体的投影图像的一部分。各个辐射源1a是发射扇形束辐射的辐射源，并且其中具有较大扩散角的扇形光束的表面与多个辐射源1a的阵列方向交叉并且彼此平行地对准。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

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