基本信息:
- 专利标题： Sem Shikigaikan inspection apparatus and method
- 申请号：JP2005125859 申请日：2005-04-25
- 公开(公告)号：JP4634852B2 公开(公告)日：2011-02-23
- 发明人： 裕史 宮井 , 成弥 田中 , 康弘 郡司
- 申请人： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
- 专利权人： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
- 当前专利权人： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
- 优先权： JP2005125859 2005-04-25
- 主分类号： G01N23/225
- IPC分类号： G01N23/225 ; H01L21/66
摘要：
A visual inspection apparatus and method using the scanning electron microscope are disclosed. An electron beam is scanned repeatedly on a sample, and an inspection and a reference image are generated by the secondary electrons generated from the sample or reflected electrons. From the differential image between the inspection image and the reference image, a defect is determined. The number of pixels in the generated image along the direction of repetitive scanning by the electron beam can be changed.
公开/授权文献:
- JP2006300848A Sem-type visual inspection apparatus and inspection method 公开/授权日：2006-11-02
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01N | 借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料 |
| ------G01N23/00 | 利用未包括在G01N21/00或G01N22/00组内的波或粒子辐射来测试或分析材料，例如X射线、中子 |
| --------G01N23/02 | .通过使辐射透过材料 |
| ----------G01N23/225 | ..利用电子或离子微探针 |