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1. 发明专利

JP2018034142A 電解ナノイオン水生成装置有权
公开(公告)号：JP2018034142A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：JP2017010012
申请日：2017-01-24
申请人：エイゾクケイマングントウショウナノコウフンユウゲンコウシ
发明人：呂鴻圖 , 駱正文 , 施▲徳▼毅 , 戴銘恩
IPC分类号： C02F1/46
CPC分类号： C02F1/4618 , C02F1/46109 , C02F1/46114 , C02F2001/46123 , C02F2001/4619 , C02F2201/46115 , C02F2201/4612 , C02F2201/4614 , C02F2201/4617 , C02F2201/4618 , C02F2209/06 , C02F2209/40 , C25B9/08 , C25B9/12 , C25B15/02 , C25B15/04
摘要：【課題】電解ナノイオン水生成装置の提供。【解決手段】陰極電解槽110と、陽極電解槽120と、イオン交換膜130と、直流電源供給モジュール140と、調節モジュールとを備え、陰極電解槽110には、被電解生成水を収容し、陰極電解板111を有し、陰極電解板111が陰極電解槽110の内側に近設され、陽極電解槽120には、電解質水溶液を収容し、陽極電解板121を有し、陽極電解板121が陽極電解槽120の内側に近設され、イオン交換膜130は陰極電解槽110と陽極電解槽120との間に位置する構造とする電解ナノイオン水生成装置100。【選択図】図1

2. 发明专利

JPWO2010119529A1 活性酸素生成装置有权
公开(公告)号：JPWO2010119529A1
公开(公告)日：2012-10-22
申请号：JP2011507736
申请日：2009-04-15
申请人：三菱電機株式会社
发明人：史朗竹内 , 史朗竹内 , 真理齋藤 , 真理齋藤 , 古橋　拓也 , 拓也古橋
IPC分类号： C01B13/02 , C02F1/46 , C25B9/00 , C25B11/02 , C25B11/04
CPC分类号： C01B13/0207 , C02F1/46109 , C02F1/4672 , C02F2001/46123 , C02F2001/46133 , C02F2305/023 , Y02E60/366
摘要：導電性高分子を含む複数の基材からなる陰極4と、導電性を有する陽極5と、両極間4,5に酸素を溶存する水1を介して通電させる電源3と、水1を貯蔵する水受け部2とを備え、陰極4は、板状の複数の基材4aが間隔をおいて水受け部2に立設配置されて成り、陽極5は、複数の基材4aに渡って、かつ複数の基材4aと直交する態様に配置されている活性酸素生成装置。

3. 发明专利

JP2004525748A Apparatus and method for providing generating ozone treated water 审中-公开
公开(公告)号：JP2004525748A
公开(公告)日：2004-08-26
申请号：JP2002549595
申请日：2001-12-12
申请人：ウォーター・ピック・インコーポレーテッド
发明人：ウイリアムズ，ブライアン・アール , クイン，マイケル・ジェイ , ボイド，ブライアン・ティー , ルエトゲン，ハロルド・エイ
IPC分类号： B08B3/08 , A61L2/18 , A61L2/20 , B08B3/02 , B08B3/04 , C01B13/10 , C02F1/00 , C02F1/28 , C02F1/42 , C02F1/461 , C02F1/467 , C02F1/78 , C02F9/00 , C25B1/13 , C25B9/12 , C25B15/00
CPC分类号： A61L2/183 , A61L2/202 , A61L2202/16 , A61L2202/26 , C01B13/10 , C02F1/281 , C02F1/283 , C02F1/46104 , C02F1/46109 , C02F1/4672 , C02F1/78 , C02F9/00 , C02F2001/427 , C02F2001/46123 , C02F2001/46133 , C02F2001/46142 , C02F2001/46166 , C02F2001/46185 , C02F2101/20 , C02F2201/46195 , C02F2201/78 , C02F2201/782 , C02F2201/784 , C02F2209/006 , C02F2303/04 , C25B1/13 , C25B9/12 , C25B15/00
摘要：【解決手段】本発明は、水をオゾン処理してオゾン処理水を洗浄目的で表面に掛けるための装置である。本発明は、ユーザーが、簡便に且つ短時間で、水を、より強い洗浄特性を備えた液体へと変換できるようにする。本発明は、水を入れ、ユーザーが水を分配施与するために容易に操作できるようになっているリザーバ（６４）と、リザーバ内の水の少なくとも一部がリザーバから装置に流れ、又リザーバへと戻ることができるように、リザーバ及び装置と連通している循環流路とを有する洗浄装置を含んでいる。
【選択図】図２

4. 发明专利

JP2004525255A Electrochemical devices having retractable electrodes 有权
公开(公告)号：JP2004525255A
公开(公告)日：2004-08-19
申请号：JP2002550142
申请日：2001-12-12
申请人：リンテックインターナショナルリミテッドLyntech International,Ltd.
发明人：シー．アンドリューズ、クレイグ , ボイド、ブライアン , マーフィー、オリバー
IPC分类号： C25B11/16 , A61L2/18 , A61L2/20 , C02F1/28 , C02F1/42 , C02F1/461 , C02F1/467 , C02F1/78 , C02F9/00 , C25B1/13 , C25B9/10 , C25B9/12 , C25B15/00 , C25B15/04
CPC分类号： A61L2/183 , A61L2/202 , C02F1/281 , C02F1/283 , C02F1/46104 , C02F1/46109 , C02F1/4672 , C02F1/78 , C02F9/00 , C02F2001/427 , C02F2001/46123 , C02F2001/46133 , C02F2001/46142 , C02F2001/46166 , C02F2001/46185 , C02F2101/20 , C02F2201/46195 , C02F2201/782 , C02F2201/784 , C02F2303/04 , C25B1/13 , C25B9/12 , C25B15/00
摘要：電気触媒を含む材料の劣化や効率低下を招くことなく、周期的、非定常状態、または非連続動作に対応する電気化学セルおよび方法。本発明は、１つ以上の電極を電解質と接触するように配置する手段と、１つ以上の電極を後退させ電解質との接触を絶つ手段とを提供する。配置手段および後退手段は、同一デバイスであっても、異なるデバイスであってもよい。配置手段および後退手段は、第１電極と第２電極との間に印加された電圧が１ボルト未満であるとき、時間期間が満了したとき、オゾン濃度が設定オゾン濃度よりも高いとき、接触圧力が５ｐｓｉｇよりも低いとき、およびその組み合わせというような所与の待機条件に対して、自動、受動、またはフェール・セーフ後退を行うように設計することができる。

5. 发明专利

JP6112457B2 プラズマ発生装置有权
公开(公告)号：JP6112457B2
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：JP2013182877
申请日：2013-09-04
申请人：パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人：熊谷裕典 , 今井伸一
IPC分类号： C02F1/48 , B01J19/08 , H05H1/24
CPC分类号： C02F1/48 , C02F1/4608 , C02F2001/46123 , C02F2001/46138 , C02F2001/46152 , C02F2201/46125 , C02F2201/46175 , C02F2201/4619 , C02F2209/38 , C02F2303/04 , C02F2305/023 , C02F2307/12

6. 发明专利

JP2013258159A Plasma generation device and plasma generation method 有权
标题翻译：等离子体生成装置和等离子体生成方法
公开(公告)号：JP2013258159A
公开(公告)日：2013-12-26
申请号：JP2013182877
申请日：2013-09-04
申请人： Panasonic Corp , パナソニック株式会社
发明人： KUMAGAI HIRONORI , IMAI SHINICHI
IPC分类号： H05H1/24 , B01J19/08 , C02F1/48
CPC分类号： C02F1/48 , C02F1/4608 , C02F2001/46123 , C02F2001/46138 , C02F2001/46152 , C02F2201/46125 , C02F2201/46175 , C02F2201/4619 , C02F2209/38 , C02F2303/04 , C02F2305/023 , C02F2307/12
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma generation device capable of generating a plasma with efficiency and processing liquid and the like in a short time and/or with low power.SOLUTION: A plasma generation device comprises: a processing tank 509 storing processed water 510; a first electrode 504 and a second electrode 502 provided in the processing tank; an air bubble generator generating an air bubble 506 so that a surface where a conductor of the first electrode 504 is exposed into the processed water is located in the air bubble 506; a gas supply device 505 supplying a gas to the air bubble generator; a pulse power supply 501 connected to the first and second electrodes 504 and 502; and control device 520, when the surface where at least the conductor of the first electrode is exposed is located in the air bubble, controlling one or both of the gas supply device and the power supply so as to apply a voltage between the first and second electrodes 504 and 502.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种等离子体产生装置，其能够在短时间和/或低功率下有效地产生等离子体和处理液体等。解决方案：等离子体产生装置包括：处理罐509，其将处理水 510; 设置在处理槽中的第一电极504和第二电极502; 产生气泡506的气泡发生器，使得第一电极504的导体暴露于处理水中的表面位于气泡506中; 向气泡发生器供给气体的气体供给装置505; 连接到第一和第二电极504和502的脉冲电源501; 以及控制装置520，当至少暴露第一电极的导体的表面位于气泡中时，控制气体供应装置和电源中的一个或两个，以便在第一和第二电极之间施加电压电极504和502。

7. 发明专利

JP5362934B2 Plasma generating apparatus and plasma generation method 有权
公开(公告)号：JP5362934B2
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：JP2013514993
申请日：2012-05-14
申请人：パナソニック株式会社
发明人：裕典熊谷 , 伸一今井
IPC分类号： C02F1/48
CPC分类号： C02F1/48 , C02F1/4608 , C02F2001/46123 , C02F2001/46138 , C02F2001/46152 , C02F2201/46125 , C02F2201/46175 , C02F2201/4619 , C02F2209/38 , C02F2303/04 , C02F2305/023 , C02F2307/12
摘要： The plasma-generating apparatus includes a treatment vessel 509 containing to-be-treated water 510, a first electrode 504 and a second electrode 502 within the treatment vessel, a bubble-generating part which generate a bubble 506 such that a surface where conductor of the first electrode 504 is exposed to the to-be-treated water is positioned within the bubble 506, a gas-supplying apparatus 505 which supplies gas to the bubble-generating part, a pulsed power supply 501 connected to the first and the second electrodes 502 and 504, a control apparatus 520 which controls one or both of the gas-supplying apparatus and the power supply such that the voltage is applied between the first and the second electrodes 502 and 504 when at least surface where the conductor of the first electrode 504 is exposed is positioned within the bubble.

9. 发明专利

JPWO2012157248A1 プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法有权
公开(公告)号：JPWO2012157248A1
公开(公告)日：2014-07-31
申请号：JP2013514993
申请日：2012-05-14
申请人：パナソニック株式会社
发明人：裕典熊谷 , 裕典熊谷 , 今井　伸一 , 伸一今井
IPC分类号： C02F1/48 , F24F6/00 , F24F13/22 , H05H1/00 , H05H1/24
CPC分类号： C02F1/48 , C02F1/4608 , C02F2001/46123 , C02F2001/46138 , C02F2001/46152 , C02F2201/46125 , C02F2201/46175 , C02F2201/4619 , C02F2209/38 , C02F2303/04 , C02F2305/023 , C02F2307/12
摘要：プラズマ発生装置は、被処理水510を蓄えた処理槽509と、処理槽内の第1の電極504および第2の電極502と、第1の電極504の導電体が被処理水中に露出している表面を気泡506内に位置させるように気泡506を発生する気泡発生部と、気体を気泡発生部に供給する気体供給装置505と、第1および第2の電極502、504に接続するパルス電源501と、第1の電極の少なくとも導電体が露出している表面が気泡内に位置しているときに、第1および第2の電極502、504間に電圧が印加されるように、気体供給装置および電源の一方または両方を制御する制御装置520とを有する。

10. 发明专利

JP5355572B2 Sterilization and antibacterial device 有权
公开(公告)号：JP5355572B2
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：JP2010522644
申请日：2009-04-07
申请人：三菱電機株式会社
发明人：真理齋藤 , 史朗竹内 , 拓也古橋
IPC分类号： C02F1/46
CPC分类号： C02F1/4672 , C02F1/46104 , C02F2001/46123 , C02F2001/46133
摘要： The present invention relates to sterilization and anti-bacterialization equipment, in which an anode electrode 5 and a cathode electrode 4 having capability of creating active oxygen species are installed, and active oxygen species are created by making water to be treated intervene between both of electrodes 4 and 5 and energizing the water between both electrodes, include the anode electrode 5 made of a polymeric material or a material mainly made of the polymeric material.

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