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1. 发明专利

JP2015027662A 移動鋼帯の表面に水性処理液を塗布する方法有权
标题翻译：将水处理溶液应用于移动钢带表面的方法
公开(公告)号：JP2015027662A
公开(公告)日：2015-02-12
申请号：JP2014083426
申请日：2014-04-15
申请人：ティッセンクルップラッセルシュタインゲーエムベーハー , Thyssenkrupp Rasselstein Gmbh , ティッセンクルップラッセルシュタインゲーエムベーハー
发明人： ANDREA MARMANN , MICHAEL WILD , PAUL MICHELS
IPC分类号： B05D7/14 , B05B3/10 , B05D1/02 , B05D7/24 , C23C22/34 , C23C22/76 , C23C28/00
CPC分类号： B05C11/021 , B05C11/025 , B05D1/02 , B05D1/40 , B05D3/002 , B05D3/0218 , B05D3/0254 , B05D3/0466 , B05D3/12 , B05D2202/10 , B05D2252/02 , C23C22/00 , C23C22/76
摘要：【課題】水性処理液の使用量を最小限に抑えながら、水性処理液を鋼帯表面に均一に塗布することを可能とする、移動する鋼帯表面に対する水性処理液の塗布方法を提供する。【解決手段】一定の移動方向に所定の帯速度(ストリップ速度)で移動する鋼帯1の表面に、水性処理液を塗布する方法に関する。移動する鋼帯1を気体流で乾燥するステップ;前記水性処理液を、遠心力により、スプレージェットで、鋼帯1の表面に噴霧し、前記水性処理液の液状膜を形成する、鋼帯1の移動方向に対して横断する方向に互いに隣接して配置された複数の噴霧ロータ3であって、鋼帯1の少なくとも1つの表面に前記水性処理液を塗布するステップ;被駆動平滑ローラ(5(5a、5b))によって、前記水性処理液の前記塗布された液状膜を均等化するステップ;前記水性処理液の前記塗布された液状膜を乾燥するステップと、を含む方法、及び装置。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在移动的钢带的表面上施加水处理溶液的方法，其能够在使用尽可能多的处理溶液的同时将处理溶液均匀地施加到钢带表面上。解决方案：本发明涉及一种将水处理液施加到钢带1的表面上的装置和方法，该钢带1以恒定运动方向以规定的带速移动。该方法包括以下步骤：用气流干燥移动的钢带1; 将水溶液施加到钢带1的至少一个表面上，并且沿着与钢带1的移动方向横切的方向彼此相邻地配置多个喷雾转子3，以喷射水溶液用离心力喷射喷射到钢带1的表面上，形成水溶液的湿膜; 通过驱动平滑辊5（5a，5b）均匀化处理水溶液的湿膜; 并干燥所用的水溶液的湿膜。

2. 发明专利

JP5439451B2 Coating apparatus and a coating method 有权
公开(公告)号：JP5439451B2
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：JP2011208426
申请日：2011-09-26
申请人：株式会社東芝
发明人：治彦石原 , 強佐藤 , 健一大城
IPC分类号： B05C9/10 , B05C11/08 , B05C13/02 , B05D1/26 , B05D3/00 , B05D3/04 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： B05D1/26 , B05D1/002 , B05D3/002 , B05D3/0466 , B05D3/104 , H01L21/6715

4. 发明专利

JP2008502755A Apparatus for carrying out the method and process for curing a radically curable material under a protective gas atmosphere 审中-公开
公开(公告)号：JP2008502755A
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：JP2007515922
申请日：2005-05-24
申请人：ビーエーエスエフコーティングスアクチェンゲゼルシャフトBASF Coatings AG
发明人：ラーカファトミール , バウムガルトフーベルト , アウストループベルトルト , カンプスマルティン
IPC分类号： C08J7/00 , F26B3/28 , F26B21/14
CPC分类号： F26B21/14 , B05D3/0466 , B05D3/0486 , B05D3/067 , F26B3/28
摘要：ラジカル硬化可能な材料（１．８）におけるラジカル機構により進行する硬化を放射線により開始させるか、または開始させかつ維持して、ラジカル硬化可能な材料（１．８）を保護ガス雰囲気（１．４）下に硬化させるための方法であって、保護ガス雰囲気の側方流去を阻止する形式の方法において、（１）ラジカル硬化可能な材料（１．８）を、保護ガス雰囲気（１．４）中へ所定の深さ（１．４．２）よりも下にまで浸入させ、ただし該所定の深さを越えると、保護ガス雰囲気（１．４）がコンスタントにその最低酸素濃度を有しており、（２）ラジカル硬化可能な材料に保護ガス雰囲気内で前記所定の深さ（１．４．２）よりも下で放射線を照射し、この場合、複数の放射線源（１．５）のうちの少なくとも１つが、保護ガス／空気の境界面（１．４．１）よりも下方に配置されており、その後に（３）得られた、硬化された材料（１．８）を再び保護ガス雰囲気（１．４）から浸出させることを特徴とする、ラジカル硬化可能な材料を保護ガス雰囲気下に硬化させるための方法および該方法を実施するための図１に示した装置（１）が見い出された。

6. 发明专利

JP5941818B2 成膜方法及び成膜装置有权
公开(公告)号：JP5941818B2
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：JP2012225535
申请日：2012-10-10
申请人：日本発條株式会社
发明人：平野智資
IPC分类号： C23C24/04 , B05B7/14
CPC分类号： B05B1/02 , B05B7/1481 , B05D1/12 , B05D3/0486 , C23C24/04 , B05B7/1422 , B05D3/0466

7. 发明专利

JPWO2013038484A1 酸化膜成膜方法および酸化膜成膜装置有权
标题翻译：氧化膜形成方法，氧化膜沉积设备
公开(公告)号：JPWO2013038484A1
公开(公告)日：2015-03-23
申请号：JP2013533367
申请日：2011-09-13
申请人：東芝三菱電機産業システム株式会社
发明人：容征織田 , 容征織田 , 白幡　孝洋 , 孝洋白幡 , 孝浩平松 , 孝浩平松
IPC分类号： C01B13/34 , C01B13/14
CPC分类号： B05D3/0453 , B05C5/00 , B05D3/0466 , C23C16/18 , C23C16/40 , C23C16/4486 , C23C16/452
摘要：本発明は、大気の変動の影響を受けず常に酸化膜を正常に成膜でき、金属酸化膜にあっては低抵抗な膜が成膜でき、かつ成膜効率の良い、酸化膜成膜方法を提供する。そして、本発明では、大気中において、基板(100)に対して、アルキル化合物を含む原料溶液をミスト状にして噴出させる。さらに、アルキル化合物に対して酸化作用を有する酸化剤を、ミスト状の原料溶液に対して、供給する。以上の処理により、本発明では、基板上に酸化膜を成膜する。
摘要翻译：本发明可以成功地总是堆积氧化膜，而不受大气中的变型中，在金属氧化物膜可沉积具有较低的电阻薄膜，以及良好的膜形成效率，氧化膜的形成方法提供。在本发明中，在空气中，相对于所述衬底（100），含有烷基化合物的原料溶液在薄雾喷射。此外，氧化剂具有氧化相对于烷基的化合物的效果，相对于供给的原料溶液的雾。利用上述处理，在本发明中，在基板上形成氧化膜英寸

8. 发明专利

JP2014076426A Film forming method and film forming device 有权
标题翻译：薄膜成型方法和薄膜成型装置
公开(公告)号：JP2014076426A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：JP2012225535
申请日：2012-10-10
申请人： Nhk Spring Co Ltd , 日本発條株式会社
发明人： HIRANO TOMOSUKE
IPC分类号： B05D1/12 , B05B7/14
CPC分类号： B05B1/02 , B05B7/1422 , B05B7/1481 , B05D1/12 , B05D3/0466 , B05D3/0486 , C23C24/04
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film forming method and a film forming device which can suppress oxidation of a film during film formation, can structure a device simply and inexpensively, and can replace a base material as a film formation object without taking effort and time.SOLUTION: A film forming device 100 forms a film by accelerating powder 2 as raw material together with gas, and spraying and depositing the powder 2 maintained in a solid state on a surface of a base material 1. The film forming device includes a chamber 10, a holding part 11 which is arranged in the chamber 10 and holds the base material 1, a spray nozzle 12 which jets the powder 2 together with inert gas, and a drive part 15 which moves one of the spray nozzle 12 and the holding part 11 with respect to the other. The inert gas jetted by the spray nozzle 12 provides a positive pressure in the chamber 10.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供能够抑制膜形成期间的膜的氧化的成膜方法和成膜装置，可以简单且廉价地构造装置，并且可以在不牺牲成本的情况下代替基材作为成膜物质，时间。解决方案：成膜装置100通过以气体作为原料加速粉末2和将保持在固体状态的粉末2喷射沉积在基材1的表面上而形成膜。成膜装置包括：室10，设置在室10中并保持基材1的保持部11，将粉末2与惰性气体一起喷射的喷嘴12以及将喷嘴12和保持部件11相对于另一个。由喷嘴12喷射的惰性气体在室10中提供正压。

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