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1. 发明专利

KR20210031506A KR20210031506A - How to create teacher data and how to judge discharge status 审中-公开
公开(公告)号：KR20210031506A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：KR1020217004602A
申请日：2019-08-21
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 유지 오키타 , 히데지 나오하라 , 다츠야 마스이 , 히로아키 가쿠마
IPC分类号： B05D3/00 , B05D1/40 , H01L21/027 , H01L21/304
CPC分类号： B05D3/00 , B05D1/40 , H01L21/027 , H01L21/304
摘要： 토출 노즐의 토출 상태에 따른 교사 데이터를 생성할 수 있는 교사 데이터 생성 방법을 제공한다. 교사 데이터를 생성하는 방법은, 유지 공정과 처리액 토출 공정과 촬상 공정과 교사 데이터 생성 공정을 구비한다. 유지 공정에 있어서, 기판을 기판 유지 기구에 대략 수평으로 유지한다. 처리액 토출 공정에 있어서, 토출 노즐로부터 기판의 주면을 향하여 처리액을 토출한다. 촬상 공정에 있어서, 토출 노즐, 및, 처리액 토출 공정에 있어서 토출된 처리액의 적어도 일부를 포함하도록 조정된 촬상 영역을, 처리액 토출 공정의 적어도 일부를 포함하는 기간에 걸쳐 카메라에 의해 촬상하여, 복수의 화상 데이터를 취득한다. 교사 데이터 생성 공정에 있어서, 복수의 화상 데이터 중 적어도 하나에 대해, 당해 화상 데이터에 찍히는 처리액의 토출 상태에 따른 라벨을 당해 화상 데이터에 부여하여, 교사 데이터를 생성한다.

2. 发明专利

JP2018536725A 特に高い耐加水分解性を有するコーティングされたフィルムおよびそれらから製造された成形品审中-公开
公开(公告)号：JP2018536725A
公开(公告)日：2018-12-13
申请号：JP2018513645
申请日：2016-09-13
申请人：コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフト , COVESTRO DEUTSCHLAND AG
发明人：ルートヴィヒ,ミヒャエル , ペッツォルト,ヨアヒム
IPC分类号： C09D175/16 , C09D7/61 , C09D5/02 , B32B27/00 , B32B27/30 , C08G18/67 , B05D7/24 , C08J7/04
CPC分类号： C09D175/16 , B05D1/40 , B05D3/0272 , B29C35/0805 , B29C51/14 , B29C51/42 , B29K2701/12 , B41M1/30 , C08G18/0823 , C08G18/227 , C08G18/246 , C08G18/348 , C08G18/44 , C08G18/6659 , C08G18/673 , C08G18/758 , C08G18/7671 , C08J7/047 , C08J2300/00 , C08J2475/16 , C08K3/36 , C08K2201/011 , C09D7/61 , C08G18/12 , C08G18/3228
摘要：本発明は、プラスチックフィルムおよび放射線硬化性水性コーティング剤を含むコーティングされたフィルムに関し、このコーティング剤が特に高い耐加水分解性を有するポリウレタン(メタ)アクリレートを含有する。さらに、本発明は、このようなフィルムの製造方法、このようなフィルムの成形品の製造における使用、放射線硬化されたコーティングを有する成形品を製造する方法、ならびにこの方法によって製造することができる成形品およびコーティングに含有される水性放射線硬化性コーティング剤に関する。

3. 发明专利

JP2016540226A 測定センサ审中-公开
标题翻译：测量传感器
公开(公告)号：JP2016540226A
公开(公告)日：2016-12-22
申请号：JP2016539222
申请日：2014-12-11
申请人：エッセ・セ2エヌ
发明人：オリビエ、ゲガン , マチュー、グロニエ
IPC分类号： G01L19/14 , G01D11/24 , G01K1/08
CPC分类号： G01D11/245 , B05D1/32 , B05D1/40 , G01K1/08 , G01L19/141
摘要：本発明は、測定センサ1に関し、このセンサは、少なくとも1つの感知部品2と少なくとも1つの測定部品3とが内部に位置している空洞1aであって、感知部品2を被覆して測定部品3を少なくとも部分的に露出させるコーティング材料4、特に樹脂を受容する空洞1aと、コーティング材料4の堆積タンク1bであって、このタンクbへのコーティング材料4の堆積後、コーティング材料4を空洞1aに流すことができるように空洞1aに連通するタンクとを含み、堆積タンク1bは、コーティング材料4の堆積時にコーティング材料4全体を受容できるように選択された容量を有し、このタンクbは、空洞1aにコーティング材料4が流れ込んだ後で少なくとも部分的に空にされる。
摘要翻译：本发明涉及一种测量传感器1，该传感器是一个内腔1a，其中感测部件2中的至少一个和所述一个测量部3中的至少位于所述测量部3内，以覆盖所述感测装置2 至少部分涂覆材料4以暴露内腔1a，特别是用于容纳树脂，涂层材料4的淀积箱1b中，涂覆材料4到罐b的沉积之后，和涂层材料4在腔1a中和连接到所述内腔1a，以便能够流过的槽，沉积槽1B具有选定的电容，以便它可以在沉积该涂层材料4的时间接收整个涂层材料4，该罐b在空腔涂层材料4是流入1a中之后至少部分是空的。

4. 发明专利

JP5968469B2 無機酸化物ナノ粒子及び有機塩基を含む塩基性組成物、コーティングされた基材、物品、及び方法有权
标题翻译：基本组合物，包含所述无机氧化物微粒和有机碱，涂布的基材，物品，和方法
公开(公告)号：JP5968469B2
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：JP2014557959
申请日：2012-02-27
申请人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
发明人：チェン, シュエ−ホア , ヤン, ユ , ジュ, ドン−ウェイ , ジョウ, ピン , ユ, ビン
IPC分类号： C09D1/00 , C09D201/00 , C09D7/12 , C09D5/02 , B05D7/24
CPC分类号： C09D7/1216 , B05D1/28 , B05D1/40 , B05D3/0413 , B05D3/101 , C09D1/00 , C09D7/1233 , C09D7/1266 , Y10T428/25 , Y10T428/257

5. 发明专利

JPWO2014013922A1 防汚性を有する凹凸形状の表面を有する構造体及びその製造方法审中-公开
标题翻译：结构及其制造方法具有表面凹凸形状具有防污性
公开(公告)号：JPWO2014013922A1
公开(公告)日：2016-06-30
申请号：JP2014525798
申请日：2013-07-10
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：淳平小林 , 淳平小林 , 加藤　拓 , 拓加藤 , 正睦鈴木 , 正睦鈴木
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02
CPC分类号： C08J5/18 , B05D1/40 , B05D3/06 , B08B17/06 , B08B17/065 , B29C59/022 , B29C59/026 , B29C59/16 , B29C2059/023 , B29K2033/04 , B29K2083/00 , B29K2105/0005 , B29K2995/007 , B29L2011/00 , C08G18/2825 , C08G18/6725 , C08G18/73 , C08G18/7642 , C08G18/792 , C08G18/8029 , C08G77/14 , C08G77/46 , C08J2475/16 , G02B1/18 , G02B27/0006 , H01L31/02366 , H01L33/44 , H01L2924/0002 , Y02E10/50 , Y10T428/24479 , Y10T428/24612 , H01L2924/00
摘要：【課題】凹凸形状の表面に付着した指紋等の汚れに対する乾拭き特性を有する構造体、及びその製造方法を提供する。【解決手段】重合性基を1分子中に1個乃至10個有する少なくとも1種の化合物及び光重合開始剤を含有する組成物から作製され、溶融石英のマルテンス硬さが4100N/mm2である条件で測定したときのマルテンス硬さが3N/mm2以上130N/mm2以下である、凹凸形状の表面を有する構造体。前記構造体は、前記組成物を基材上に塗布した後、モールドの凹凸形状を有する面に前記基材上の塗膜を圧着し、その状態で前記塗膜を光硬化させて硬化膜とし、前記基材上の硬化膜を前記モールドから剥離することにより製造される。【選択図】なし
摘要翻译：具有用于污渍干擦性能，如指纹附着在凹凸的表面的结构，以及它们的制造方法。从含有至少一种化合物和在分子中具有九时五十九聚合基团的光聚合引发剂的组合物A制备，熔融石英的条件马氏硬度为4100N /毫米@ 2 在马氏硬度为3N /毫米@ 2或130N /毫米@ 2以下测量时，具有波纹表面结构。的结构中，将组合物施加到基底上之后，在基板上的涂层通过在此状态下光固化涂膜压到表面与模具的凹凸，固化膜，它是由从模具中去除基板上的固化膜制备。系统技术领域

6. 发明专利

JP2016084471A エンボスフィルム、枚葉フィルム、転写物、およびエンボスフィルムの製造方法审中-公开
标题翻译：印刷胶片，薄膜，转印和生产胶片的方法
公开(公告)号：JP2016084471A
公开(公告)日：2016-05-19
申请号：JP2015209376
申请日：2015-10-23
申请人：デクセリアルズ株式会社
发明人：村本穣 , 菊池正尚
IPC分类号： B29C59/04 , C08J7/00
CPC分类号： B29C59/022 , B05D1/28 , B05D1/40 , B05D2252/02 , B29C35/10 , B29C59/046 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B29K2105/16
摘要：【課題】凹部の欠損頻度がより少ないエンボスフィルムを提供する。【解決手段】フィルム本体と、前記フィルム本体の表面に形成された複数の凹部と、を備え、前記凹部の開口面の直径は、可視光波長よりも大きく、前記凹部の配列パターンは、前記フィルム本体の長さ方向に沿った周期性を有し、前記フィルム本体の一方の端部における凹部の欠損率と、前記フィルム本体の他方の端部における凹部の欠損率との差は、10ppm以下である、エンボスフィルム。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供具有较少缺陷频率的凹陷部分的压纹膜。解决方案：提供一种压花膜，其包括膜体和形成在膜体表面上的多个凹部，其中，凹部中的开口表面至少大于可见光的波长，凹部的布置图案沿着膜体的长度方向具有周期性，并且膜体的一端的凹部的不足率之间的差异并且膜体的其他部分的凹部的不足率为10ppm以下。选择图：图2

7. 发明专利

JP2016059869A 粉体塗装装置、及び粉体塗装方法审中-公开
标题翻译：粉末涂料设备和粉末涂料方法
公开(公告)号：JP2016059869A
公开(公告)日：2016-04-25
申请号：JP2014189434
申请日：2014-09-17
申请人：富士ゼロックス株式会社
发明人：岡本英樹 , 野田明彦 , 渡辺洋一
IPC分类号： B05B5/025 , B05B5/047 , B05D3/00 , B05D7/24 , B05C19/04
CPC分类号： B05D1/26 , B05C11/025 , B05C19/04 , B05C9/14 , B05C19/06 , B05C9/12 , B05D1/40 , B05D2401/32 , B05D3/0254 , B05D3/06
摘要：【課題】高い生産性で、塗装膜の厚みの制御を実現する粉体塗装装置を提供すること。【解決手段】被塗装体11の被塗装面に、熱硬化性の粉体塗料12を帯電化及び流動化しつつ塗布する塗布装置20と、被塗装体11の被塗装面に塗布された粉体塗料12の粒子層の厚さを規制する規制装置30と、厚さが規制された粉体塗料12の粒子層を加熱し、熱硬化する加熱装置40と、を備える粉体塗装装置10である。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供能够以高生产率实现涂膜厚度的粉末涂布装置。解决方案：粉末涂覆装置10包括：涂覆装置20，用于将热固性粉末涂料12涂覆到表面至涂覆有涂层体11，同时使粉末涂层通电和流化; 调节装置30，用于调节涂覆在被涂覆体11的待涂覆表面上的粉末涂料12的颗粒层的厚度; 以及加热装置40，用于加热其厚度被调节的粉末涂层12的颗粒层，用于热固化。图1

8. 发明专利

JP5886935B1 塗布処理方法、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置有权
标题翻译：涂布处理方法，计算机存储介质和涂敷处理装置
公开(公告)号：JP5886935B1
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：JP2014250571
申请日：2014-12-11
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：橋本崇史 , 畠山真一 , 柴田直樹 , 吉原孝介 , 久保田稔 , 井手裕幸
IPC分类号： B05C11/08 , B05D1/40 , B05D3/00 , H01L21/027
CPC分类号： G05B15/02 , B05D1/40
摘要：【課題】基板上に塗布液を塗布する際に、塗布液の供給量を少量に抑えつつ、基板面内で均一に塗布液を塗布する。【解決手段】ウェハ上に塗布液を塗布する方法であって、ウェハ上に塗布液の溶剤を供給して、当該ウェハの外周部に溶剤の液膜を環状に形成し、ウェハを第1の回転速度で回転させながら塗布液をウェハの中心部に供給し(時間t 1 〜t 2 )、ウェハを第1の回転速度よりも速い第2の回転速度で回転させて塗布液を基板上に拡散させる(時間t 4 〜t 5 )。溶剤の供給は、塗布液が溶剤の液膜に接触する前まで継続して行われる(時間t 0 〜t 3 ) 【選択図】図8
摘要翻译：甲在涂布液的涂布在基板上，同时抑制涂布液的供给量的量小，均匀地施加在基片平面上的涂布液的情况下。本发明涉及在施加涂料溶液到晶片上，通过提供用于涂覆溶液到晶片的溶剂的方法中，形成为环状的溶剂液膜在晶片的外周部中，晶片第一而以旋转速度旋转，以在所述晶片（时间t1至t2）的中心供给涂布液时，以扩散的涂布液以更快的第二转速比所述基板上的晶片的第一旋转速度旋转（时刻t4〜T5）。供给溶剂，（时刻t0到t3）背景技术继续，直到该涂层溶液是在与溶剂8的液体膜接触

9. 发明专利

JP5874232B2 ロールブレード塗布方法及びロールブレード塗布装置有权
标题翻译：辊式刮刀涂布法和辊刮刀涂布设备
公开(公告)号：JP5874232B2
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：JP2011169828
申请日：2011-08-03
申请人：株式会社リコー
发明人：花井修司 , 中澤聡 , 長澤信幸 , 原哲也
IPC分类号： B05C11/02 , B05D1/28
CPC分类号： B05C9/12 , B05C11/025 , B05C11/042 , B05D3/12 , D21H25/12 , B05D1/40 , B05D2252/02

10. 发明专利

JP2015519041A 懸濁された細胞成分を均質に分布させるための方法と装置有权
标题翻译：为均匀地分布悬浮细胞成分的方法和装置
公开(公告)号：JP2015519041A
公开(公告)日：2015-07-09
申请号：JP2015504759
申请日：2013-04-05
申请人：ヴェンタナメディカルシステムズ, インク. , ヴェンタナメディカルシステムズ, インク. , エフ・ホフマン−ラ・ロシュ・アクチェンゲゼルシャフト
发明人：マイケルオッター， , マイケルオッター， , トーマスフィッシャー， , トーマスフィッシャー， , シュテファーニエフローナー， , シュテファーニエフローナー， , フィリップミラー， , フィリップミラー， , マシューメッテ， , マシューメッテ，
IPC分类号： C12N11/14 , B05D1/26 , B05D7/00 , C12M1/00
CPC分类号： G01N1/31 , B05C5/02 , B05D1/40 , G01N1/2813 , G01N1/30 , G01N35/00069
摘要：表面上の液体中に懸濁された細胞成分を均質に分布させるための方法と、この方法を実施するための装置である。
摘要翻译：和用于均匀地分布在细胞悬浮成分在液体中的表面上的方法，用于执行该方法的装置。

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