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    • 1. 发明专利
    • 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
    • 加工设备,加工系统,加工方法,程序和计算机存储介质
    • JP2015018919A
    • 2015-01-29
    • JP2013144878
    • 2013-07-10
    • 東京エレクトロン株式会社Tokyo Electron Ltd
    • AKIYAMA NAOKISUGIYAMA MASAHIKOOMORI YOSUKEAKAIKE SHINJITANAKA HIDEAKI
    • H01L21/02
    • 【課題】第1の基板を保持する第1の保持部と第2の基板を保持する第2の保持部の水平方向位置を適切に調節し、基板同士の接合処理を適切に行う。【解決手段】接合装置41は、上ウェハWUと下ウェハWLを収容する処理容器100と、処理容器100に固定して設けられ、下面に上ウェハWUを保持する上チャック140と、上チャック140の下方に設けられ、上面に下ウェハWLを保持する下チャック141と、下チャック141を水平方向及び鉛直方向に移動させる第1の下チャック移動部160及び第2の下チャック移動部166と、上チャック140に設けられ、下チャック141に保持された下ウェハWLの表面を撮像する上部撮像部151と、下チャック141に設けられ、上チャック140に保持された上ウェハWUの表面を撮像する下部撮像部161と、を有する。【選択図】図11
    • 要解决的问题:适当地调整用于保持第一基板的第一保持部和用于保持第二基板的第二保持部的水平位置,并适当地进行基板的接合处理。解决方案:接合装置41包括:处理容器 100用于容纳上晶片Wand下晶片W; 上部卡盘140固定并设置在处理容器100上并将上部晶片保持在其下表面; 设置在上卡盘140下方并将下晶片保持在其上表面的下卡盘141; 第一下卡盘移动部分160和用于将下卡盘141移动到水平方向和垂直方向的第二下卡盘移动部分166; 设置在上卡盘140上并对下卡盘141上的下晶片Wheld的表面进行成像的上成像部151; 以及设置在下夹盘141上并对上卡盘140上的上晶片Wheld的表面进行成像的下成像部161。
    • 2. 发明专利
    • Bonding device and bonding position adjustment method using the same
    • 使用该方法的接合装置和接合位置调整方法
    • JP2013102117A
    • 2013-05-23
    • JP2012124522
    • 2012-05-31
    • Tokyo Electron Ltd東京エレクトロン株式会社
    • NAKAMURA ATSUICHISUGIYAMA MASAHIKOFURUYA HAJIMEAKIYAMA NAOKIOMORI YOSUKE
    • H01L21/02H01L21/68H01L21/683
    • H01L21/68H01L21/67092Y10T156/1744
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a bonding device which can obtain a high quality bonded body without displacement between a first member and a second member in the bonded body in which the first member and the second member are bonded.SOLUTION: A bonding device includes: a lower chuck 11 which holds a wafer W1 by placing it on a top face; an upper chuck 12 which is oppositely arranged above the lower chuck 11 and holds a wafer W2; and a position adjustment mechanism 20 which adjusts a bonding position of the wafer W1 held by the lower chuck 11 and the wafer W2 held by the upper chuck 12. The position adjustment mechanism 20 moves the upper chuck 12 in a horizontal direction by four cam members 21 for position adjustment arranged at even intervals along an outer peripheral face of the upper chuck 12 in a circular plate shape and rotates the upper chuck 12 on a horizontal face by pressing a rotation auxiliary member 22 provided on the outer peripheral face of the upper chuck 12 with a cam member 23 for angle adjustment to adjust a position of the wafer W2 to a position of the wafer W1.
    • 解决的问题:提供一种能够在第一部件和第二部件接合的接合体中在第一部件与第二部件之间没有位移地获得高品质接合体的接合装置。 解决方案:接合装置包括:下卡盘11,其通过将晶片W1放置在顶面上来保持晶片W1; 上卡盘12,其相对地布置在下卡盘11的上方并保持晶片W2; 以及位置调整机构20,其调节由下卡盘11保持的晶片W1和由上卡盘12保持的晶片W2的接合位置。位置调整机构20使上卡盘12沿水平方向移动四个凸轮部件 21,用于以圆板形状沿着上卡盘12的外周面以均匀间隔布置的位置调整,并且通过按压设置在上卡盘的外周面上的旋转辅助构件22将上卡盘12旋转在水平面上 12具有用于角度调节的凸轮构件23,以将晶片W2的位置调整到晶片W1的位置。 版权所有(C)2013,JPO&INPIT
    • 3. 发明专利
    • Laminating apparatus and laminating method
    • 层压装置和层压方法
    • JP2013089901A
    • 2013-05-13
    • JP2011231671
    • 2011-10-21
    • Tokyo Electron Ltd東京エレクトロン株式会社
    • AKIYAMA NAOKISUGIYAMA MASAHIKOFURUYA HAJIMENAKAMURA ATSUICHIOMORI YOSUKE
    • H01L21/02B30B5/02B30B9/00B30B12/00F16J15/10H01L21/683
    • H01L21/67092
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminating apparatus capable of obtaining a laminated body in which a first member and a second member are laminated, there is no variation in thickness between a center portion and an edge portion, and a thickness of the edge portion is uniform over the entire circumference.SOLUTION: A laminating apparatus includes: a lower chuck 10 for placing and holding a wafer W1 on a top surface thereof; an upper chuck 11 arranged opposite to the lower chuck 10 above the lower chuck 10, for holding a wafer W2; and a suction mechanism 18 for decompressing a space S formed between the lower chuck 10 and the upper chuck 11. The upper chuck 11 has edge parts 11b having rigidity, and a holding part body 11a separated from the edge parts 11b and having an outer circumference portion supported by the edge parts 11b. The holding part body 11a is composed of an elastic body so that a center portion of the holding part body 11a is bent by predetermined pressure, for example, by pressure of 0.7 atm.
    • 解决的问题:为了提供能够获得其中层叠第一构件和第二构件的层叠体的层压装置,中心部分和边缘部分之间的厚度没有变化,并且厚度 边缘部分在整个圆周上是均匀的。 解决方案:层压装置包括:用于在其顶表面上放置和保持晶片W1的下卡盘10; 与下卡盘10相对的上卡盘11,用于保持晶片W2; 以及用于对形成在下卡盘10和上卡盘11之间的空间S进行减压的抽吸机构18.上卡盘11具有刚性的边缘部分11b和与边缘部分11b分离的保持部分体11a, 由边缘部分11b支撑的部分。 保持部件主体11a由弹性体构成,使得保持部件主体11a的中心部分例如通过0.7atm的压力被预定压力弯曲。 版权所有(C)2013,JPO&INPIT
    • 4. 发明专利
    • 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
    • 加工设备,加工系统,加工方法,程序和计算机存储介质
    • JP2015018926A
    • 2015-01-29
    • JP2013144982
    • 2013-07-10
    • 東京エレクトロン株式会社Tokyo Electron Ltd
    • AKIYAMA NAOKISUGIYAMA MASAHIKOOMORI YOSUKE
    • H01L21/02B23K20/00
    • 【課題】第1の基板と第2の基板の間にボイドが発生することを抑制し、基板同士の接合処理を適切に行う。【解決手段】接合装置41は、上ウェハWUと下ウェハWLを収容して接合するための処理容器100と、下面に上ウェハWUを保持する上チャック140と、上チャック140の下方に設けられ、上面に上ウェハWUを保持する下チャック141と、下チャック141を水平方向及び鉛直方向に移動させる第1の下チャック移動部160及び第2の下チャック移動部166と、を有する。処理容器100は、処理容器10内に空気を導入する給気口105と、処理容器100内から空気を排気する排気口103と、給気口105から排気口103に向かって空気の流れを形成する送風ユニット106を備えている。【選択図】図5
    • 要解决的问题:为了抑制第一基板和第二基板之间的空隙的产生,并且适当地进行基板的接合处理。解决方案:接合装置41包括:处理容器100,用于容纳和接合上晶片和下 晶圆W; 用于将上晶片保持其下表面的上卡盘140; 设置在上卡盘140下方并保持下晶片的下卡盘141的上表面; 以及用于将下卡盘141移动到水平方向和垂直方向的第一下卡盘移动部分160和第二下卡盘移动部分166。 处理容器100包括:空气入口105,用于将空气引导到处理容器100中; 用于从处理容器100排出空气的排气口103; 以及用于形成从空气入口105到空气出口103的空气流的鼓风机单元106。
    • 5. 发明专利
    • Adhering device and adhering method
    • 附加装置和附着方法
    • JP2012099531A
    • 2012-05-24
    • JP2010243516
    • 2010-10-29
    • Tokyo Electron Ltd東京エレクトロン株式会社
    • AKIYAMA NAOKISUGIYAMA MASAHIKOOMORI YOSUKE
    • H01L21/02H01L21/683
    • H01L21/67092
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a void between two members when the two members are adhered to each other.SOLUTION: An adhering device 1 has a lower chuck and an upper chuck for holding a wafer. The upper chuck is constituted so that its center part is flexed when it is pressurized at a predetermined pressure. A heat insulation ring 13 supporting an outer periphery of the lower chuck is provided on a lower surface of the lower chuck. The heat insulation ring 13 is formed by assembling a plurality of heat insulation members 30. The lower surface of the heat insulation ring 13 is supported by a support ring 14 formed by assembling a plurality of support members 31. The support members 31 and the lower chuck are fixed with bolts 40, each one of which is provided respectively for each of the support members 31. The bolts 40 penetrate through through-holes 30a, 31a formed on the heat insulation member 30 and the support members 31. Diameters of the through-holes 30a, 31a are larger than that of the bolt 40.
    • 要解决的问题:为了防止当两个构件彼此粘附时两个构件之间的空隙。 解决方案:粘合装置1具有用于保持晶片的下卡盘和上卡盘。 上卡盘的构造使得当其以预定压力被加压时,其中心部分弯曲。 在下卡盘的下表面上设置有支撑下卡盘的外周的隔热环13。 绝热环13通过组装多个绝热构件30而形成。隔热环13的下表面由通过组装多个支撑构件31形成的支撑环14支撑。支撑构件31和下部 卡盘通过螺栓40固定,螺栓40分别为每个支撑构件31设置。螺栓40穿过形成在绝热构件30上的通孔30a,31a和支撑构件31.直通孔 孔30a,31a大于螺栓40的厚度。版权所有:(C)2012,JPO&INPIT
    • 8. 发明专利
    • Pressing adapter
    • 压力适配器
    • JP2012089623A
    • 2012-05-10
    • JP2010233870
    • 2010-10-18
    • Tokyo Electron Ltd東京エレクトロン株式会社
    • AKIYAMA NAOKISUGIYAMA MASAHIKO
    • H01L21/02
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pressing adapter capable of pressing a substrate with a load having in-plane uniformity by using a pressing member whose diameter is larger than the substrate.SOLUTION: A pressing adapter 1 comprises: a lower adapter 85, having a roughly frustoconical shape and a diameter identical to that of a stacked wafers W; and an upper adapter 84, having a roughly disc-like shape and a diameter larger than that of the stacked wafers W. The lower adapter 85 and the upper adapter 84 are concentrically arranged in a plan view and are integrally formed. The diameter of the upper bottom of the lower adapter 85 is formed smaller than that of the upper adapter 84.
    • 要解决的问题:提供一种能够通过使用其直径大于基板的按压部件,通过具有面内均匀性的负载来按压基板的按压适配器。 压力适配器1包括:下部适配器85,具有大致截头圆锥形状并且具有与堆叠的晶片W T“相同的直径。 以及上部适配器84,其具有大致圆盘状并且直径大于堆叠晶片W T 的直径。 下适配器85和上适配器84以平面图同心地布置并且一体地形成。 下部适配器85的上部底部的直径形成为小于上部适配器84的直径。版权所有(C)2012,JPO&INPIT