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1. 发明专利

JP2014191862A Charged particle beam device and observation image forming part 有权
标题翻译：充电颗粒光束装置和观察图像形成部分
公开(公告)号：JP2014191862A
公开(公告)日：2014-10-06
申请号：JP2013063218
申请日：2013-03-26
申请人： Hitachi High-Tech Science Corp , 株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人： KOSAKAI TOMOKAZU , ARAMAKI BUNRO , MATSUDA OSAMU
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/22
CPC分类号： G01N23/2251 , H01J37/265 , H01J37/28
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a focused ion beam device 100 capable of forming an accurate observation image even when a relative position between an ion beam barrel 10 and a sample 2 is fluctuated.SOLUTION: A charged particle beam device includes a laser interferometer 50 which detects a relative position between an ion beam barrel 10 and a sample 2. An image forming part 31 includes: an irradiation position specification part which specifies the irradiation position of ion beams based on the detected relative position between the ion beam barrel 10 and the sample 2; and a brightness setting part which sets brightness of an observation image pixel based on the specified irradiation position of the ion beams and the detected amount of secondary particles.
摘要翻译：要解决的问题：提供即使当离子束筒10和样品2之间的相对位置波动时也能够形成精确观察图像的聚焦离子束装置100.解决方案：带电粒子束装置包括激光干涉仪50 其检测离子束筒10和样品2之间的相对位置。图像形成部31包括：照射位置指定部，其根据检测到的离子束镜筒10与样品2的相对位置来指定离子束的照射位置样品2; 以及亮度设定部，其基于所述离子束的规定的照射位置和检测到的二次粒子的量，设定观察像素的亮度。

2. 发明专利

JP2013200991A Method of manufacturing emitter 有权
标题翻译：制造发动机的方法
公开(公告)号：JP2013200991A
公开(公告)日：2013-10-03
申请号：JP2012068032
申请日：2012-03-23
申请人： Hitachi High-Tech Science Corp , 株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人： SUGIYAMA YASUHIKO , AIDA KAZUO , ARAMAKI BUNRO , KOSAKAI TOMOKAZU , MATSUDA OSAMU , YASAKA KOJIN
IPC分类号： H01J9/02 , H01J27/26
CPC分类号： H01J27/02 , H01J1/15 , H01J1/3044 , H01J9/02 , H01J9/025 , H01J9/04 , H01J37/08 , H01J37/26 , H01J37/3056 , H01J2237/3174 , H01J2237/31749
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an emitter that can have a crystal structure at its topmost end put back into the original state with good reproducibility by re-arraying of atoms by treatment, can suppress a rise in lead voltage after retreatment, and can be used for a long period.SOLUTION: There is provided a method of manufacturing an emitter that includes: an electrolytic polishing step S10 of electrolytically polishing a tip portion of an emitter raw material so that the diameter gradually decreases toward the tip; a first etching step S20 of forming a pyramidal pointed portion having a tip as a peak by performing etching processing by irradiating a processed portion of the emitter raw material with a charge particle beam; a second etching step S30 of making the tip more pointed through electric field induction gas etching processing while observing the crystal structure atop of the pointed portion through an electric field ion microscope, and making the number of atoms constituting the topmost end constant or less; and a heating step S40 of heating the emitter raw material to array the atoms constituting the topmost end of the pointed portion in a pyramidal state.
摘要翻译：要解决的问题：为了通过处理将原子重新排列，能够使其最上端的晶体结构具有良好的再现性的发光体，能够抑制再次处理后的铅电压上升，并且可以提供了一种制造发射体的方法，其包括：电解抛光步骤S10，其对发射体原料的末端部分进行电解抛光，使得直径朝着尖端逐渐减小; 第一蚀刻步骤S20，通过用电荷粒子束照射发射体原料的处理部分进行蚀刻处理，形成具有尖端的金字塔形尖端部分作为峰值; 第二蚀刻步骤S30，通过电场离子显微镜观察尖锐部分顶部的晶体结构，并使构成最顶端的原子数恒定或更小，使尖端更尖锐地通过电场感应气体蚀刻处理; 以及加热步骤S40，其加热发射体原料以排列构成尖状部分的最顶端的原子为锥形状态。

3. 发明专利

JP2013089534A Focused ion beam device 有权
标题翻译：聚焦离子束装置
公开(公告)号：JP2013089534A
公开(公告)日：2013-05-13
申请号：JP2011230769
申请日：2011-10-20
申请人： Hitachi High-Tech Science Corp , 株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人： YASAKA KOJIN , ARAMAKI BUNRO , SUGIYAMA YASUHIKO , KOSAKAI TOMOKAZU , MATSUDA OSAMU
IPC分类号： H01J27/26 , H01J37/08 , H01J37/317
CPC分类号： H01J27/024 , H01J27/26 , H01J37/08 , H01J37/3056 , H01J2237/0807 , H01J2237/182
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a focused ion beam device which efficiently carries out fine patterning with less damage to a sample by using a gas field ionization ion source.SOLUTION: A focused ion beam device includes a gas field ionization ion source having: an emitter 41 for emitting an ion beam 1; an ion source chamber 40 for housing the emitter 41; a gas supply part 46 for supplying nitrogen to the ion source chamber 40; an extraction electrode 49 for applying an extraction voltage to ionize and extract nitrogen ions; and a temperature control part 34 for cooling the emitter 41.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种聚焦离子束装置，其通过使用气体电离离子源有效地进行精细图案化，对样品的损伤较小。解决方案：聚焦离子束装置包括气体离子源，其具有：用于发射离子束1的发射极41; 用于容纳发射器41的离子源室40; 用于向离子源室40供给氮的气体供给部46; 用于施加提取电压以离子化并提取氮离子的提取电极49; 以及用于冷却发射器41的温度控制部34.版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2015057764A イリジウムティップ、ガス電界電離イオン源、集束イオンビーム装置、電子源、電子顕微鏡、電子ビーム応用分析装置、イオン電子複合ビーム装置、走査プローブ顕微鏡、およびマスク修正装置有权
标题翻译： IRIDIUM TIP，气体源离子源，聚焦离子束装置，电子源，电子显微镜，电子束应用分析仪，离子电子束复合装置，扫描探针显微镜和掩模校正装置
公开(公告)号：JP2015057764A
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：JP2014146186
申请日：2014-07-16
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス , Hitachi High-Tech Science Corp
发明人： KOSAKAI TOMOKAZU , MATSUDA OSAMU , SUGIYAMA YASUHIKO , AIDA KAZUO , ARAMAKI BUNRO , YASAKA KOJIN , OBA HIROSHI
IPC分类号： H01J27/26 , G01Q70/14 , G03F1/74 , H01J37/073 , H01J37/08 , H01J37/252 , H01J37/26 , H01J37/317
CPC分类号： H01J1/3044 , G01Q60/10 , G01Q60/16 , G01Q60/24 , G01Q70/08 , G01Q70/16 , H01J1/3048 , H01J37/073 , H01J37/08 , H01J37/21 , H01J37/28 , H01J37/3002 , H01J2201/30415 , H01J2201/30496 , H01J2237/002 , H01J2237/006
摘要：【課題】イリジウムティップの先端部に形成される先端が1個の原子の角錐構造を、位置的に再現性よく作製できるようにし、不純物が付着し難くするとともに、先端の1個の原子を長期間に亘って保持可能とする。【解決手段】イリジウムティップは、先鋭化された方位の単結晶の先端部に、1つの{100}結晶面および2つの{111}結晶面により取り囲まれた{210}結晶面の1個のイリジウム原子のみにより形成された先端を有する角錐構造を備える。角錐構造の先端を形成する1個のイリジウム原子を第1層とし、第1層の直下の第2層は三角形の頂点に位置する3個のイリジウム原子を備え、第2層の直下の第3層は三角形の頂点および辺に位置する6個のイリジウム原子を備える。【選択図】図5
摘要翻译：要解决的问题：为了提供具有在尖端处具有单个原子的铱尖端的金字塔结构，其可以以高位置重复性产生，并且允许尖端处的单个原子能够长时间保持的时间，同时防止杂质粘附。解决方案：铱尖具有锥形结构，其具有<210>方向的单晶尖端部分。尖端由{210}晶面的单个铱原子组成，其被一个{100}晶面和两个{111}晶面包围。在第一层上，单个铱原子被定位成形成金字塔结构的尖端。在第一层正下方的第二层上，三个铱原子被定位成形成三角形的顶点。在第二层正下方的第三层上，六个铱原子位于三角形的顶点和侧面。

5. 发明专利

JP2014191982A Focused ion beam apparatus and control method of the same 有权
标题翻译：聚焦离子束装置及其控制方法
公开(公告)号：JP2014191982A
公开(公告)日：2014-10-06
申请号：JP2013066221
申请日：2013-03-27
申请人： Hitachi High-Tech Science Corp , 株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人： ARAMAKI BUNRO , SUGIYAMA YASUHIKO , OBA HIROSHI
IPC分类号： H01J27/26 , H01J37/08
CPC分类号： H01J37/08 , H01J2237/002 , H01J2237/0807
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a focused ion beam apparatus capable of switching ion species in a short period of time without retaining a gas before replacement in an ion source chamber, and to provide a control method of the same.SOLUTION: A control method of a focused ion beam apparatus comprises at least one of a controlling operation of a cooling apparatus 42 to maintain a temperature of a wall contacting a material gas in an ion source chamber 40 higher than a temperature at which the material gas freezes, and a controlling operation of a heater 45 to temporarily heat up an emitter 41.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够在短时间内切换离子种类而不在离子源室内更换之前保留气体的聚焦离子束装置，并提供其控制方法。解决方案：控制方法聚焦离子束装置包括冷却装置42的控制操作中的至少一个，以保持与离子源室40中的材料气体接触的温度高于材料气体冻结的温度的温度，以及控制操作加热器45以临时加热发射器41。

6. 发明专利

JP2014186943A Focused ion beam system 有权
标题翻译：聚焦离子束设备
公开(公告)号：JP2014186943A
公开(公告)日：2014-10-02
申请号：JP2013062460
申请日：2013-03-25
申请人： Hitachi High-Tech Science Corp , 株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人： MATSUDA OSAMU , YASAKA KOJIN , ARAMAKI BUNRO
IPC分类号： H01J37/317
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a focused ion beam apparatus which enables the shortening of a down time for replacement of an emitter and the increase in operation rate.SOLUTION: A focused ion beam apparatus comprises: an ion source room 10 in which an emitter 11 capable of emitting an ion beam is provided; a focused ion beam barrel 20 for focusing and directing the ion beam emitted by the ion source room 10; a preliminary chamber 30 whose inside communicates to inside the focused ion beam barrel 20 through a first communicating hole 21; a pump 35 for the preliminary chamber for evacuating the preliminary chamber 30 to create a vacuum; an on-off valve 40 for opening and closing the first communicating hole 21; and a transport device 45 for transporting the ion source room 10 to inside the focused ion beam barrel 20 and the preliminary chamber 30 through the first communicating hole 21.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种聚焦离子束装置，其能够缩短用于更换发射器的停机时间和提高操作速率。解决方案：聚焦离子束装置包括：离子源室10，其中发射极 11，能够发射离子束; 用于聚焦和引导由离子源室10发射的离子束的聚焦离子束镜筒20; 其内部通过第一连通孔21与聚焦离子束筒20内部通信的预备室30; 用于预备室的泵35，用于抽空预备室30以产生真空; 用于打开和关闭第一连通孔21的开关阀40; 以及用于通过第一连通孔21将离子源室10输送到聚焦离子束筒20和预备室30内部的输送装置45。

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