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2. 发明专利

JP6168664B2 偏光制御素子、近接場光源、および並列電子線装置有权
公开(公告)号：JP6168664B2
公开(公告)日：2017-07-26
申请号：JP2014522693
申请日：2013-06-27
申请人：国立大学法人東京農工大学
发明人：岩見健太郎 , 梅田倫弘
IPC分类号： H01J37/06 , G02B5/30
CPC分类号： G02B27/286 , H01J37/073 , H01J2237/06333 , H01J2237/0635

3. 发明专利

JP2016119140A 電子ビーム発生装置、電子ビーム照射装置、電子ビーム露光装置、および製造方法审中-公开
标题翻译：电子束发生器，电子束辐射装置，电子束曝光装置和制造方法
公开(公告)号：JP2016119140A
公开(公告)日：2016-06-30
申请号：JP2013041844
申请日：2013-03-04
申请人：国立大学法人東北大学
发明人：西野仁 , 吉田慎哉 , 江刺正喜
IPC分类号： H01J37/305 , H01L21/027 , G03F7/20 , H01J37/073
CPC分类号： H01J37/073 , H01J37/3177 , H01J2237/062 , H01J2237/06341 , H01J2237/06375 , H01J2237/31786
摘要：【課題】電子ビーム露光装置のスループットを向上させる並列度を高め、簡便に形成できる電子ビーム発生装置。【解決手段】それぞれが凹面を有する複数の凹部が設けられた基板と、複数の凹部に設けられ、電子を放出する複数の電子放出部と、複数の電子放出部のそれぞれに対応して設けられ、対応する電子放出部が放出した電子を加速して電子放出部が設けられた凹部から電子ビームとしてそれぞれ出力する複数の第1電極部と、複数の第1電極部および基板の間において複数の凹部に対応する位置に設けられ、絶縁材料で形成される障壁部とを備える電子ビーム発生装置、電子ビーム照射装置、電子ビーム露光装置を提供する。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供能够提高并联性的电子束发生器，其提高电子束曝光装置的生产量，并且简单地形成。电子束发生器包括：基板，其设置有分别具有凹陷部表面; 电子发射部分设置在凹陷部分中并被配置为发射电子; 对应于各个电子发射部分设置的第一电极部分加速从相应的电子发射部分发射的电子，并从分别设置有电子发射部分的凹陷部分输出电子作为电子束; 以及设置在位于第一电极部分和基板之间并对应于凹陷部分并由绝缘材料形成的位置处的阻挡部分。上述目的通过电子束发生器，电子束辐射装置和电子束曝光装置来实现。图3：

4. 发明专利

JP2016105428A 電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム照射装置、調整方法、および電子ビーム露光装置审中-公开
标题翻译：电子束辐射装置，多电子束辐射装置，调整方法和电子束曝光装置
公开(公告)号：JP2016105428A
公开(公告)日：2016-06-09
申请号：JP2013047066
申请日：2013-03-08
申请人：株式会社クレステック
发明人：小島明
IPC分类号： H01J37/305 , H01J37/153 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/153 , H01J37/073 , H01J37/305 , H01J37/3177 , H01J2237/06375 , H01J2237/065 , H01J2237/1205 , H01J2237/1534 , H01J2237/31781
摘要：【課題】面電子ビーム源からの電子ビームが描画する像の像面湾曲を低減し、かつ、歪曲収差を補正する。【解決手段】複数の電子ビーム発生源が配列された面電子ビーム源と、複数の電子ビーム発生源のそれぞれに対応してそれぞれ設けられた複数のコンデンサレンズを有するコンデンサレンズアレイと、複数の電子ビーム発生源からの複数の電子ビームがコンデンサレンズアレイを介して入射され、複数の電子ビームによる像を縮小する電子レンズと、を備え、複数の電子ビーム発生源のうち、中心から遠い第1電子ビーム発生源は中心から近い第2電子ビーム発生源と比較して高いエネルギーで電子を放出し、複数のコンデンサレンズのうち、第1電子ビーム発生源に対応する第1コンデンサレンズは、第2電子ビーム発生源に対応する第2コンデンサレンズと比較して焦点距離を長くする電子ビーム照射装置を提供する。【選択図】図6
摘要翻译：要解决的问题：减少由电子束从表面电子束源引起的图像的场曲率，并校正失真像差。电子束照射装置包括：表面电子束源，其中多个电子光束发生源排列; 一个电容透镜阵列，包括多个电容透镜，它们被设置为对应于多个电子束产生源; 以及电子透镜，多个电子束产生源的多个电子束经由电容透镜阵列入射到该电子透镜上，并且减小了由多个电子束形成的图像的尺寸。在多个电子束产生源中，距离中心更远的第一电子束发生源相对于靠近中心的第二电子束产生源发射具有较高能量的电子。在多个电容透镜中，对应于第一电子束产生源的第一电容透镜相对于与第二电子束产生源对应的第二电容透镜相比焦距更长。图6

5. 发明专利

JPWO2014003146A1 偏光制御素子、近接場光源、および並列電子線装置有权
标题翻译：偏振控制元件，所述近场光，并且平行电子束装置
公开(公告)号：JPWO2014003146A1
公开(公告)日：2016-06-02
申请号：JP2014522693
申请日：2013-06-27
申请人：国立大学法人東京農工大学
发明人：健太郎岩見 , 健太郎岩見 , 梅田　倫弘 , 倫弘梅田
IPC分类号： G02B5/30 , H01J37/06
CPC分类号： G02B27/286 , H01J37/073 , H01J2237/06333 , H01J2237/0635
摘要：直線偏光を軸対称偏光に変換する偏光制御素子(10)を、透光性を有する基板(20)と、基板(20)上の放射状に分割された複数の分割領域の各々に設けられた、前記複数の分割領域ごとに方向を異ならせ、かつ間にスリット(24)を有するように延伸されるとともに、前記複数の分割領域の1つの延伸方向を基準とした場合に、隣接する分割領域の延伸方向の前記基準の延伸方向とのなす角度が、周方向に増加、または減少する方向とされている複数の金属(22)を含んで構成された複数の波長板(12a、12b、12c、12d)を含む偏光変換部とを備えて構成した。
摘要翻译：该线性偏振光转换成轴对称偏振具有偏光控制元件（10），一基板（20）的光布置于每个所述多个分割区域的基板（20）上径向分开的，与用于所述多个划分的区域中的不同方向，并同时被拉伸，以具有相对于所述一个拉伸多个分割区域的方向上的情况之间的狭缝（24），分割相邻区域在拉伸方向上的参考的拉伸方向之间的角度，在圆周方向的增加，或减少更多波片被配置为包括多个金属的是一个方向（22）至（12A，12B，12C，通过偏振转换段包括12D）构成。

6. 发明专利

JP5855294B1 イオンポンプおよびそれを用いた荷電粒子線装置有权
标题翻译：离子泵和使用相同的带电粒子束装置
公开(公告)号：JP5855294B1
公开(公告)日：2016-02-09
申请号：JP2015022126
申请日：2015-02-06
申请人：株式会社日立製作所
发明人：糟谷圭吾 , 川▲崎▼ 猛 , 大嶋卓 , 片桐創一
IPC分类号： H01J37/18 , H01J41/12
CPC分类号： H01J37/18 , H01J37/073 , H01J37/14 , H01J41/12 , H01J2237/063 , H01J2237/1825
摘要：【課題】超高真空下にてスパッタリング箇所が局所化されることを防ぎ、高い排気速度で排気を行うイオンポンプを提供する。【解決手段】2枚の平板陰極2と、平板陰極2に対して開口を向けた筒形状の陽極1と、陽極1に対して平板陰極2の電位よりも高い電位を与える電圧印加部と、陽極1の筒形状の軸方向に沿って磁界を与える磁場印加部と、陽極1の内側に配置された陰極棒3とを備え、陰極棒3の表面は、非蒸発ゲッター合金膜を陽極1または平板陰極2に形成する材料で構成される。【選択図】図1
摘要翻译：防止超高真空下的溅射地方被局部化，以提供离子泵在较高的抽速撤离。和A两个扁平阴极2，用其对扁平阴极2开口圆筒状的阳极1，电压施加单元，其提供了比扁平阴极2的电势高的电势相对于负极1，并且沿着圆柱形阳极1的轴向方向上施加磁场的磁场施加单元，阴极杆3设置在阳极1的内部，阴极杆3的表面，非蒸发吸气合金膜阳极1或由形成一个扁平阴极2的材料制成。点域1

7. 发明专利

JP5843909B2 電子銃装置、ウェーハ画像化システム、及び電子銃装置のエクストラクタ電極の少なくとも1つの表面をクリーニングする方法有权
标题翻译：该电子枪装置的抽吸式清洗的电子枪装置中，晶片成像系统的至少一个表面的方法，和电极
公开(公告)号：JP5843909B2
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：JP2014049959
申请日：2014-03-13
申请人：アイシーティーインテグレーテッドサーキットテスティングゲゼルシャフトフィーアハルプライタープリーフテヒニックエムベーハー
发明人：パヴェルアダメック
IPC分类号： H01J37/073
CPC分类号： H01J37/063 , H01J3/027 , H01J37/073 , H01J2237/022

8. 发明专利

JP5736003B2 ウェハを吸着保持する静電チャック有权
标题翻译：的静电卡盘用于吸引和保持晶片
公开(公告)号：JP5736003B2
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：JP2013101200
申请日：2013-05-13
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：中筋護 , 野路伸治 , 佐竹徹 , 金馬利文 , 曽布川拓司 , 狩俣努 , 大和田伸 , 吉川省二 , 西藤睦
IPC分类号： H01L21/66 , G01N23/223 , H01L21/683
CPC分类号： G01N23/225 , H01J37/06 , H01J37/073 , H01J37/185 , H01J37/20 , H01J37/222 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/082 , H01J2237/202 , H01J2237/20228 , H01J2237/204 , H01J2237/22 , H01J2237/24564 , H01J2237/2806 , H01J2237/2816 , H01J2237/2817

9. 发明专利

JP2014216182A 電子銃、荷電粒子銃およびそれらを用いた荷電粒子線装置有权
标题翻译：电子枪，充电颗粒枪和使用它们的充电颗粒光束装置
公开(公告)号：JP2014216182A
公开(公告)日：2014-11-17
申请号：JP2013092484
申请日：2013-04-25
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , Hitachi High-Technologies Corp
发明人： IMAI YUTA , OSHIMA TAKU , MORISHITA HIDERO
IPC分类号： H01J37/073 , H01J37/06 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/073 , H01J27/02 , H01J27/26 , H01J29/481 , H01J37/06 , H01J37/063 , H01J37/08 , H01J37/145 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J2237/062 , H01J2237/06341 , H01J2237/06375 , H01J2237/0802 , H01J2237/1508 , H01J2237/2007 , H01J2237/2801
摘要：【課題】本開示では、静電レンズのみを用いた比較的小型な、収差の少ない荷電粒子銃を提供し、大電流においても高輝度の電界放出型荷電粒子銃を提供することを目的とする。【解決手段】荷電粒子銃は、荷電粒子源と、荷電粒子源から放出される荷電粒子を加速させる加速電極と、加速電極よりも荷電粒子源側に配置され、加速電極の開口径よりも大きい開口径を有する制御電極と、加速電極に印加された電位に基づき、制御電極に印加される電位を制御する制御部と、を有する。【選択図】図16
摘要翻译：要解决的问题：提供一种仅使用静电透镜并且减小像差的带电粒子枪，并提供即使具有大电流的高亮度的场致发射型带电粒子枪。解决方案：带电粒子枪包括：带电粒子源; 用于加速从带电粒子源发射的带电粒子的加速电极; 设置在带电粒子源侧而不是加速电极的控制电极，其开口直径大于加速电极的开口直径; 以及控制部，其基于施加在加速电极上的电位来控制施加在控制电极上的电位。

10. 发明专利

JP5551830B2 Particle source and a method of manufacturing the same 有权
公开(公告)号：JP5551830B2
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：JP2013514548
申请日：2012-05-04
申请人：中國電子科技集團公司第三十八研究所
发明人：華榮劉 , 娉陳
IPC分类号： H01J27/26 , H01J37/08
CPC分类号： H01J37/04 , B82Y40/00 , H01J9/02 , H01J9/025 , H01J27/26 , H01J37/073 , H01J37/08 , H01J2237/06341 , H01J2237/0807 , H01J2237/2623 , H01L21/31116

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