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1. 发明专利

JP2015092171A 熱分析装置审中-公开
公开(公告)号：JP2015092171A
公开(公告)日：2015-05-14
申请号：JP2014254067
申请日：2014-12-16
申请人： HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP
发明人： YAMADA KENTARO , NISHIMURA SHINYA , FUJIWARA HIROTO
IPC分类号： G01N25/00 , G01N25/20
摘要：【課題】複雑な制御や構成等を必要とせず、熱分析装置の加熱炉周囲の温度環境の変化の影響を排除して、高いベースライン再現性をもった測定が行えるようにし、測定精度の向上ができる熱分析装置を提供する。【解決手段】少なくとも二層以上の密閉された層構造であって外界と隔離するように加熱炉周囲を覆う複層構造体を備える。また、その層間は、加熱炉内に存在する気体と同等の熱容量をもつ物質で満たす。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2015057764A イリジウムティップ、ガス電界電離イオン源、集束イオンビーム装置、電子源、電子顕微鏡、電子ビーム応用分析装置、イオン電子複合ビーム装置、走査プローブ顕微鏡、およびマスク修正装置有权
标题翻译： IRIDIUM TIP，气体源离子源，聚焦离子束装置，电子源，电子显微镜，电子束应用分析仪，离子电子束复合装置，扫描探针显微镜和掩模校正装置
公开(公告)号：JP2015057764A
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：JP2014146186
申请日：2014-07-16
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス , Hitachi High-Tech Science Corp
发明人： KOSAKAI TOMOKAZU , MATSUDA OSAMU , SUGIYAMA YASUHIKO , AIDA KAZUO , ARAMAKI BUNRO , YASAKA KOJIN , OBA HIROSHI
IPC分类号： H01J27/26 , G01Q70/14 , G03F1/74 , H01J37/073 , H01J37/08 , H01J37/252 , H01J37/26 , H01J37/317
CPC分类号： H01J1/3044 , G01Q60/10 , G01Q60/16 , G01Q60/24 , G01Q70/08 , G01Q70/16 , H01J1/3048 , H01J37/073 , H01J37/08 , H01J37/21 , H01J37/28 , H01J37/3002 , H01J2201/30415 , H01J2201/30496 , H01J2237/002 , H01J2237/006
摘要：【課題】イリジウムティップの先端部に形成される先端が1個の原子の角錐構造を、位置的に再現性よく作製できるようにし、不純物が付着し難くするとともに、先端の1個の原子を長期間に亘って保持可能とする。【解決手段】イリジウムティップは、先鋭化された方位の単結晶の先端部に、1つの{100}結晶面および2つの{111}結晶面により取り囲まれた{210}結晶面の1個のイリジウム原子のみにより形成された先端を有する角錐構造を備える。角錐構造の先端を形成する1個のイリジウム原子を第1層とし、第1層の直下の第2層は三角形の頂点に位置する3個のイリジウム原子を備え、第2層の直下の第3層は三角形の頂点および辺に位置する6個のイリジウム原子を備える。【選択図】図5
摘要翻译：要解决的问题：为了提供具有在尖端处具有单个原子的铱尖端的金字塔结构，其可以以高位置重复性产生，并且允许尖端处的单个原子能够长时间保持的时间，同时防止杂质粘附。解决方案：铱尖具有锥形结构，其具有<210>方向的单晶尖端部分。尖端由{210}晶面的单个铱原子组成，其被一个{100}晶面和两个{111}晶面包围。在第一层上，单个铱原子被定位成形成金字塔结构的尖端。在第一层正下方的第二层上，三个铱原子被定位成形成三角形的顶点。在第二层正下方的第三层上，六个铱原子位于三角形的顶点和侧面。

3. 发明专利

JP2015050126A 断面加工観察方法、断面加工観察装置有权
标题翻译：交叉处理观测方法，交叉处理观测装置
公开(公告)号：JP2015050126A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：JP2013182586
申请日：2013-09-03
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス , Hitachi High-Tech Science Corp
发明人： MITSU KIN , ASAHATA TATSUYA , UEMOTO ATSUSHI
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/28 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/222 , G01N1/32 , G01N23/20091 , G01N23/2202 , G01N23/2251 , G01N2223/418 , H01J37/28 , H01J37/292 , H01J37/3053 , H01J37/3056 , H01J2237/2811 , H01J2237/31749
摘要：【課題】微小な観察対象の複数の断面像を高分解能に、かつ短時間で得ることが可能な断面加工観察方法、断面加工観察装置を提供する。【解決手段】予め設定した特定観察対象物を検出すると、断面露出工程の条件および断面像取得工程の条件を、それぞれ更新する。例えば、スライス加工のスライス間隔を狭める。また、特定観察対象物を含む微小領域を設定して、断面全体とこの微小領域だけ高倍率で観察をそれぞれ行う。これによって、特定観察対象物を含む高精度な三次元像を短時間に構築することが可能になる。【選択図】図10
摘要翻译：要解决的问题：提供能够在短时间内以高分辨率获得显微观察对象的多个横截面图像的截面处理观察方法和横截面处理观察装置。解决方案：当检测到预设的具体观察对象，横截面曝光步骤的条件和截面图像获取步骤的条件分别被更新。例如，切片的切片间隔变窄。此外，设置包括特定观察对象的微区域，并且仅分别以高放大率观察整个横截面和微区域。因此，可以在短时间内构建包括特定观察对象的高精度三维图像。

4. 发明专利

JP2014222674A 電子顕微鏡有权
标题翻译：电子显微镜
公开(公告)号：JP2014222674A
公开(公告)日：2014-11-27
申请号：JP2014157876
申请日：2014-08-01
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス , Hitachi High-Tech Science Corp
发明人： KADA MASAKATSU , UEMOTO ATSUSHI , FUJII TOSHIAKI , TASHIRO JUNICHI
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/317
摘要：【課題】試料内部の結晶方位情報を容易に取得可能にすることを図る。【解決手段】試料11に電子ビーム1aを照射するための電子ビーム鏡筒1と、試料11を支持する試料台3と、試料11から放出される後方散乱電子を検出するための散乱電子検出器6と、試料11に集束イオンビーム2bを照射するための集束イオンビーム鏡筒2とを有する電子顕微鏡を提供する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：容易获得样品内部的晶体取向信息。解决方案：电子显微镜包括：用于用电子束1a照射样品11的电子束透镜镜筒1; 用于支撑样品11的样品台3; 用于检测从样品11排出的反向散射电子的散射电子检测器6; 以及聚焦离子束透镜镜筒2，用于用聚焦离子束2b照射样品11。

5. 发明专利

JP2014209450A 集束イオンビーム装置、それを用いた試料の加工方法、及び集束イオンビーム加工用コンピュータプログラム有权
标题翻译：聚焦离子束装置，使用其的样品的处理方法和用于聚焦离子束处理的计算机程序
公开(公告)号：JP2014209450A
公开(公告)日：2014-11-06
申请号：JP2014048446
申请日：2014-03-12
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス , Hitachi High-Tech Science Corp
发明人： NAKATANI IKUKO , SATO MAKOTO
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/30 , H01J37/305
CPC分类号： G01N23/2258 , G01N1/32 , G01N23/2251 , H01J37/3045 , H01J37/3056 , H01J2237/31745
摘要：【課題】試料ステージを移動させて試料画像の表示範囲を超える加工領域を加工する場合であっても、加工位置ずれを補正することができる集束イオンビーム装置を提供する。【解決手段】集束イオンビーム20Aを試料2に照射して生じる二次荷電粒子に基づき、試料に形成された位置検出マークM1、M2、Mdを含む試料画像を生成する画像生成手段90Aと、試料画像を表示する表示手段91と、試料ステージ60を移動させ、表示手段の表示範囲を超える加工領域2Wに集束イオンビームを照射して加工する場合に、試料ステージの移動前の試料画像に含まれる位置検出マークのうち、移動後の試料画像に含まれる位置検出マークを基準マークM2、Mdとしてその位置を検出し、試料ステージの移動後の試料画像において検出した基準マークに基づいて集束イオンビームの照射位置を制御する制御手段90と、を有する集束イオンビーム装置100である。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：即使当通过移动样品台来处理超过样品图像的显示范围的处理区域时，提供可以校正处理位置的偏差的聚焦离子束装置。解决方案：聚焦离子束装置 100包括图像生成装置90A，用于基于通过用聚焦离子束20A照射样品2而产生的二次带电粒子，生成包括在样本上形成的位置检测标记M1，M2，Md的样本图像，显示装置91 样本图像，以及控制装置90，用于在样本台移动前的样本图像中包含的位置检测标记之外，检测包含在样本台60的移动后的样本图像中的位置检测标记的位置作为参考标记 M2，Md，通过移动样品台60并用聚焦离子束照射超过显示装置的显示范围的处理区域2W，基于在样品台移动后在样品图像中检测到的参考标记，聚焦离子束的照射位置。

6. 发明专利

JP2014192090A Focused ion beam apparatus, sample cross section observation method using the same, and computer program for sample cross section observation using focused ion beam 有权
标题翻译：聚焦离子束装置，使用其的样品横截面观测方法和使用聚焦离子束的样品交叉部分观察的计算机程序
公开(公告)号：JP2014192090A
公开(公告)日：2014-10-06
申请号：JP2013068169
申请日：2013-03-28
申请人： Hitachi High-Tech Science Corp , 株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人： UEMOTO ATSUSHI , MITSU KIN , ASAHATA TATSUYA
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/22
CPC分类号： H01J37/28 , G01N23/2255 , G01N2223/045 , H01J37/222 , H01J2237/226 , H01J2237/24585 , H01J2237/2804 , H01J2237/2806 , H01J2237/2807
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a focused ion beam apparatus capable of acquiring a region showing specific composition inside a sample in a short time.SOLUTION: A focused ion beam apparatus 100 includes: a focused ion beam irradiation mechanism 20 for forming a first cross section 2s and a plurality of second cross sections 2c1 to 2c4 in a sample 2; first image generation means 90A for generating reflection electron images or secondary electron images of the first cross section and second cross sections as first images Gs, and G1 to G4; second image generation means 90B for generating EDS images or secondary ion images of the first cross section and second cross section as second images Hs and H4; and a control unit 90 for causing the second image generation means to generate the second image of the second cross section, when the first image of the second cross section includes a region differing from a region N showing specific composition in the first image of the first cross section in the case of acquiring the first and second images of the first cross section and the first image of the second cross section.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够在短时间内获取样品内部特定组成的区域的聚焦离子束装置。解决方案：聚焦离子束装置100包括：聚焦离子束照射机构20，用于形成第一十字部分2s和样品2中的多个第二横截面2c1至2c4; 用于产生第一横截面和第二横截面的反射电子图像或二次电子图像的第一图像产生装置90A作为第一图像Gs和G1至G4; 用于产生第一横截面的EDS图像或二次离子图像的第二图像生成装置90B和第二图像Hs和H4; 以及控制单元90，用于使第二图像产生装置产生第二横截面的第二图像，当第二横截面的第一图像包括与示出第一图像的第一图像中的具体组成的区域N不同的区域时在获取第一横截面的第一和第二图像和第二横截面的第一图像的情况下的横截面。

7. 发明专利

JP2014191982A Focused ion beam apparatus and control method of the same 有权
标题翻译：聚焦离子束装置及其控制方法
公开(公告)号：JP2014191982A
公开(公告)日：2014-10-06
申请号：JP2013066221
申请日：2013-03-27
申请人： Hitachi High-Tech Science Corp , 株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人： ARAMAKI BUNRO , SUGIYAMA YASUHIKO , OBA HIROSHI
IPC分类号： H01J27/26 , H01J37/08
CPC分类号： H01J37/08 , H01J2237/002 , H01J2237/0807
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a focused ion beam apparatus capable of switching ion species in a short period of time without retaining a gas before replacement in an ion source chamber, and to provide a control method of the same.SOLUTION: A control method of a focused ion beam apparatus comprises at least one of a controlling operation of a cooling apparatus 42 to maintain a temperature of a wall contacting a material gas in an ion source chamber 40 higher than a temperature at which the material gas freezes, and a controlling operation of a heater 45 to temporarily heat up an emitter 41.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够在短时间内切换离子种类而不在离子源室内更换之前保留气体的聚焦离子束装置，并提供其控制方法。解决方案：控制方法聚焦离子束装置包括冷却装置42的控制操作中的至少一个，以保持与离子源室40中的材料气体接触的温度高于材料气体冻结的温度的温度，以及控制操作加热器45以临时加热发射器41。

8. 发明专利

JP2014190921A Fluorescent x-ray analyzer 有权
标题翻译： X射线荧光分析仪
公开(公告)号：JP2014190921A
公开(公告)日：2014-10-06
申请号：JP2013068420
申请日：2013-03-28
申请人： Hitachi High-Tech Science Corp , 株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人： NOHARA HIROAKI , MATOBA YOSHITAKE , SAKAI NORIAKI , TAKEUCHI TOSHIKIMI
IPC分类号： G01N23/223
CPC分类号： G01N23/223 , G01N2223/076
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an X-ray fluorescence analyzer capable of preventing a sample or the like from adhering to a detector without using a Mylar film.SOLUTION: An X-ray fluorescence analyzer comprises: a sample table where a sample can be placed; an X-ray source that radiates primary X-rays to the sample; a detector 4 that detects fluorescent X-rays generated from the sample irradiated with the primary X-rays and has an X-ray incident window 4a formed with a window material capable of transmitting fluorescent X-rays; and a gas blowing mechanism 5 that blows gas on the outer surface of the X-ray incident window. Preferably, the gas blowing mechanism has a mechanism for also blowing gas to the sample table.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够防止样品等粘附到检测器而不使用聚酯薄膜的X射线荧光分析仪。解决方案：X射线荧光分析仪包括：样品台，其中样品可以放置; 将X射线照射到样品的X射线源; 检测器4，其检测从用X射线照射的样品产生的荧光X射线，并具有形成有能够透射荧光X射线的窗口材料的X射线入射窗口4a; 以及在X射线入射窗的外表面吹气体的气体吹送机构5。优选地，气体吹送机构具有也将气体吹送到样品台的机构。

9. 发明专利

JP2014190791A Fluorescent x-ray analyzer 有权
标题翻译： X射线荧光分析仪
公开(公告)号：JP2014190791A
公开(公告)日：2014-10-06
申请号：JP2013065714
申请日：2013-03-27
申请人： Hitachi High-Tech Science Corp , 株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人： HIROSE RYUSUKE , TAKAHASHI HARUO , MATOBA YOSHITAKE , TAMURA KOICHI
IPC分类号： G01N23/223
CPC分类号： G01N23/223 , G01N2223/076 , G01N2223/31 , H05G1/025
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an X-ray fluorescence analyzer capable of restraining fluctuations of output intensity by a relatively simple configuration and control.SOLUTION: An X-ray fluorescence analyzer 1 comprises: an X-ray source 2 for radiating primary X-rays to a sample S; a light-gathering element 3 for gathering the primary X-rays radiated from the X-ray source 2 and reducing an area for irradiating the sample; a detector 4 for detecting fluorescent X-rays generated from the sample irradiated with the primary X-ray; and a housing 5 for accommodating the X-ray source 2 and the light-gathering element 3. The X-ray fluorescence analyzer 1 further comprises: a temperature sensor 6 mounted on at least one of the X-ray source 2 and the periphery of the X-ray source 2; at least one outside air fan 7 provided on the housing 5, and capable of changing inside air with outside air; and a control section C for driving the outside air fan 7 on the basis of temperature information detected by the temperature sensor 6 and adjusting atmospheric temperature around the X-ray source 2 to be a constant temperature.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够通过相对简单的结构和控制来抑制输出强度波动的X射线荧光分析仪。解决方案：X射线荧光分析仪1包括：X射线源2，射线到样品S; 用于聚集从X射线源2辐射的初级X射线并减少用于照射样品的区域的聚光元件3; 用于检测从所述主X射线照射的样品产生的荧光X射线的检测器4; 以及用于容纳X射线源2和聚光元件3的壳体5.X射线荧光分析仪1还包括：安装在X射线源2和周边的至少一个的温度传感器6 X射线源2; 设置在壳体5上的至少一个外部空气风扇7，能够利用外部空气改变内部空气; 以及控制部C，其根据由温度传感器6检测出的温度信息驱动外部风扇7，并将X射线源2周围的大气温度调整为恒定温度。

10. 发明专利

JP2014186943A Focused ion beam system 有权
标题翻译：聚焦离子束设备
公开(公告)号：JP2014186943A
公开(公告)日：2014-10-02
申请号：JP2013062460
申请日：2013-03-25
申请人： Hitachi High-Tech Science Corp , 株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人： MATSUDA OSAMU , YASAKA KOJIN , ARAMAKI BUNRO
IPC分类号： H01J37/317
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a focused ion beam apparatus which enables the shortening of a down time for replacement of an emitter and the increase in operation rate.SOLUTION: A focused ion beam apparatus comprises: an ion source room 10 in which an emitter 11 capable of emitting an ion beam is provided; a focused ion beam barrel 20 for focusing and directing the ion beam emitted by the ion source room 10; a preliminary chamber 30 whose inside communicates to inside the focused ion beam barrel 20 through a first communicating hole 21; a pump 35 for the preliminary chamber for evacuating the preliminary chamber 30 to create a vacuum; an on-off valve 40 for opening and closing the first communicating hole 21; and a transport device 45 for transporting the ion source room 10 to inside the focused ion beam barrel 20 and the preliminary chamber 30 through the first communicating hole 21.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种聚焦离子束装置，其能够缩短用于更换发射器的停机时间和提高操作速率。解决方案：聚焦离子束装置包括：离子源室10，其中发射极 11，能够发射离子束; 用于聚焦和引导由离子源室10发射的离子束的聚焦离子束镜筒20; 其内部通过第一连通孔21与聚焦离子束筒20内部通信的预备室30; 用于预备室的泵35，用于抽空预备室30以产生真空; 用于打开和关闭第一连通孔21的开关阀40; 以及用于通过第一连通孔21将离子源室10输送到聚焦离子束筒20和预备室30内部的输送装置45。

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