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1. 发明专利

JP6235070B2 基板処理装置および基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6235070B2
公开(公告)日：2017-11-22
申请号：JP2016100362
申请日：2016-05-19
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：今岡裕一 , 西部幸伸
IPC分类号： B08B3/02 , B05C5/00 , B05C11/10 , B05B1/04 , B05D1/26 , H01L21/304

2. 发明专利

JP2016145702A 基板処理装置有权
标题翻译：基板加工设备
公开(公告)号：JP2016145702A
公开(公告)日：2016-08-12
申请号：JP2015184630
申请日：2015-09-18
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：高原竜平 , 西部幸伸 , 磯明典 , 坂下健司 , 松田大輝
IPC分类号： F26B15/12
摘要：【課題】基板のバタツキ及び搬送ズレを抑えることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】実施形態に係る基板処理装置1は、処理室2内に搬送路Hを挟むように搬送路Hの上下に個別に設けられ、それぞれ搬送路Hに向けて気体を吹き付ける第1のエアーナイフ4a及び第2のエアーナイフ4bと、処理室2内に設けられ気体の流れを整える整流板5とを備える。第1のエアーナイフ4a及び第2のエアーナイフ4bは、それぞれ、長尺の吹出口13を有し、吹出口13の長手方向が水平面内で基板Wの搬送方向Haに対して同じ方向に傾けられ、吹出口13が基板Wの搬送方向Haの上流側に気体を吹き出すように設けられており、整流板5は、第1面5a及びその反対面である第2面5bを有し、搬送路Hの下方に位置付けられて基板Wの搬送方向Haの下流側に倒され、気体の流れを第1面5aに沿う流れと第2面5bに沿う流れにわけるように設けられている。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够抑制踢脚板的摆动和输送位移的基板处理装置。解决方案：该基板处理装置1包括：第一气刀4a和第二气刀4b，其独立地布置在鞋面和输送通道H的下部部分，以将输送通道H夹在处理室2中，并向输送通道H吹出气体; 以及设置在处理室2中的整流器5，并对气体的流动进行整流。第一气刀4a和第二气刀4b具有长边吹出孔13，吹出孔13的长度方向与水平面上的基板W的输送方向Ha相同的方向倾斜，并且吹出口13形成为朝向底板W的输送方向Ha的上游侧吹出气体。整流器5具有第一面5a和第二面5d，其相对于第一面位于输送通道H的下部，下降到基板W的输送方向Ha的下游侧，并配置成将气体流沿着第一面5a 沿着第二面5b流动。图2：

3. 发明专利

JP5917610B2 基板処理装置有权
公开(公告)号：JP5917610B2
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：JP2014129595
申请日：2014-06-24
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：手島理恵 , 磯明典 , 濱田崇広 , 坂下健司 , 西部幸伸 , 高原竜平
IPC分类号： B08B3/02 , B08B1/02

4. 发明专利

JP5693943B2 配向膜形成液の塗布装置および配向膜形成基板の製造方法有权
标题翻译：用于生产的涂布装置和取向膜形成液的取向膜形成基板的制造方法
公开(公告)号：JP5693943B2
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：JP2010285318
申请日：2010-12-22
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：西部幸伸 , 磯明典 , 梶原慎二 , 増田浩一 , 黒澤雅彦 , 加藤貴士
IPC分类号： B05D1/26 , B05C11/10 , G02F1/1337

5. 发明专利

JP2021022729A 基板搬送装置及び基板処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021022729A
公开(公告)日：2021-02-18
申请号：JP2020112018
申请日：2020-06-29
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：西部幸伸 , 亀井健吾 , 松井絵美
IPC分类号： H01L21/304 , B65G49/06 , B65G49/07 , B08B3/02 , H01L21/677
摘要：【課題】基板品質を向上させることができる基板搬送装置及び基板処理装置を提供する。【解決手段】実施形態に係る基板搬送装置である搬送部30は、反りを有する基板Wを搬送する複数の搬送ローラ31Aと、複数の搬送ローラ31Aにそれぞれ対向して離間するように設けられ、複数の搬送ローラ31Aにより搬送される基板Wを押える複数の押えローラ31Bとを備え、対向して離間する搬送ローラ31A及び押えローラ31Bは一組とされ、基板Wの搬送方向A1に沿って複数組並んでおり、組ごとの搬送ローラ31A及び押えローラ31Bの離間距離は、基板Wの搬送方向A1に沿って短くなっている。【選択図】図1

6. 发明专利

JP6370578B2 基板洗浄装置审中-公开
公开(公告)号：JP6370578B2
公开(公告)日：2018-08-08
申请号：JP2014066759
申请日：2014-03-27
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：手島理恵 , 磯明典 , 西部幸伸 , 坂下健司 , 高原竜平 , 濱田崇広
IPC分类号： B08B1/02 , H01L21/304

7. 发明专利

JP6336801B2 基板乾燥装置有权
公开(公告)号：JP6336801B2
公开(公告)日：2018-06-06
申请号：JP2014070942
申请日：2014-03-31
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：坂下健司 , 磯明典 , 西部幸伸 , 高原竜平 , 濱田崇広 , 手島理恵
IPC分类号： B08B3/02 , B08B1/04 , B08B5/02 , B08B1/02 , F26B21/00 , H01L21/304

8. 发明专利

JP2016066044A 接液処理装置、接液処理方法、基板処理装置および基板処理方法有权
标题翻译：润湿处理装置，湿处理方法，基板处理装置和基板处理方法
公开(公告)号：JP2016066044A
公开(公告)日：2016-04-28
申请号：JP2015026284
申请日：2015-02-13
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：西部幸伸 , 磯明典
IPC分类号： G02F1/13 , G02F1/1337
摘要：【課題】光配向法により得られる液晶配向膜の異方性を高め、且つ均一な液晶配向膜の形成が可能となる基板処理装置を提供する。【解決手段】実施の形態に係る接液処理装置は、搬送ローラ1によって搬送される基板Wに第1ノズルN1からエチルラクテート液を供給して液膜を形成し、この液膜が形成された状態の基板に第1のノズルN1よりも基板W搬送方向下流側に位置する第2ノズルN2からエチルラクテート液を供給する。第1ノズルN1はノズル内に気泡を除去する機構を含み、第2ノズルN2は、たとえばシャワーノズル等のノズルを用いる。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种提高通过光学取向法获得的液晶取向膜的各向异性的基板处理装置，并且能够均匀地形成液晶取向膜。溶液：润湿处理装置从第一喷嘴N1到由输送辊1输送以在基板W上形成液膜的基板W上，并且从位于基板W上的第二喷嘴N2向基板上形成有液膜的液态乳液供给到基板上在基板W的输送方向上比第一喷嘴N1更靠下游侧。第一喷嘴N1包括在喷嘴中用于去除气泡的机构。使用诸如淋浴喷嘴的喷嘴作为第二喷嘴N2。选择图：图2

9. 发明专利

JP2015191963A 基板洗浄装置及び基板洗浄方法审中-公开
标题翻译：基板清洁装置和基板清洁方法
公开(公告)号：JP2015191963A
公开(公告)日：2015-11-02
申请号：JP2014066759
申请日：2014-03-27
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：手島理恵 , 磯明典 , 西部幸伸 , 坂下健司 , 高原竜平 , 濱田崇広
IPC分类号： B08B1/02 , H01L21/304
摘要：【課題】基板を反転させることなく、下方に向けた基板の下面をそのままの姿勢で洗浄できる「基板洗浄装置及び基板洗浄方法」を提供する。【解決手段】搬送される基板15を洗浄する基板洗浄装置11であって、一方の面を下に向けた状態で搬送される基板15の姿勢を維持しつつ、他方の面を吸着させて引き寄せた基板15を搬送する基板搬送機構12と、基板搬送機構12により基板15が搬送される際に、基板15の一方の面を洗浄する洗浄機構13と、を有する構成となる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种基板清洗装置和基板清洗方法，其能够以不影响基板的姿势将其朝向下方的基板的下表面进行清扫。解决方案：基板清洗装置11，其用于清洗基板 15的基板转印机构12包括：基板转印机构12，用于转印通过吸引一个表面而被拉伸的基板15，同时保持在另一个表面向下的状态下转印的基板15的姿势; 以及清洁机构13，用于当基板15被基板转印机构12转印时，清洁基板15的表面之一。

10. 发明专利

JP6726010B2 大気圧プラズマ発生装置有权
公开(公告)号：JP6726010B2
公开(公告)日：2020-07-22
申请号：JP2016066289
申请日：2016-03-29
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：西部幸伸 , 磯明典 , 坂下健司
IPC分类号： A61L2/14 , H05H1/26

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