基本信息:
- 专利标题： 配向膜形成液の塗布装置および配向膜形成基板の製造方法
- 专利标题（英）：Method of manufacturing the coating apparatus and the alignment film forming substrate of the alignment film forming liquid
- 专利标题（中）：用于生产的涂布装置和取向膜形成液的取向膜形成基板的制造方法
- 申请号：JP2010285318 申请日：2010-12-22
- 公开(公告)号：JP5693943B2 公开(公告)日：2015-04-01
- 发明人： 西部 幸伸 , 磯 明典 , 梶原 慎二 , 増田 浩一 , 黒澤 雅彦 , 加藤 貴士
- 申请人： 芝浦メカトロニクス株式会社
- 申请人地址： 神奈川県横浜市栄区笠間2丁目5番1号
- 专利权人： 芝浦メカトロニクス株式会社
- 当前专利权人： 芝浦メカトロニクス株式会社
- 当前专利权人地址： 神奈川県横浜市栄区笠間2丁目5番1号
- 主分类号： B05D1/26
- IPC分类号： B05D1/26 ; B05C11/10 ; G02F1/1337
公开/授权文献:
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B05 | 一般喷射或雾化；对表面涂覆液体或其他流体的一般方法 |
| ----B05D | 一般对表面涂布液体或其他流体的工艺 |
| ------B05D1/00 | 涂布液体或其他流体的工艺 |
| --------B05D1/26 | .涂布的液体或其他流体从与表面接触或几乎接触的出口装置中出来 |