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1. 发明专利

JP6962683B2 基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6962683B2
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：JP2016242694
申请日：2016-12-14
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：坂下健司 , 磯明典
IPC分类号： B08B3/02 , G02F1/13

2. 发明专利

JP6370578B2 基板洗浄装置审中-公开
公开(公告)号：JP6370578B2
公开(公告)日：2018-08-08
申请号：JP2014066759
申请日：2014-03-27
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：手島理恵 , 磯明典 , 西部幸伸 , 坂下健司 , 高原竜平 , 濱田崇広
IPC分类号： B08B1/02 , H01L21/304

3. 发明专利

JP6336801B2 基板乾燥装置有权
公开(公告)号：JP6336801B2
公开(公告)日：2018-06-06
申请号：JP2014070942
申请日：2014-03-31
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：坂下健司 , 磯明典 , 西部幸伸 , 高原竜平 , 濱田崇広 , 手島理恵
IPC分类号： B08B3/02 , B08B1/04 , B08B5/02 , B08B1/02 , F26B21/00 , H01L21/304

4. 发明专利

JP6203098B2 基板処理装置及び基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6203098B2
公开(公告)日：2017-09-27
申请号：JP2014060462
申请日：2014-03-24
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：林航之介 , 大田垣崇 , 長嶋裕次 , 磯明典
IPC分类号： B08B3/02 , H01L21/306 , H01L21/027 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B3/10 , H01L21/02057 , H01L21/30604 , H01L21/6708 , H01L21/6715 , H01L21/67253 , H01L21/68714 , H01L22/12

5. 发明专利

JP2016066044A 接液処理装置、接液処理方法、基板処理装置および基板処理方法有权
标题翻译：润湿处理装置，湿处理方法，基板处理装置和基板处理方法
公开(公告)号：JP2016066044A
公开(公告)日：2016-04-28
申请号：JP2015026284
申请日：2015-02-13
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：西部幸伸 , 磯明典
IPC分类号： G02F1/13 , G02F1/1337
摘要：【課題】光配向法により得られる液晶配向膜の異方性を高め、且つ均一な液晶配向膜の形成が可能となる基板処理装置を提供する。【解決手段】実施の形態に係る接液処理装置は、搬送ローラ1によって搬送される基板Wに第1ノズルN1からエチルラクテート液を供給して液膜を形成し、この液膜が形成された状態の基板に第1のノズルN1よりも基板W搬送方向下流側に位置する第2ノズルN2からエチルラクテート液を供給する。第1ノズルN1はノズル内に気泡を除去する機構を含み、第2ノズルN2は、たとえばシャワーノズル等のノズルを用いる。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种提高通过光学取向法获得的液晶取向膜的各向异性的基板处理装置，并且能够均匀地形成液晶取向膜。溶液：润湿处理装置从第一喷嘴N1到由输送辊1输送以在基板W上形成液膜的基板W上，并且从位于基板W上的第二喷嘴N2向基板上形成有液膜的液态乳液供给到基板上在基板W的输送方向上比第一喷嘴N1更靠下游侧。第一喷嘴N1包括在喷嘴中用于去除气泡的机构。使用诸如淋浴喷嘴的喷嘴作为第二喷嘴N2。选择图：图2

6. 发明专利

JP2015191963A 基板洗浄装置及び基板洗浄方法审中-公开
标题翻译：基板清洁装置和基板清洁方法
公开(公告)号：JP2015191963A
公开(公告)日：2015-11-02
申请号：JP2014066759
申请日：2014-03-27
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：手島理恵 , 磯明典 , 西部幸伸 , 坂下健司 , 高原竜平 , 濱田崇広
IPC分类号： B08B1/02 , H01L21/304
摘要：【課題】基板を反転させることなく、下方に向けた基板の下面をそのままの姿勢で洗浄できる「基板洗浄装置及び基板洗浄方法」を提供する。【解決手段】搬送される基板15を洗浄する基板洗浄装置11であって、一方の面を下に向けた状態で搬送される基板15の姿勢を維持しつつ、他方の面を吸着させて引き寄せた基板15を搬送する基板搬送機構12と、基板搬送機構12により基板15が搬送される際に、基板15の一方の面を洗浄する洗浄機構13と、を有する構成となる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种基板清洗装置和基板清洗方法，其能够以不影响基板的姿势将其朝向下方的基板的下表面进行清扫。解决方案：基板清洗装置11，其用于清洗基板 15的基板转印机构12包括：基板转印机构12，用于转印通过吸引一个表面而被拉伸的基板15，同时保持在另一个表面向下的状态下转印的基板15的姿势; 以及清洁机构13，用于当基板15被基板转印机构12转印时，清洁基板15的表面之一。

7. 发明专利

JP6871959B2 有機膜形成装置、および有機膜の製造方法有权
公开(公告)号：JP6871959B2
公开(公告)日：2021-05-19
申请号：JP2019040265
申请日：2019-03-06
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：高橋崇史 , 磯明典
IPC分类号： H05B3/68 , B05C15/00 , B05C9/14

8. 发明专利

JP6315547B2 基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6315547B2
公开(公告)日：2018-04-25
申请号：JP2013259848
申请日：2013-12-17
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：手島理恵 , 磯明典 , 高原竜平
IPC分类号： B65G49/06 , B08B1/04 , B08B1/02 , B08B3/02 , H01L21/027 , H01L21/677

9. 发明专利

JP2017134392A 基板処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017134392A
公开(公告)日：2017-08-03
申请号：JP2016242694
申请日：2016-12-14
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：坂下健司 , 磯明典
IPC分类号： B08B3/02 , G02F1/13
摘要：【課題】シミの発生を抑えることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】実施形態に係る基板処理装置は、複数の天井板11aを有する処理室10を備える。各天井板11aは、瓦状に積み重ねられて傾斜し、傾斜方向に隣接する二つの天井板11aのうち、高い位置の天井板11aにおける低い側の端部B1が低い位置の天井板11aにおける高い側の端部B2を覆い、低い側の端部B1と高い側の端部B2との間に隙間を生じさせるように設けられている。【選択図】図2

10. 发明专利

JP6045041B2 基板処理方法及び基板処理装置有权
标题翻译：基板处理方法以及基板处理装置
公开(公告)号：JP6045041B2
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：JP2014161024
申请日：2014-08-07
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：大森圭悟 , 磯明典 , 今岡裕一 , 手島理恵
IPC分类号： B08B3/02 , G02F1/13 , B08B3/08

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