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1. 发明专利

JP2013167608A Inspection device and inspection method 有权
标题翻译：检查装置和检查方法
公开(公告)号：JP2013167608A
公开(公告)日：2013-08-29
申请号：JP2012032506
申请日：2012-02-17
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： INOUE TAKAFUMI , MATSUMOTO EIJI , KIKUIRI NOBUTAKA , ISOMURA IKUNAO
IPC分类号： G01N21/956 , G03F1/84
CPC分类号： G06T7/0004 , G06T7/001 , G06T2207/20021 , G06T2207/30148
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection device and an inspection method capable of reducing position errors generated during an inspection process.SOLUTION: The inspection region of a mask 101 is virtually divided by stripes 20a to 20i, and the pattern of position error correction means 10 is also virtually divided by the stripes 20a to 20i. For both of the mask 101 and the position error correction means 10, a stage 102 is moved so as to continuously scan all the stripes and obtain optical images thereof. The fluctuation values of the position coordinates of the patterns formed in the position error correction means 10 are obtained from the optical images of the position error correction means 10. The fluctuation values of the position coordinates of respective patterns in the inspection region of the mask 101 are obtained based on the fluctuation value to correct the position coordinates. Then, a map is created from the fluctuation values of the position coordinates of the respective patterns in the inspection region of the mask 101.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够减少在检查过程中产生的位置误差的检查装置和检查方法。解决方案：掩模101的检查区域实际上被条纹20a至20i划分，并且位置误差校正的图案装置10也实际上被条纹20a至20i划分。对于掩模101和位置误差校正装置10两者，移动载物台102，以连续地扫描所有的条纹并获得其光学图像。由位置误差校正装置10的光学图像获得形成在位置误差校正装置10中的图案的位置坐标的波动值。掩模101的检查区域中各图案的位置坐标的波动值基于波动值获得以校正位置坐标。然后，根据掩模101的检查区域中的各图案的位置坐标的波动值创建地图。

2. 发明专利

JP2012233733A Checking method and checking device 有权
标题翻译：检查方法和检查设备
公开(公告)号：JP2012233733A
公开(公告)日：2012-11-29
申请号：JP2011100873
申请日：2011-04-28
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： INOUE TAKAFUMI , ISOMURA IKUNAO
IPC分类号： G01N21/956 , G01B11/24
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a checking device and a checking method that can accurately determine, without being affected by any distortion of the mask, whether or not a pattern is acceptable.SOLUTION: At least four arbitrary coordinate points on a mask are measured (S101). Then, the differences between at least these four coordinate points and respective coordinate points of design data corresponding at least these four coordinate points are determined, and then one point with the greatest difference is selected (S102). Next, it is determined whether or not the difference between the selected one point and the coordinate point of any design data surpasses a predetermined threshold (S103). If it does not surpass the threshold, at least all the four coordinate points are used to align an optical image and a reference image with each other (S104). If it surpasses the threshold, this point is eliminated and alignment is accomplished by using the remaining at least three points (S105).
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可以在不受掩模的任何失真影响的情况下准确地确定图案是否可接受的检查装置和检查方法。
解决方案：测量掩模上至少四个任意坐标点（S101）。然后，确定至少这四个坐标点与至少对应于这四个坐标点的设计数据的各个坐标点之间的差异，然后选择最大差异的一个点（S102）。接下来，确定所选择的一个点和任何设计数据的坐标点之间的差是否超过预定阈值（S103）。如果不超过阈值，则至少使用所有四个坐标点来对齐光学图像和参考图像（S104）。如果超过阈值，则消除该点并且通过使用剩余的至少三个点来完成对准（S105）。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

3. 发明专利

JP2012078164A Pattern inspection device 审中-公开
标题翻译：图案检查装置
公开(公告)号：JP2012078164A
公开(公告)日：2012-04-19
申请号：JP2010222430
申请日：2010-09-30
申请人： Nuflare Technology Inc , Toshiba Corp , 株式会社ニューフレアテクノロジー , 株式会社東芝
发明人： OGAWA TSUTOMU , HIRONO MASATOSHI , NISHISAKA TAKESHI , HIRANO RYOICHI , ISOMURA IKUNAO , MATSUKI KAZUTO , OZAKI FUMIO
IPC分类号： G01B11/30 , G01B11/02 , G01N21/956 , G03F1/84 , H01L21/027
CPC分类号： G01N21/956
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern inspection device capable of efficiently inspecting even an inspection sample having a step between a pattern region and a non-pattern region.SOLUTION: This pattern inspection device includes: an inspection area storage section for storing an inspection area that is specified in the pattern region; a pattern surface height detecting section for detecting a pattern surface height signal with respect to a pattern surface height measuring position on the inspection sample; an autofocus mechanism focusing to the inspection sample using the pattern surface height signal detected by the pattern surface height detecting section; a determination section for determining whether the pattern surface height measuring position is within the inspection area; and an autofocus mechanism control section adapted to actuate the autofocus mechanism when the determination section determines that the pattern surface height measuring position is within the inspection area, and to stop the autofocus mechanism when the determination section determines that the pattern surface height measuring position is not within the inspection area.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够有效地检查具有图案区域和非图案区域之间的台阶的检查样本的图案检查装置。解决方案：该图案检查装置包括：检查区域存储部，用于存储在图案区域中指定的检查区域; 图案表面高度检测部，用于相对于检查样本上的图案表面高度测量位置检测图案表面高度信号; 使用由图案表面高度检测部检测到的图案表面高度信号来聚焦于检查样本的自动聚焦机构; 确定部，用于确定图案表面高度测量位置是否在检查区域内; 以及自动对焦机构控制部，所述自动对焦机构控制部在所述判定部判断为所述图案表面高度测量位置在所述检查区域内时，使所述自动聚焦机构动作，并且当所述判定部判断出所述图案表面高度测量位置不在所述检查区域内时停止所述自动聚焦机构在检查区内。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2012068321A Mask defect inspection device and mask defect inspection method 审中-公开
标题翻译：掩蔽缺陷检查装置和掩蔽缺陷检查方法
公开(公告)号：JP2012068321A
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：JP2010211298
申请日：2010-09-21
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： HIRONO MASATOSHI , OGAWA TSUTOMU , HIRANO RYOICHI , ISOMURA IKUNAO
IPC分类号： G03F1/84 , G01B11/30 , G01N21/956
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mask defect inspection device and a mask defect inspection method using the device, allowing efficient inspection even when a mask has a level difference between a pattern region and a non-pattern region on its surface.SOLUTION: The mask defect inspection device and the mask defect inspection method using the device include a focus adjustment mechanism for adjusting focus to the mask surface, a first and a second focus detection parts for detecting focuses respectively on a first portion and a second portion across an inspection visual field in the inspection visual field scanning direction in taking in a pattern image, a determination part for determining in which region, the pattern region or the non-pattern region, the first portion and the second portion are positioned, and a focus adjustment method instruction part for instructing a focus adjustment method to the focus adjustment mechanism based on the determination result of the determination part.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供使用该装置的掩模缺陷检查装置和掩模缺陷检查方法，即使当掩模在其表面上的图案区域和非图案区域之间具有水平差时，也允许有效的检查。解决方案：使用该装置的掩模缺陷检查装置和掩模缺陷检查方法包括用于将焦点调整到掩模表面的聚焦调节机构，用于分别在第一部分和第二部分上检测焦点的第一和第二焦点检测部分检测视野扫描方向上的检查视野的第二部分，用于确定在哪个区域中图案区域或非图案区域，第一部分和第二部分被定位的确定部分，以及焦点调整方法指示部分，用于基于确定部分的确定结果向焦点调节机构指示焦点调整方法。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2014206466A 検査方法および検査装置有权
标题翻译：检验方法和检验装置
公开(公告)号：JP2014206466A
公开(公告)日：2014-10-30
申请号：JP2013084256
申请日：2013-04-12
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー , Nuflare Technology Inc
发明人： YASUI YOSHITAKA , ISOMURA IKUNAO
IPC分类号： G01B11/24 , G01B11/02 , G06T1/00
CPC分类号： G06T7/0008 , G06T7/60 , G06T7/74 , G06T2207/20081 , G06T2207/30148
摘要：【課題】疑似欠陥を低減しつつ微細な欠陥を検出することのできる検査方法および検査装置を提供する。【解決手段】試料に形成されたパターンの光学画像と、この光学画像に対応する参照画像とをダイ−トゥ−データベース方式によって比較し、欠陥が検出された光学画像についてこの欠陥に関する情報を保存する。参照画像に試料の面内におけるパターンの寸法分布を反映させて参照画像を再生成し、ダイ−トゥ−データベース方式による比較で欠陥が検出された光学画像と、この光学画像に対応する再生成された参照画像とを、ダイ−トゥ−データベース方式によって再比較する。欠陥が検出された光学画像から再度欠陥が検出された場合にはこの欠陥に関する情報を保存し、欠陥が検出された光学画像から欠陥が検出されない場合には、この光学画像には欠陥がないと判定する。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：提供能够在减少人为缺陷的同时检测细小缺陷的检查方法和检查装置。解决方案：将样品上形成的图案的光学图像与通过模具对应于光学图像的参考图像进行比较数据库方法，存储与检测到缺陷的光学图像的缺陷有关的信息。通过在前一个参考图像中反映样品表面中的图案的尺寸分布来重新创建参考图像，并且通过模 - 数据库方法比较已经检测到缺陷的光学图像是re 与通过芯片到数据库方法对应于光学图像的重新创建的参考图像相比。当从检测到缺陷的光学图像再次检测到缺陷时，存储与缺陷有关的信息。当从检测到缺陷的光学图像未检测到缺陷时，该光学图像被确定为没有缺陷。

6. 发明专利

JP2013195958A Inspection device and inspection method 有权
标题翻译：检查装置和检查方法
公开(公告)号：JP2013195958A
公开(公告)日：2013-09-30
申请号：JP2012066065
申请日：2012-03-22
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： INOUE TAKAFUMI , KIKUIRI NOBUTAKA , ISOMURA IKUNAO
IPC分类号： G03F1/84 , G01B11/00 , G01N21/956
CPC分类号： G06T7/0004 , G06T7/001 , G06T2207/30148
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a position error caused in an inspection process.SOLUTION: Position error correction means 10 where a pattern to be virtually divided by multiple stripes has been formed is arranged in an area different from a mask 101 on a stage 102. A first displacement amount acquisition circuit 124 acquires a displacement (a first displacement amount) of the position error correction means 10 on the basis of an optical image of the position error correction means 10 and a reference image. A second displacement amount acquisition circuit 125 acquires a displacement (a second displacement amount) of a position coordinate of the pattern formed at the position error correction means 10. A position correction circuit 126 uses the first displacement amount to correct a positional relationship between the mask 101 and the position error correction means 10, and uses the second displacement amount to obtain a variation value of the position coordinate of each pattern in an inspection area of the mask 101 and to correct the position coordinate.
摘要翻译：要解决的问题：减少在检查过程中引起的位置误差。解决方案：位置误差校正装置10，其中形成了被虚线划分的多个条纹的图案被布置在与平台102上的掩模101不同的区域中第一位移量获取电路124基于位置误差校正装置10的光学图像和参考图像来获取位置误差校正装置10的位移（第一位移量）。第二位移量获取电路125获取在位置误差校正装置10处形成的图案的位置坐标的位移（第二位移量）。位置校正电路126使用第一位移量来校正掩模 101和位置误差校正装置10，并且使用第二位移量来获得掩模101的检查区域中的每个图案的位置坐标的变化值，并校正位置坐标。

7. 发明专利

JP2013120101A Inspection device 有权
标题翻译：检查装置
公开(公告)号：JP2013120101A
公开(公告)日：2013-06-17
申请号：JP2011267355
申请日：2011-12-06
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： ISOBE MANABU , ISOMURA IKUNAO
IPC分类号： G01N21/956
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection device with a self-diagnostic function to an inspection result.SOLUTION: An inspection device 100 has an optical image acquisition part A for irradiating light to a photo mask 101 to acquire an optical image, a reference circuit 112 for generating a reference image to be a standard image, a comparison circuit 108 for comparing the optical image with the reference image to determine a defect in the case that a differential value between them exceeds a prescribed threshold, and a self-diagnostic circuit 125 for dividing an inspection area into a plurality of frame areas and evaluating the reliability of the inspection result in the comparison circuit 108 by using an optical image obtained about each frame area and the maximum differential value of the reference image. The self-diagnostic circuit 125 evaluates the reliability of a determination of the comparison circuit 108 according to the existence/nonexistence of a maximum differential value exceeding the threshold.
摘要翻译：要解决的问题：为检查结果提供具有自我诊断功能的检查装置。解决方案：检查装置100具有用于将光照射到光掩模101以获取光学图像的光学图像获取部A，用于生成作为标准图像的参考图像的参考电路112，用于将光学图像与参考图像进行比较，以在它们之间的差分值超过规定阈值的情况下确定缺陷;以及自诊断电路125，用于将检查区域划分为多个框架区域并评估其可靠性通过使用关于每个帧区域获得的光学图像和参考图像的最大微分值，在比较电路108中检查结果。自诊断电路125根据超过阈值的最大差分值的存在/不存在来评价比较电路108的确定的可靠性。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2012211834A Pattern inspection device and pattern inspection method 有权
标题翻译：模式检验装置和模式检验方法
公开(公告)号：JP2012211834A
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：JP2011077812
申请日：2011-03-31
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： OGAWA TSUTOMU , ISOMURA IKUNAO
IPC分类号： G01N21/956 , G01B11/30 , G03F1/84
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a correction error due to a time lag of response speed between light volume senor output and sensor output for obtaining an image.SOLUTION: A pattern inspection device 100 comprises a light source 103; an illumination optical system 170 for illuminating a laser beam to a sample to be inspected; a light volume sensor 144 for measuring the light volume of the laser beam; a TDI sensor 105 for imaging an optical image of a pattern; a memory device 140 for temporarily storing output data of the TDI sensor 105 for a period of time difference with an output timing, when the output timing of the TDI sensor 105 is early; a memory device 142 for temporarily storing output data of the light volume sensor 144 during a period of the time difference with the output timing when the output timing of the light volume sensor 144 is early; a correction circuit 148 for correcting a gradation value of the optical image by using a light volume value outputted at time shifted by the time difference; and a comparison circuit 108 for inputting a reference image which is a comparison contrast and comparing the optical image correcting the gradation value with the reference image by pixel unit.
摘要翻译：要解决的问题：为了减少由于光量传感器输出和传感器输出之间的响应速度的时间滞后而获得图像的校正误差。解决方案：图案检查装置100包括光源103; 用于将激光束照射到要检查的样品的照明光学系统170; 用于测量激光束的光体积的光量传感器144; 用于对图案的光学图像进行成像的TDI传感器105; 存储装置140，用于当TDI传感器105的输出定时较早时临时存储TDI传感器105的输出数据与输出定时的时间差; 存储装置142，用于当光体积传感器144的输出定时提早时，在与时间差的时间段期间临时存储光量传感器144的输出数据; 校正电路148，用于通过使用以时间偏差输出的光量值来校正光学图像的灰度值; 以及比较电路108，用于输入作为比较对比度的参考图像，并将校正灰度值的光学图像与参考图像逐像素进行比较。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2017090063A パターン検査装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017090063A
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2015216089
申请日：2015-11-02
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー , Nuflare Technology Inc
发明人： KIKUIRI NOBUTAKA , ISOMURA IKUNAO
IPC分类号： G01N23/225 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/222 , H01J37/045 , H01J37/141 , H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/3026 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/20285 , H01J2237/20292 , H01J2237/2448 , H01J2237/2806 , H01J2237/2817 , H01J2237/30422 , H01J2237/30438 , H01J2237/31762 , H01J2237/31764
摘要：【課題】電子ビームのビーム径が小さい場合でも、現実的ではない相当に大規模なプロセッサ群を搭載せずに転送及びデータ処理が可能なパターン検査装置を提供する。【解決手段】反射電子を含む2次電子を検出する検出器422と、電子ビームが照射される照射単位領域毎の検出データを入力し、2次元状のn1×m1個の照射単位領域で構成される領域を、検査用の測定画像を構成する2次元状のn2×m2個の画像基準領域のうちの1つの画像基準領域として、画像基準領域毎に、当該画像基準領域内のすべての照射単位領域の検出データから得られる統計値を演算し、当該画像基準領域に統計値を画像基準データとして定義する検出回路106と、画像基準領域毎の画像基準データの転送を受け、n2×m2個の画像基準領域で構成される測定画像に対応する参照画像を用いて、当該測定画像と参照画像とを画像基準領域毎に比較する比較回路108と、を備えた。【選択図】図1

10. 发明专利

JP2015059826A 検査方法および検査装置有权
标题翻译：检验方法和检验装置
公开(公告)号：JP2015059826A
公开(公告)日：2015-03-30
申请号：JP2013193517
申请日：2013-09-18
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー , Nuflare Technology Inc
发明人： YASUI YOSHITAKA , ISOMURA IKUNAO
IPC分类号： G01N21/956
摘要：【課題】疑似欠陥を低減しつつ高精度な欠陥検出を行うことができる検査方法および検査装置を提供する。【解決手段】検査方法は、検査対象のマスクに形成されたパターンの光学画像を取得する工程と、その光学画像に対応する参照画像を生成する工程と、検査対象のマスクとは異なる他のマスクに形成されたパターンの寸法分布を反映させて参照画像を再生成する工程と、検査対象のマスクの光学画像とその生成された参照画像とをダイ−トゥ−データベース方式によって比較し、欠陥が検出された光学画像についてその欠陥に関する情報を保存する工程とを有して構成され、検査装置はその検査方法を実現するよう構成される。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：提供能够在减少假缺陷的同时进行高精度缺陷检测的检查方法和检查装置。解决方案：检查方法包括：获取形成的图案的光学图像的步骤在检查对象的面具上; 产生与所述光学图像对应的参考图像的步骤; 通过允许形成在与检查对象的掩模不同的另一个掩模上形成的图案的尺寸分布被反射来再现参考图像的步骤; 以及将检查对象的掩模的光学图像与通过管芯到数据库系统生成的参考图像进行比较，并将与缺陷有关的信息存储在检测到缺陷的光学图像上的步骤。检查装置被配置为实现检查方法。

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