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51. 发明专利

JP2018062453A 基板のめっきに使用される酸化銅粉体、該酸化銅粉体を用いて基板をめっきする方法、該酸化銅粉体を用いてめっき液を管理する方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018062453A
公开(公告)日：2018-04-19
申请号：JP2016202545
申请日：2016-10-14
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：下山正 , 藤方淳平 , 西浦文敏 , 岸貴士
IPC分类号： C25D21/14 , C01G3/02
CPC分类号： C25D3/28 , C01G3/02 , C01P2004/61 , C01P2006/80 , C25D3/38 , C25D7/123 , C25D17/001 , C25D17/02 , C25D17/10 , C25D21/12 , C25D21/14 , C25D21/18
摘要：【課題】めっきによって形成される銅膜の質の低下を防止することができる溶解性の酸化銅粉体を提供する。【解決手段】基板Wのめっき用のめっき液に供給される酸化銅粉体は、銅と、ナトリウムを含む複数の不純物とを含む。ナトリウムの濃度は20ppm以下である。酸化銅粉体は、めっき液中に定期的に供給される。めっき液中に浸漬された不溶解アノード8と基板Wとの間に電圧が印加され、基板W上に銅膜が形成される。【選択図】図1

53. 发明专利

JP6177350B2 鋼管の電気めっき装置有权
公开(公告)号：JP6177350B2
公开(公告)日：2017-08-09
申请号：JP2015552337
申请日：2014-12-11
申请人：新日鐵住金株式会社 , バローレック・オイル・アンド・ガス・フランス
发明人：木本雅也 , 石井一也 , 大島真宏 , 山本達也
IPC分类号： C25D7/04
CPC分类号： C25D5/026 , C25D17/004 , C25D17/02 , C25D17/12 , C25D5/08 , C25D7/04

54. 发明专利

JP2017070705A 経皮吸収シートの製造方法有权
公开(公告)号：JP2017070705A
公开(公告)日：2017-04-13
申请号：JP2016022835
申请日：2016-02-09
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：小川正太郎 , 玉木健一郎
IPC分类号： A61M37/00
CPC分类号： B29C33/3842 , A61K9/0021 , A61K9/703 , A61K38/385 , A61K47/36 , A61M37/00 , A61M37/0015 , B29C33/3857 , B29C33/40 , B29C33/424 , B29C39/02 , B29C41/02 , B29C41/36 , B29C41/42 , B29K2105/0035 , B29K2105/0073 , B29L2031/753 , B29L2031/7544 , B29L2031/756 , C25D1/10 , C25D3/12 , C25D17/02 , C25D17/10 , C25D21/04
摘要：【課題】電鋳金型を利用した経皮吸収シートの製造方法を提供する。【解決手段】電鋳金型の作製方法は、凹状パターンを有する母型であるモールドを準備し、前処理液槽に保持される脱気された前処理液にモールドを浸漬し、次いで、モールドの凹状パターンに超音波振動子から発生される超音波を印加し、凹状パターンを構成する凹部に前処理液を充填する。モールドを電鋳槽に浸漬して電鋳処理することにより電鋳金型を作製する。電鋳金型から凹状パターンを有するモールドを作製し、モールドを利用して経皮吸収シートを製造する。【選択図】図9

55. 发明专利

JP2015175015A 基板処理方法及び基板処理治具审中-公开
标题翻译：基板处理方法和基板处理
公开(公告)号：JP2015175015A
公开(公告)日：2015-10-05
申请号：JP2014051115
申请日：2014-03-14
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：岩津春生
IPC分类号： C25D7/12 , C25D5/02
CPC分类号： C25D7/12 , C25D17/001 , C25D17/02 , C25D17/10 , C25D5/003 , H01L21/2885 , H01L21/76898
摘要：【課題】基板処理治具と基板の位置調整を適切に行い、当該基板処理治具を用いた基板処理を適切に行う。【解決手段】テンプレート20は、空気供給溝22、アライメント液排出孔23、アライメント液排出槽24を有する。空気供給溝22、アライメント液排出孔23、アライメント液排出槽24は、ウェハの表面全面にアライメント液が供給され、さらにテンプレート20がアライメント液を挟んでウェハ上に配置された状態で、スクライブラインからアライメント液排出孔23を介してアライメント液排出槽24に毛細管現象によってアライメント液が排出されると共に、空気供給溝22とスクライブラインとの間で形成される空間に空気が供給されて、チップの周縁部と処理領域21との間に気液界面が形成されるように設けられる。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：正确地进行基板处理夹具和基板的定位，并使用基板处理夹具适当地进行基板处理。解模：模板20具有：供气槽22; 对准液排出孔23; 取向液体排出槽24.供给槽22，取向液排出孔23以及取向液排出槽24配置成将取向液供给到晶片的整个表面的状态，模板20为设置在晶片上，同时插入对准液体，基于毛细管现象，通过取样液排出孔23将取向液排出到取向液体排出槽24中，并将空气供给到形成在空气之间的空间供给槽22和划线，并且在芯片的周缘部和处理区域21之间形成气液界面。

56. 发明专利

JP5705981B2 金属ナノ触媒の表面構造制御及び製造方法有权
标题翻译：控制表面结构和所述金属纳米催化剂的制造方法中
公开(公告)号：JP5705981B2
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：JP2013522076
申请日：2011-06-13
申请人：シャーメンユニバーシティー
发明人：スン,シ−ガン , ファン,ルイ , チェン,シェン−ペイ
IPC分类号： B01J23/42 , B01J23/44 , B01J23/46 , B01J23/50 , B01J23/52 , B01J23/72 , B01J23/745 , B01J23/75 , B01J23/755 , B01J37/34 , C25C7/00 , C25C5/02
CPC分类号： B01J37/348 , B01J23/42 , B01J23/44 , B01J23/462 , B01J23/464 , B01J23/468 , B01J23/50 , B01J23/52 , B01J23/72 , B01J23/745 , B01J23/75 , B01J23/755 , B01J35/0013 , B01J35/002 , B01J35/006 , B82Y30/00 , C25C5/02 , C25C7/00 , C25C7/06 , C25D1/006 , C25D1/04 , C25D17/00 , C25D17/02 , B01J21/18 , B01J21/185 , C25D3/50 , C25D5/18

57. 发明专利

JP2014224315A エアフォイル部品内部の電気めっき审中-公开
标题翻译：电气内胆空气组件
公开(公告)号：JP2014224315A
公开(公告)日：2014-12-04
申请号：JP2014084270
申请日：2014-04-16
申请人：ハウメットコーポレイションHowmet Corporation , Howmet Corp , ハウメットコーポレイションHowmet Corporation
发明人： WILLARD N KIRKENDALL , SCOTT A MEADE , DONALD R CLEMENS
IPC分类号： C25D5/02 , C23C10/30 , C23C10/48 , C23C28/00 , C25D7/00 , F01D5/28 , F01D25/00 , F02C7/00
CPC分类号： F01D5/286 , C25D3/50 , C25D5/022 , C25D5/028 , C25D5/48 , C25D7/04 , C25D17/008 , C25D17/02 , C25D17/12 , F01D5/12 , F01D5/18
摘要：【課題】ガスタービンエンジンのエアフォイル部品の冷却キャビティを画定する内壁の表面領域を電気めっきする方法及び装置を提供する。【解決手段】細長いアノード30が、電解セルのカソードとなるエアフォイル部品の冷却キャビティ16の内部に配置され、アノードは、反対側の端部領域が、電気絶縁アノード支持体40に支持される。アノード支持体40は、特定の表面領域だけが電気めっきされるようにマスク25として機能できるように構成され、アノード支持体40のマスキング効果により、特定の表面領域がめっきされる。【選択図】図7
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在限定燃气涡轮发动机的空气箔部件的冷却腔的内壁处对表面区域进行电镀的方法和装置。解决方案：细长阳极30布置在冷却空气箔部件的空腔16形成电解槽的阴极，在阳极中，相对侧的边缘部分区域由电绝缘阳极支撑体40支撑。阳极支撑体40由以能够仅电镀比表面积的方式用作掩模25，并且通过阳极支撑体40的掩蔽效应对比表面区域进行镀覆。

58. 发明专利

JP2014040633A Pattern formation apparatus and pattern formation method 审中-公开
标题翻译：模式形成装置和模式形成方法
公开(公告)号：JP2014040633A
公开(公告)日：2014-03-06
申请号：JP2012183261
申请日：2012-08-22
申请人： Jtekt Corp , 株式会社ジェイテクト
发明人： STOIMENOV BOYKO , YAMAKAWA KAZUYOSHI , SUZUKI MASAHIRO , MATSUO KAZUAKI
IPC分类号： C25D13/00 , B05D3/10
CPC分类号： C25D5/02 , C25D13/22 , C25D17/00 , C25D17/004 , C25D17/02 , C25D17/12
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To enable the reduction of the number of steps in a case where films of different types are formed respectively within multiple regions on the surface F of a workpiece W and where a specified film pattern is obtained from these films.SOLUTION: The provided pattern formation apparatus includes multiple tanks 11 through 19 and a power supply device 10. The tanks 11 through 19 possess aperture edges having shapes identical respectively to contour shapes of multiple regions in which films of mutually different types are scheduled to be formed, and electrodeposition liquids for forming films of different types are stocked respectively therein in a state where the aperture edges thereof are being contacted with the surface F of a workpiece W. The power supply device 10 impresses a specified voltage between the workpiece W serving as a first electrode and each of second electrodes positioned respectively within the multiple tanks 11 through 19.
摘要翻译：要解决的问题：为了能够在工件W的表面F上的多个区域内分别形成不同类型的膜的情况下的步骤数目的减少，并且从这些膜获得指定的膜图案。解决方案：所提供的图案形成装置包括多个容器11至19和电源装置10.容器11至19具有孔边缘，其具有与其中预定形成彼此不同类型的膜的多个区域的轮廓形状相同的形状;以及用于形成不同类型薄膜的电沉积液分别在其孔边缘与工件W的表面F接触的状态下放置。电源装置10在作为第一电极的工件W之间施加指定的电压并且每个第二电极分别位于多个罐11至19内。

59. 发明专利

JP5435355B2 Plating apparatus 有权
公开(公告)号：JP5435355B2
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：JP2010035526
申请日：2010-02-22
申请人：日立金属株式会社
发明人：元通伊藤 , 恭子武田 , 一早川
IPC分类号： C25D7/00 , C25D17/18
CPC分类号： C25D17/18 , C25D5/08 , C25D7/00 , C25D17/02

60. 发明专利

JP5291943B2 The processing tank 有权
公开(公告)号：JP5291943B2
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：JP2008011746
申请日：2008-01-22
申请人：株式会社industria , 本田技研工業株式会社
发明人：一彰高橋 , 俊介渡邉
IPC分类号： C25D13/00 , C25D13/22
CPC分类号： B01F5/0206 , B01F15/00876 , B05C3/04 , B05C3/10 , C25D17/02 , C25D21/04 , C25D21/18
摘要： An electrodeposition tank that pools and enables fluidization and agitation of an electrodeposition paint into which a work is to be immersed, the electrodeposition tank including: a grooved part having a plurality of concave and convex shapes formed along a work-conveying direction on a bottom surface of the electrodeposition tank; an electrodeposition paint supply pipe that circulates and supplies the electrodeposition paint to the electrodeposition tank; a plurality of branch pipes that are arranged on ridges of the grooved part and that branch off the electrodeposition paint supply pipe; and electrodeposition paint discharge nozzles provided oriented upstream in the work-conveying direction at a section of the branch pipes that opposes bottom parts of the grooved part.

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