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51. 发明专利

JP2003504687A Broadband ultraviolet catadioptric imaging system 有权
公开(公告)号：JP2003504687A
公开(公告)日：2003-02-04
申请号：JP2001510034
申请日：2000-06-22
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：ジェイジョセフアームストロング , デイビッドアールシェイファー , ユン−ホーチュアン
IPC分类号： G01B11/30 , G01N21/956 , G02B17/08 , G02B21/00 , G02B21/04 , G02B21/16 , G03F1/84 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B17/08 , G02B17/0812 , G02B17/0856 , G02B17/0892 , G02B17/0896 , G02B21/04 , G02B21/16 , G03F1/84 , G03F7/70275 , G03F7/70483 , G03F7/70616 , G03F7/7065
摘要： A design for inspecting specimens, such as photomasks, for unwanted particles and features such as pattern defects is provided. The system provides no central obscuration, an external pupil for aperturing and Fourier filtering, and relatively relaxed manufacturing tolerances, and is suited for both broad-band bright-field and laser dark field imaging and inspection at wavelengths below 365 nm. In many instances, the lenses used may be fashioned or fabricated using a single material. Multiple embodiments of the objective lensing arrangement are disclosed, all including at least one small fold mirror and a Mangin mirror. The system is implemented off axis such that the returning second image is displaced laterally from the first image so that the lateral separation permits optical receipt and manipulation of each image separately. The objective designs presented have the optical axis of the Mangin mirror image relay at ninety degrees to the optical axis defined by the focusing lenses, or an in-line or straight objective having one ninety degree bend of light rays.

52. 发明专利

JP2007501944A6 JP2007501944A6 - Apparatus and method for enabling robust separation between signal and noise of interest 审中-公开
公开(公告)号：JP2007501944A6
公开(公告)日：2011-02-17
申请号：JP2006533009T
申请日：2004-05-12
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：ガオ・チヤンボー , クールマン・ライオネル , スウィーニー・マーク・シー．
摘要：【課題】光学検査ツールによって与えられるヘイズデータを分析する方法および装置を提供する。
【解決手段】ヘイズデータは、試料表面に関連付けられた欠陥を検出するよう分析される。一般に、ヘイズデータは、試料上の低い周波数のバラツキに対応するバックグラウンドノイズが、そのようなヘイズデータの分析の前にヘイズデータから分離または除去されるよう、まず条件付けられる。具体的な実施形態において、試料表面における低い周波数のバラツキは、実質的には、入射ビームがその上に導かれる光学表面として特徴付けられる。ある例では、試料表面に対応するヘイズデータは、ゼルニケ方程式のような多項式で特徴付けられる。換言すれば、多項式方程式は、ヘイズデータの低い周波数の、つまりバックグラウンドのノイズにあてはめられる。この結果として生じる多項式方程式に合致するヘイズデータは、それから元のヘイズデータから引かれて、残差データを作り、ここで表面粗さにおける遅いバラツキが差し引かれ、残差ヘイズデータ中には可能な欠陥情報を残す。この残差ヘイズデータは、試料が欠陥を含むかを決定するために分析されえる。残差データを分析することによって欠陥の検出を向上させる技術も開示される。好ましくは、異なる検査ツール間で正規化されるように、結果として生じる残差データを較正する技術も提供される。

53. 发明专利

JP2009530824A Method and system for optimizing the alignment performance in the exposure tools 审中-公开
公开(公告)号：JP2009530824A
公开(公告)日：2009-08-27
申请号：JP2009500491
申请日：2007-03-15
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：アデル・マイケル・イー． , イジクソン・パベル , ウィドマン・アマー , エイチェルバーガー・ブラッド , ロビンソン・ジョン , 敦彦加藤
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70458 , G03F7/70525 , G03F7/706 , G03F9/7046
摘要：【解決手段】露光システム群においてアライメント性能を最適化するための方法は、露光システム群の中の各露光システムに関連した特徴的ディストーションプロファイルのセットを生成するために、各露光システムを特徴付けることをともなう。特徴的ディストーションプロファイルのセットは、データベースに格納される。さらなるパターン作成のために、上に基準パターンを形成されたウエハが用意され、そのウエハ上に次の層を作成するために、露光システム群の中から露光システムが選択される。選択された露光システムの線形パラメータおよびより高次のパラメータは、基準パターンのディストーションをモデリングするために、特徴的ディストーションプロファイルを使用して調整される。露光システムは、ひとたび調整されると、ウエハ上にリソグラフィパターンを形成するために使用される。
【選択図】図３

54. 发明专利

JP2009505398A System for irradiating an electron beam to a sample, the control subsystem, the method 审中-公开
公开(公告)号：JP2009505398A
公开(公告)日：2009-02-05
申请号：JP2008526061
申请日：2006-08-01
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：ジヴィノ，マレック , ヘス，ハラルド , マンコス，マリアン , レヴィ，シェム−トヴ
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J37/305 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/304 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3174 , H01J2237/2817 , H01J2237/31766
摘要：試料上に電子ビームを照射するシステム、制御サブシステム、方法が提供される。一システムは非均一速度で試料を移動させるように構成されたステージを含む。このシステムは、ステージが非均一速度で試料を移動している間に試料上に電子ビームを照射するように構成された照射サブシステムも含む。また、このシステムは、照射サブシステムが非均一速度に基づいて試料上に電子ビームを照射している間に電子ビームの１つ又は複数の特性を変えるように構成された制御サブシステムを含む。一方法は、非均一速度で試料を移動させるステップと、試料の移動中に試料上に電子ビームを照射するステップとを含む。また、この方法は、非均一速度に基づいて試料上に電子ビームを照射中に電子ビームの１つ又は複数の特性を変えるステップを含む。

55. 发明专利

JP2009500863A Overlay determination of rotationally symmetrical body or mirror symmetry body for instruments and methods 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP2009500863A
公开(公告)日：2009-01-08
申请号：JP2008521428
申请日：2006-06-30
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：ギノブカー・マーク
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G01B11/272 , G01N21/4785 , G01N21/9501 , G03F7/70633 , H01L21/68 , H01L21/682 , H01L23/544 , Y10S438/975
摘要：【解決手段】順応性のある対称性を持ったオーバレイターゲット及びかようなターゲットの二枚以上連続した層の間のオーバレイ誤差、或は同一の層の上の二つのセットの構成体の間のズレを計測するメトロロジ技術を提供するものである。或る実施例によれば、ターゲットにはx方向とy方向両方に沿ったオーバレイ誤差（或はズレ）を測定する構成体が含まれ、ここでx構成体はy構成体と異なる対称中心を持つ。別の実施例では、x構成体とy構成体の中の一つは１８０度の回転によって不変であり、他の一つは鏡面対称である。又、発明の一様相に於いて、１８０度の回転によって x構成体とy構成体共に変形である。更に別の例では、x方向及び／或はy方向でオーバレイを測定するためのターゲットは、第一層の上の１８０度の回転対称の構成体と第二層の上の鏡面対称の構成体を含む。別の実施例に於いて、x方向及び／或はy方向のオーバレイを確定するターゲットは、第一層の上の構成体と第二層の上の構成体を含み、第一層の上の構成体の対称中心は第二層の上の構成体の対称中心から既知の量だけオフセットされて居る。或る特別の実施例として、開示された実施例のいずれのターゲットも装置構成体の形態をとってよい。使用の場合、第一と第二の各々の層で内在的に１８０度回転対称或は鏡面対称を持つ装置構成体が第一層と第二層でのオーバレイの測定に使用される。順応性のある対称性を持ったターゲットの撮像して取得した画像を解析してオーバレイや整列に関する誤差を確定する技術を開示する。
【選択図】図６
摘要翻译：公开了具有灵活对称特性的覆盖目标和用于测量这些目标的两个或更多个连续层之间的重叠误差的测量技术。在一个实施例中，目标包括用于测量x和y方向上的重叠误差（或移位）的结构，其中x结构具有与y结构不同的对称中心（COS）。在另一个实施例中，x和y结构之一是不变的，具有180°旋转，并且x和y结构中的另一个具有镜像对称性。在一个方面，x和y结构一起是180°旋转的变体。在又一示例中，用于测量x和/或y方向上的覆盖层的目标包括具有180对称性的第一层上的结构，并且在具有镜像对称性的第二层上的结构。在另一个实施例中，用于确定x和/或y方向上的覆盖的目标包括第一层上的结构和第二层上的结构，其中第一层上的结构具有由COS的已知量偏移的COS 的第二层结构。在具体实现中，所公开的目标实施例中的任何一个可以采取设备结构的形式。在用例中，使用在第一和第二层中的每一个中具有固有的180°旋转对称性或镜像对称性的装置结构来测量第一层和第二层中的覆盖层。公开了用于对具有灵活对称特性的目标成像和分析获取的图像以确定覆盖或对准误差的技术。

56. 发明专利

JP2008542790A Overlay and profile asymmetry of measurement using the symmetric and anti-symmetric scatterometry signal 有权
公开(公告)号：JP2008542790A
公开(公告)日：2008-11-27
申请号：JP2008515856
申请日：2006-06-06
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：カンデル・ダニエル , クリシュナン・シャンカール , グロス・ケン , ゴロヴァネブスキイ・ボリス , フ・ジヨウ , フリードマン・マイケル
IPC分类号： G01N21/21 , G01J4/00
CPC分类号： G01N21/211 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G03F7/70633
摘要：【解決手段】エリプソメトリ構成を用いて、等方性または異方性であるシステムの部分ミュラー行列および完全ジョーンズ行列を測定するためのシステムおよび方法が開示されている。一実施形態では、２以上の信号（各々は対称性の仮定を必ずしも満たさない）が、対称性の仮定を満たす合成信号に合成される。個々の信号は、２以上の検光子角度で収集される。合成信号の対称性は、１Ｄ回折格子ターゲットに対する入射光線の任意の相対方位について、および、一般的な２Ｄ回折格子を含むターゲットについて、オーバレイ情報の抽出を簡単に実行できるようにする。ある対称性を有する信号も、非常に効率的にプロファイル非対称性の測定を行うことを可能にする。別の実施形態では、対称性の仮定を満たす信号のみを測定するための測定方法が規定されている。随意的な実施形態は、偏光子および検光子として機能する１つの偏光素子を備える。別の随意的な実施形態は、検光プリズムを用いて、反射光の２つの偏光成分を同時に集光する。
【選択図】図２Ａ

57. 发明专利

JP2008536166A Catadioptric objective lens ultra high na compact with aspherical 有权
公开(公告)号：JP2008536166A
公开(公告)日：2008-09-04
申请号：JP2008504088
申请日：2006-03-13
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：ジェイヨセフアームストロング , デビッドシェイファー , ヤンホーチャン
IPC分类号： G02B17/08 , G03F1/08 , H01L21/027
CPC分类号： G02B17/0856 , G02B17/008 , G02B17/0892 , G02B21/04
摘要：試料を撮像するときに使用するために採用された比較的高いＮＡの対物レンズおよび試料を撮像する方法が提供される。対物レンズは、光エネルギーを受け取り、中間画像を形成するように構成された少なくとも１つの集束レンズを有するレンズ群と、中間画像を受け取り、中間光エネルギーを供給するように向けられた少なくとも１つの視野レンズと、中間光エネルギーを受け取り、光エネルギーを試料に当てるように向けられたマンジャンミラー構成を備える。１つ以上の要素は、非球面を採用してもよい。対物レンズは、いくつかの例では、ほぼ１９３〜２６６ナノメートルの未補正のスペクトル帯域幅を提供し、０．９を超える開口数を提供することができる。要素は、直径が１００ミリメートルより小さく、標準的な顕微鏡に嵌合してもよい。視野レンズは、２つ以上のレンズを備えてもよく、また対物レンズ内の少なくとも１つの他のレンズと異なる材料で形成されてもよい。

58. 发明专利

JP2008523392A Multiple incident angle spectroscopic scatterometer system 有权
公开(公告)号：JP2008523392A
公开(公告)日：2008-07-03
申请号：JP2007545555
申请日：2005-12-06
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：バレケット・ノア , ワン・ハイミン
IPC分类号： G01N21/21 , G01J3/36 , G01J3/42 , G01N21/27 , G01N21/956
CPC分类号： G01B11/0641 , G01N21/211 , G01N21/956
摘要：【課題】それぞれの変数に対する感度は、少なくとも一部は、入射ビームの計測角に依存することから、所望の計測角のセットを選択することによって、分光計測技術の感度を、ある種のプロファイル変数について最適化する。
【解決手段】選択された所望の計測角のセットは、方位角および極角の両方を含む。また分光計測技術の感度を最適化することは、計測されるべき変数間の計測相関を低減または解消しえる。
【選択図】図２

59. 发明专利

JP2008519245A Darkfield inspection systems with programmable light selection array 有权
公开(公告)号：JP2008519245A
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：JP2004569998
申请日：2004-04-09
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：クレン・ジョージ・ジェイ． , サリバン・ポール・ジェイ． , ショート・デイビッド・ダブリュ． , ベヴィス・クリストファー・エフ．
IPC分类号： G01N21/956 , G01N21/47 , G01N21/88
CPC分类号： G01N21/4738 , G01N21/8806 , G01N2021/8822
摘要：【課題】表面検査ツールおよび方法を提供する。
【解決手段】検査ツールの実施形態は、光ビームをワークピース上に導くことによって、前記ワークピースの欠陥から散乱された光、および前記ワークピースの通常の散乱パターンにしたがって散乱された光を含む、散乱された光を発生する照射源を含む。この実施形態は、前記ワークピースから散乱された光を受け取り、前記ワークピースの欠陥から散乱された前記光を、この光を電気信号に変換する前記フォトセンサに選択的に導くプログラム可能な光選択アレイを含む。処理回路は、前記光検出要素からの電気信号を受け取り、ワークピースの欠陥の特徴付けを含みえる前記ワークピースの表面分析を行う。プログラム可能な光選択アレイは、以下に限定されないが、反射器アレイおよびフィルタアレイを含みえる。本発明はまた関連付けられた表面検査方法も含む。
【選択図】図５

60. 发明专利

JP2008516233A Surface inspection system capacity is improved 有权
公开(公告)号：JP2008516233A
公开(公告)日：2008-05-15
申请号：JP2007535781
申请日：2005-10-04
申请人：ケーエルエー−テンカーテクノロジィースコーポレイション
发明人：ヴァエス−イラバニ，メディ , ロバートミラー，ローレンス
IPC分类号： G01N21/956 , G01B11/30 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/8806 , G01N2021/8822
摘要： Pixel intensities indicative of scattered radiation from portions of the inspected surface surrounding a location of a potential anomaly are also stored so that such data is available for quick review of the pixel intensities within a patch on the surface containing the location of the potential anomaly. Where rotational motion is caused between the illumination beam and the inspected surface, signal-to-noise ratio may be improved by comparing the pixel intensities of pixels at corresponding positions on two different surfaces that are inspected, where corresponding pixels at the same relative locations on the two different surfaces are illuminated and scattered radiation therefrom collected and detected under the same optical conditions.

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