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1. 发明专利

JP2018073894A 半導体検査方法および半導体製造装置の管理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018073894A
公开(公告)日：2018-05-10
申请号：JP2016209270
申请日：2016-10-26
申请人：ルネサスエレクトロニクス株式会社
发明人：品木徹 , 近藤由憲 , 菊池祐司
IPC分类号： G01N21/956 , H01L21/02 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/956 , G01N21/4738 , G01N21/9501 , G01N21/9505 , G01N21/95607 , H01L22/12 , H01L22/24
摘要：【課題】製品用の半導体基板の歩留まりを向上させる。【解決手段】(a)製品用ウエハと同様の積層膜4fであり、かつAl膜などの導体膜を含む積層膜4fが形成されたモニタ用ウエハ10を準備する工程、(b)積層膜4f上にフォトレジスト膜が形成されていない状態でモニタ用ウエハ10の積層膜4fをエッチングする工程、(c)異物検査装置14のステージ13上に載置されたモニタ用ウエハ10に対してレーザ光11を照射し、その散乱光12aによりエッチ残り(欠陥)9を検出する工程、を有する。【選択図】図9

2. 发明专利

JP6267550B2 測定装置および測定方法有权
公开(公告)号：JP6267550B2
公开(公告)日：2018-01-24
申请号：JP2014049314
申请日：2014-03-12
申请人：キヤノン株式会社
发明人：瀬戸貴公
IPC分类号： G01N21/57
CPC分类号： G01N21/55 , G01N21/4738 , G01N2021/4711

3. 发明专利

JP2017523312A 基板上の材料を処理するための装置、及び基板上で処理される材料の光学特性を測定するための方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017523312A
公开(公告)日：2017-08-17
申请号：JP2017512100
申请日：2014-05-16
申请人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated , アプライドマテリアルズインコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated
发明人：ユルゲンシュローダー， , ユルゲンシュローダー， , ハンス−ゲオルクロッツ， , ハンス−ゲオルクロッツ，
IPC分类号： C23C14/54 , C23C16/52 , G01N21/47 , G01N21/59
CPC分类号： C23C14/547 , C23C16/458 , C23C16/50 , C23C16/52 , C23C16/545 , G01B21/047 , G01N21/4738 , G01N21/474 , G01N21/55 , G01N21/59 , G01N21/8901 , G01N2201/12746
摘要：本開示の一態様によれば、基板(15)上で材料を処理するための装置(40)が提供されている。装置(40)は、真空チャンバと、基板及び/又は基板上で処理される材料の一又は複数の光学特性を測定するように構成された測定構成とを含み、測定構成は、真空チャンバに位置づけされた少なくとも1つの球構造を含む。【選択図】図5

4. 发明专利

JP6104269B2 光度測定装置および光度測定方法有权
公开(公告)号：JP6104269B2
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：JP2014543898
申请日：2012-11-29
申请人：バイオサーフィット、ソシエダッドアノニマ
发明人：デオリヴェイラガルシアダフォンセカ、ジョアオマニュエル
IPC分类号： G01N21/03 , G01N21/27
CPC分类号： G01N21/4738 , G01J1/0223 , G01N21/0303 , G01N21/031 , G01N21/07 , G01N33/92 , G01N2021/0325 , G01N2201/0612 , G01N2201/062 , Y10T29/49826

5. 发明专利

JPWO2014155727A1 ワークの加工面評価方法、制御装置および工作機械有权
标题翻译：工件，控制装置和机床的工作表面评价方法
公开(公告)号：JPWO2014155727A1
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：JP2015507908
申请日：2013-03-29
申请人：株式会社牧野フライス製作所
发明人：光成尾田 , 光成尾田
IPC分类号： G05B19/4069 , G01N21/01 , G01N21/47
CPC分类号： G05B19/4069 , G01B11/30 , G01B17/08 , G01N21/4738 , G05B19/4093 , G05B2219/32177 , G05B2219/32215 , G05B2219/32216 , G05B2219/35346 , G05B2219/37402 , Y02P90/22 , Y02P90/265
摘要：ヒト(観察者)の目(視覚)や指(触覚)で実際にどのように感知されるのかを評価基準としてワークの加工面を評価し、該評価に基づいてワークを加工する加工プロセスを変更するようにした。
摘要翻译：改变处理过程中将评估眼（视觉）或工件作为条件是否在实践中如何通过（触觉）感测到的手指加工面的人（观察者），评价的基础上加工工件这是方式。

6. 发明专利

JP2017037042A 計測装置及びプログラム有权
标题翻译：测量设备和程序
公开(公告)号：JP2017037042A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：JP2015159804
申请日：2015-08-13
申请人：富士ゼロックス株式会社
发明人：堀田宏之
IPC分类号： G01B11/30 , G01B11/24
CPC分类号： G01N21/4785 , G01N21/4738 , G01N2201/0633 , G01N2201/0636 , G01N2201/0638
摘要：【課題】専用の光量計測装置あるいは光源を用いる場合と比較して、発光光量及び受光感度の補正が簡易に行える計測装置及びプログラムを提供する。【解決手段】照射光を発光する発光部14と、照射光の発散度合いを変える第1のレンズ32と、照射光を絞る絞り部40と、絞り部を通過した照射光を集光し光軸に平行な方向から対象物OBに照射する第2のレンズ34と、照射光が対象物に照射されて反射し第2のレンズを透過した反射光の一部を受光する受光部16と、受光部の受光結果を用いて対象物を計測する計測手段20と、対象物に替えて配置されると共に、照射光に対する角度を可変とされた反射体と、反射体の照射光に対する傾斜角を変化させることにより受光部における受光位置を変え、受光位置ごとの受光結果を用いて発光部及び受光部の補正を行う補正手段と、を含む。【選択図】図1
摘要翻译： A作为与使用专用的光量测定装置或光源，发出的光的校正量和光接收灵敏度的情况相比，是提供一种测量装置，并且能够简化的程序。和发光单元14射出照明光，用于改变照明光的发散的第一透镜32的光，光圈部分40以缩小的照明光，照明光穿过由光轴会聚的开口部一光接收部分16和第二透镜34，照明光接收通过第二透镜发射的反射光的一部分反射和被照射物上，以照射到物体OB在平行的方向上的光接收变化测量装置20与部件，用于测量所述对象的光接收结果，而被定位在适当位置的对象，一个反射镜的角度为相对于所述照射光，倾斜的相对于所述反射器的照射光的角度变化改变光通过接收在光接收部的位置，包括一个校正装置，用于通过使用每个接收位置的光接收结果来校正光发射部分和光接收单元。 1点域

7. 发明专利

JP6053506B2 反射特性の測定装置有权
标题翻译：的反射特性的测定装置
公开(公告)号：JP6053506B2
公开(公告)日：2016-12-27
申请号：JP2012281756
申请日：2012-12-25
申请人：キヤノン株式会社
发明人：加藤成樹
IPC分类号： G01N21/57 , G01N21/55
CPC分类号： G01N21/57 , G01N21/4738 , G01N21/55 , G01N21/8806 , G01N2021/1736 , G01N2021/1748 , G01N2021/556 , G01N2201/061 , G01N2201/068 , G01N2201/12

8. 发明专利

JP2016057093A 反射型センサ审中-公开
标题翻译：反射型传感器
公开(公告)号：JP2016057093A
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：JP2014181686
申请日：2014-09-05
申请人：オムロン株式会社
发明人：太子芳爵 , 河合肇 , 宮本寛之
IPC分类号： G03G21/00 , G01N21/47
CPC分类号： G01N21/4738 , G01N21/55 , G01N21/86 , G03G15/5041 , G03G15/5058 , G03G2215/00042 , G03G2215/00059 , G03G2215/0161
摘要：【課題】検出対象物の位置検出精度を保持しつつ、検出対象物の距離変動及び移動方向の角度変動に対するロバスト性能を高め得る反射型センサを提供する。【解決手段】発光部から発せられ、検出対象物(56、P)上に照射された光が、該検出対象物(56、P)に反射されて受光部(22)に至る光路上に配された光学系(25—)は、受光部(22)における発光部からの光の正反射受光範囲S1と拡散反射受光範囲S2とのズレが、検出対象物(56、P)の移動方向である副走査方向において所定範囲内になるように集光し、移動方向と直交する方向においては、正反射受光範囲S1と拡散反射受光範囲S2とを含む受光範囲が副走査方向よりも直交する方向に広くなるように光を屈折する。【選択図】図18
摘要翻译：要解决的问题：提供一种反射型传感器，通过该反射型传感器，可以保持检测待检测物体的位置的精度，并且可以抵抗距离的变化和角度的变化，提高鲁棒性能被检测物体的运动。解决方案：从发光单元产生并与辐射到待检测物体（56，P）上的光一起设置在光路上的光学系统（25-）被反射要被检测的物体（56，P）并且被引导到光接收单元（22）将光聚光，使得来自光的光的正常反射光接收范围S1和扩散反射光接收范围S2之间的差异光接收单元（22）中的发光单元在作为被检测体（56，P）的移动方向的副扫描方向上落入规定范围内，并且对于与方向正交的方向的移动使得折射光，使得包括正反射光接收范围S1和扩散反射光接收范围S2的光接收范围在正交方向上比在副扫描方向上变宽。选择图：图18

9. 发明专利

JP2016509203A 表面の清浄度を判定するためのシステム及び方法审中-公开
标题翻译：系统和方法，用来确定一个表面的清洁度
公开(公告)号：JP2016509203A
公开(公告)日：2016-03-24
申请号：JP2015549378
申请日：2013-10-29
申请人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー , スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
发明人：ボンマリトジー．マルコ , ボンマリトジー．マルコ
IPC分类号： G01N21/29 , G01N21/84
CPC分类号： A61L2/28 , B08B13/00 , G01N21/4738 , G01N21/55 , G01N21/94 , G01N2021/551 , G01N2201/061
摘要：表面の清浄度を判定するためのシステム及び方法。本開示の本表面マーキングシステムは、担体中に分散されているか、又は担体上に分配されている複数個の再帰反射性マイクロスフェアを含むことができる。本開示のアプリケータは、表面マーキングシステム及びディスペンサを含む容器を具備することができる。本開示の方法は、表面上の少なくとも1つの不連続部位に対して、表面マーキングシステムを塗布すること、クリーニング後、表面上の少なくとも1つの不連続部位を可視光で照射することと、少なくとも1つの不連続部位の照射に応じて、表面のクリーニングの有効性を判定するために、表面上の少なくとも1つの不連続部位から放射された再帰反射を検出することとを含むことができる。
摘要翻译：系统和用于确定表面的清洁度的方法。该表面标记本发明的系统可包括多个被分布或分散在载体上，或在载体上的回射微球。本发明的涂抹器可包括：包括表面标记系统和分配器的容器。本公开内容，对于表面上的至少一个不连续点的方法中，施加一个表面标记系统，所述方法包括在清洗之后照射，用可见光的表面上的至少一个离散的位点，至少一个的按照不连续的位点的照射之一，以确定所述表面清洁的有效性可以包括从表面上的至少一个离散的位点发射的检测回射。

10. 发明专利

JP5878198B2 表面検査装置および表面検査方法有权
标题翻译：表面检查装置和表面检查方法
公开(公告)号：JP5878198B2
公开(公告)日：2016-03-08
申请号：JP2014063711
申请日：2014-03-26
申请人：ケーエルエー−テンカーコーポレイション
发明人：ベヴィス・クリストファー・エフ. , サリバン・ポール・ジェイ. , ショート・デイビッド・ダブリュ. , クレン・ジョージ・ジェイ.
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G01N21/4738 , G01N21/8806 , G01N2021/8822

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