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12. 发明专利

JP4270277B2 Laser oscillator and the laser processing machine 有权
公开(公告)号：JP4270277B2
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：JP2006519127
申请日：2004-04-21
申请人：三菱電機株式会社
发明人：和郎杉原 , 聡西田 , 満樹黒澤
IPC分类号： H01S3/041 , H01S3/038
CPC分类号： H01S3/041 , H01S3/038

13. 发明专利

JP4184015B2 Narrow-band laser device 有权
公开(公告)号：JP4184015B2
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：JP2002274356
申请日：2002-09-20
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：理若林 , 徹鈴木
IPC分类号： H01S3/041 , H01S3/13

14. 发明专利

JP4081280B2 Laser device 有权
公开(公告)号：JP4081280B2
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：JP2002047413
申请日：2002-02-25
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：龍夫三村 , 了仏師田 , 伸治永井 , 理若林
IPC分类号： G02B5/18 , H01S3/041 , H01S3/225

15. 发明专利

JP3981682B2 Laser device 有权
公开(公告)号：JP3981682B2
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：JP2004301785
申请日：2004-10-15
申请人：ファナック株式会社
发明人：宏之吉田 , 龍介宮田 , 久忠町田 , 明彦西尾 , 祐司西川
IPC分类号： H01S3/041 , H01S3/04 , H01S3/042
CPC分类号： H01S3/04 , H01S5/02423

16. 发明专利

JP3979863B2 Discharge excitation gas laser device 有权
公开(公告)号：JP3979863B2
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：JP2002047866
申请日：2002-02-25
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：豊治井上 , 康文川筋
IPC分类号： H01S3/03 , H01S3/041

17. 发明专利

JP3826228B2 Laser oscillation device 有权
公开(公告)号：JP3826228B2
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：JP31817798
申请日：1998-11-09
申请人：独立行政法人日本原子力研究開発機構
发明人：章大図
IPC分类号： H01S3/03 , H01S3/032 , H01S3/041
CPC分类号： H01S3/0326 , H01S3/041

18. 发明专利

JP2005243892A Gas laser oscillation device and gas laser processing machine 审中-公开
标题翻译：气体激光振荡器和气体激光加工机
公开(公告)号：JP2005243892A
公开(公告)日：2005-09-08
申请号：JP2004051099
申请日：2004-02-26
申请人： Matsushita Electric Ind Co Ltd , 松下電器産業株式会社
发明人： SHINNO NOBUO , OMATSU HIDEFUMI
IPC分类号： H01S3/036 , H01S3/041
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To abolish a blower, a heat exchanger, and a gas circulation pipeline route for connecting between them; and to realize a gas laser oscillation device in small size/low cost and requiring no maintenance for a long period of time. SOLUTION: The laser medium 2 is moved to a discharging space 6, and a cooling means is provided in a discharge vessel 1 itself to change the moving direction of the laser medium 2 from the lengthwise direction of the discharge vessel 1 into another direction 27 orthogonal to the lengthwise direction. Under such designing condition as described above necessary laser medium moving speed is set as 1/10. A plurality of movable fins 31-36 arranged in the discharge vessel 1 are oscillated by a piezo-electric element 24 provided in respective movable fins to move circumferential laser medium 2 like as a fan to ventilate air into the discharging space 6. The laser medium 2 sent into the discharging space 6 becomes high temperature by discharge. However, a cooling water passage 23 is provided in the discharge vessel 1 to cool the inner wall of the discharge vessel 1 and the movable fins 31 through the laser medium 2 while air is ventilated again into the discharging space 6 by the oscillation of the movable fins 31 whereby laser oscillation can be carried out effectively. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：废除鼓风机，热交换器和气体循环管道路线，用于连接它们; 并且实现小型/低成本的气体激光振荡装置，并且不需要长时间的维护。解决方案：激光介质2移动到放电空间6，并且在放电容器1本身中设置冷却装置，以将激光介质2的移动方向从放电容器1的长度方向改变为另一个方向27与长度方向垂直。在如上所述的设计条件下，激光介质移动速度设定为1/10。布置在放电容器1中的多个可动翅片31-36通过设置在各个可动翅片上的压电元件24摆动，以像风扇一样移动周围的激光介质2，以将空气通入排放空间6.激光介质送到排放空间6的2通过排放变成高温。然而，在放电容器1中设置有冷却水通道23，以通过激光介质2冷却放电容器1的内壁和可动翅片31，同时空气通过可移动的振荡再次进入放电空间6 翅片31，从而可以有效地进行激光振荡。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

19. 发明专利

JP2005512333A Timing control of the two-chamber gas discharge laser system 有权
公开(公告)号：JP2005512333A
公开(公告)日：2005-04-28
申请号：JP2003550325
申请日：2002-10-23
申请人：サイマー, インコーポレイテッドCymer, Inc.
发明人：アレクサンダーアイアーショフ , リチャードエムネス
IPC分类号： H01S3/097 , G03F7/20 , H01S3/00 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/041 , H01S3/08 , H01S3/0943 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/102 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/23
CPC分类号： H01S3/0385 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , H01S3/0057 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2308 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要：本発明は、シード光注入モジュール式ガス放電レーザ（１１）のためのフィードバックタイミング制御装置及びその方法に関する。好適な実施形態は、約４，０００Ｈｚ又はそれ以上のパルス繰返し率で、約２０ワットから４０ワット又はそれ以上の総合出力を得るための約５ｍＪから１０ｍＪ又はそれ以上のパルスエネルギーの、高品質パルスレーザビームを生成することができるシステムである。フィードバックタイミング制御は、特定の状況では、システムから有意なレーザエネルギーが出力されないようにタイミング調整された放電を可能にするようにプログラムされる。この方法を使用することで、バーストの第１のレーザ出力パルスの前に、２つの室の各々のタイミングパラメータをモニタできるように、バーストの第１の放電が無出力放電であるバーストモード作動が可能になる。２つの別個の放電室が設けられており、第１の放電室は、第２の放電室で増幅される超狭帯域シードビームを生成する主発振器の一部である。２つの放電室は、別個に制御することができ、主発振器の波長パラメータの最適化、及び増幅室のパルスエネルギーパラメータの最適化が可能になる。

20. 发明专利

JP2004524706A Injection seed method f2 laser having a pre-injection filter 审中-公开
公开(公告)号：JP2004524706A
公开(公告)日：2004-08-12
申请号：JP2002580448
申请日：2002-04-04
申请人：サイマー, インコーポレイテッドCymer, Inc.
发明人：エクハードディオンケルス , リチャードエルサンドストロム , ウィリアムエヌパートロ
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/041 , H01S3/08 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/102 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/23
CPC分类号： H01S3/10092 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , H01S3/0078 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08063 , H01S3/08068 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2258 , H01S3/2325 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要：集積回路リソグラフィに有益な狭帯域Ｆ
2 レーザシステム。第１のＦ
2 レーザ利得媒体からの出力ビームは、約０．１ｐｍ又はそれ以下の帯域幅を有するシードビームを生成するためにプレ利得フィルタで濾過される。シードビームは、第２のＦ
2 レーザ利得媒体を含む電力利得段において増幅される。本システムの出力ビームは、約０．１ｐｍ又はそれ以下の半値全幅帯域幅を有する約５ｍＪを超えるパルスエネルギのパルスレーザビームである。好ましい実施形態では、プレ利得フィルタは、中心線波長のフィードバック制御を可能にする波長モニタを含み、従って、確実に所望の帯域幅範囲が電力利得段の中に注入されるようにプレ利得フィルタ光学装置を調節することができる。
【選択図】図５

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