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11. 发明专利

JP2008525750A Apparatus and method for monitoring the dewatering operation during lyophilization 审中-公开
公开(公告)号：JP2008525750A
公开(公告)日：2008-07-17
申请号：JP2007547594
申请日：2005-12-19
申请人：アルカテル−ルーセント
发明人：ノミネ，シリル
IPC分类号： F26B5/10 , F26B25/00 , G01N21/68 , H05H1/00 , H05H1/46
CPC分类号： G01N21/68 , F26B5/06
摘要： The device has an analyzer to analyze a gas contained in a freeze-drying enclosure (10). The analyzer has a gas ionization system (1) with a plasma source, in contact with the gas, combined with a generator generating the plasma. An ionized gas analyzing system has a sensor (20) arranged near the plasma source connected to an optical emission spectrometer (22) for analyzing an evolution of a radiation spectrum emitted by the plasma. An independent claim is also included for a method of controlling a dehydration operation during a freeze-drying process.

12. 发明专利

JP3992618B2 The system and method for the gas discharge spectroscopy 有权
公开(公告)号：JP3992618B2
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：JP2002546193
申请日：2001-11-29
申请人：ウーテック、リミテッドUutech Limited
发明人：ジェームス、マクローリン , ポール、マグアイヤー
IPC分类号： G01N21/67 , G01N21/68 , G01N33/00
CPC分类号： G01N33/0047 , G01N21/68

13. 发明专利

JP3959318B2 Plasma leak monitoring method, a plasma processing apparatus, a plasma processing method, and computer program 有权
公开(公告)号：JP3959318B2
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：JP2002241454
申请日：2002-08-22
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：秀樹田中
IPC分类号： C23C16/505 , H01L21/3065 , G01J1/00 , G01N21/68 , G01R31/26 , G01T1/24 , H01J37/32 , H01L21/00 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/32935 , G01N21/68 , G01N2201/0227 , G01N2201/023

14. 发明专利

JP3725218B2 Spectrometer with a selectable radiation from the induction plasma source 失效
公开(公告)号：JP3725218B2
公开(公告)日：2005-12-07
申请号：JP27101795
申请日：1995-10-19
申请人：ピーイーコーポレイション (エヌワイ)
发明人：ダブリュバーナードトーマス , アイクロケットマイケル , ダブリュハックスマイケル
IPC分类号： G01N21/73 , G01N21/68
CPC分类号： G01N21/68

15. 发明专利

JP2005512274A Capacitive discharge plasma ion source 审中-公开
公开(公告)号：JP2005512274A
公开(公告)日：2005-04-28
申请号：JP2003519958
申请日：2002-08-08
申请人：シオネックス・コーポレーションSionex Corporation
发明人：アイスマン・ゲリー・エー , カウフマン・ローレンス・エー , クリロフ・イブゲニー , ナザロブ・アーキンジョン・ジー , ミラー・ラーナン・エー
IPC分类号： G01N27/62 , G01N21/68 , G01N27/68 , H01J49/10 , H01J49/26 , H01J49/40 , H01S3/223 , H05H1/24 , H05H1/46
CPC分类号： G01N21/68 , G01N27/622 , H01J37/32091 , H01J49/0095 , H01J49/105 , H01S3/2232 , H05H1/2406 , H05H1/46 , H05H2001/2418 , H05H2001/4675
摘要：化学分析システム（１０）に関する。このシステムでは、ＲＦ駆動プラズマ・イオン化器（１１）が間隔を空けたプラズマから遮断された1対の電極（１４，１６）を有する。これら電極（１４，１６）は電源（２２）に接続されており、電極（１４，１６）は共振回路（２２ｃ）のキャパシタのプレートとして作用し、ガス（Ｓ）が電気的に放電して正イオンおよび負イオンの両方のプラズマを生成する。電圧は、連続する交番波形またはパケット波形のような一連のパルスとして印加される。

16. 发明专利

JP6374447B2 温度を含む駆動条件を考慮した実効的駆動時間と残存寿命が算出可能なレーザ装置审中-公开
公开(公告)号：JP6374447B2
公开(公告)日：2018-08-15
申请号：JP2016136319
申请日：2016-07-08
申请人：ファナック株式会社
发明人：瀧川宏 , 鍵和田哲史
IPC分类号： H01S3/0941 , H01S3/00 , H01S5/00
CPC分类号： H01S5/0021 , G01J3/02 , G01N21/64 , G01N21/68 , H01S5/02423 , H01S5/062 , H01S5/0683 , H01S5/06837

17. 发明专利

JP2018006713A 温度を含む駆動条件を考慮した実効的駆動時間と残存寿命が算出可能なレーザ装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018006713A
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：JP2016136319
申请日：2016-07-08
申请人：ファナック株式会社
发明人：瀧川宏 , 鍵和田哲史
IPC分类号： H01S3/0941 , H01S3/00 , H01S5/00
CPC分类号： H01S5/0021 , G01J3/02 , G01N21/64 , G01N21/68 , H01S5/02423 , H01S5/062 , H01S5/0683 , H01S5/06837
摘要：【課題】光源部の温度による寿命消費と、光出力あるいは駆動電流等の駆動条件による寿命消費と、光源部の個体差を考慮した、レーザ装置の光源部の残存寿命を予測する方法を提供する。【解決手段】第1算出部が、標準温度、標準条件値の場合を基準とした、光源部の寿命消費の加速係数を算出し、第2算出部が、個々の光源部の性能指数または性能指数の変化速度に対して、個々の光源部の生涯寿命または残存寿命を算出し、計算部が、前記加速係数の時間積分を計算することにより、標準温度、標準条件値で駆動した場合と寿命に与える影響の大きさが等価である実効的累積駆動時間を求め、記録部が、前記実効的累積駆動時間および前記生涯寿命または残存寿命を、光源部の光出力特性と共に記録する。【選択図】図1

18. 发明专利

JPWO2015001591A1 シリカガラスルツボの検査方法有权
标题翻译：石英玻璃坩埚的检查方法
公开(公告)号：JPWO2015001591A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2015524912
申请日：2013-06-30
申请人：株式会社Sumco
发明人：俊明須藤 , 忠広佐藤 , 賢北原 , 真美大原
IPC分类号： G01N21/3563 , C03B20/00 , C30B15/10 , G01N21/65 , G01N21/88
CPC分类号： H01J37/32935 , C30B15/00 , C30B15/10 , C30B15/14 , C30B29/06 , C30B35/002 , G01N21/3563 , G01N21/65 , G01N21/68 , G01N21/95 , G01N2021/8477 , G01N2201/105 , G01N2201/12
摘要：シリカガラスルツボの内表面上の測定点において、赤外吸収スペクトル又はラマンシフトを測定する測定工程、および得られたスペクトルに基づいて、前記測定点に表面欠陥部位が発生するかどうかを予測し、前記シリカガラスルツボの品質を判断する判断工程を備えることを特徴とするシリカガラスルツボの検査方法である。
摘要翻译：在石英玻璃坩埚的内表面上的测量点，测量过程的基础上，并且将所得光谱测定红外吸收光谱或拉曼位移，并在预测是否表面缺陷位点在测量点产生石英玻璃坩埚的检查方法，其特征在于它包括：确定所述石英玻璃坩埚的质量的确定步骤。

19. 发明专利

JP2017040614A オンライン移送した分析試料の分析システム有权
标题翻译：分析样品网上转账的分析系统
公开(公告)号：JP2017040614A
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2015163751
申请日：2015-08-21
申请人：株式会社イアス
发明人：川端克彦 , 一之瀬達也 , 池内満政
IPC分类号： G01N21/73
CPC分类号： G01N21/68 , G01N21/714 , G01N21/73 , G01N21/85 , G01N27/62 , H01J49/105 , G01N2001/002 , G01N2001/1006 , G01N2021/8411
摘要：【課題】本発明は、分析試料をオンライン移送可能としつつ、迅速に分析結果を得ることのできる分析システムに関する。また、2以上の現場から供給される分析試料について、1台の分析装置で分析可能としつつ、ネブライザーやスプレーチャンバー等の洗浄工程を要しない分析システムを提供する。【解決手段】本発明は、2以上の試料別移送手段を備えるとともに、試料別移送手段の各試料移送経路が、誘導結合プラズマ若しくはマイクロ波プラズマを利用した分析装置からなる共通分析手段のプラズマトーチと接続しており、各試料移送経路には、メイン流路とメイクアップガス供給路とドレイン流路とを有し、プラズマトーチは、略中央に霧化した分析試料を導入する試料導入管を有し、ドレイン流路の内径は、プラズマトーチの試料導入管の入り口部分の内径と同等以上である分析システムに関する。【選択図】図2
摘要翻译：本发明公开了分析样品而网上转移，能够获得快速分析的分析系统。此外，从两个或多个位点提供的分析样品，而在一个分析装置使分析，以提供不需要分析系统中的洗涤步骤，例如雾化器和雾化室。本发明设置有两个或更多个样品由转印手段，共同分析的等离子炬装置，通过转移的样本的每个样本传输路径是指，由使用感应耦合等离子体或微波等离子体光谱仪的被连接到所述中，在每个样品转移路径，并且主流动路径和补充气体供给通道和所述排水通道，一个等离子体焰炬，一个样品导入管用于引入分析样品在大致中央雾化它具有排水通道的内径，所述内和分析系统的入口部分等同于或大于所述等离子体焰炬的样品导入管。 .The

20. 发明专利

JP2016057300A 光学的にディザされた原子ジャイロコンパス审中-公开
标题翻译： ATOM GYRO COMPASS被光学扫描
公开(公告)号：JP2016057300A
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：JP2015176496
申请日：2015-09-08
申请人：ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド
发明人：ロバート・コンプトン
IPC分类号： G01C19/58
CPC分类号： G01C19/58 , G01C17/00 , G01N21/64 , G01N21/68 , G01P15/08 , H01J37/32935
摘要：【課題】光学的にディザされた原子ジャイロコンパスのためのシステム及び方法を提供する。【解決手段】レーザ冷却されたアルカリ原子からなる雲を収容した真空チャンバであって、原子は、重力の影響下で自由に落下することができる、真空チャンバと、第1のセットのレーザビーム310を第1軸に沿って雲の中へ照射する第1のセットのレーザ源121、122と、第2のセットのレーザビーム320を第2軸に沿って雲の中へ照射する第2のセットのレーザ源123,124と、を備え、第1のセットと第2のセットのレーザビームは、平面を規定する軌道に沿って原子の波動関数を分離するコヒーレントなレーザパルスを照射し、波動関数は、平面に直交する軸230の周りの回転に対して感受性を有し、第1と第2のセットのレーザ源は、第2のレーザビームに対する第1のレーザビームの相対的な振幅を変調することによって軸にディザリングを加える。【選択図】図3C
摘要翻译：要解决的问题：提供光学抖动的原子陀螺罗盘的系统和方法。解决方案：原子陀螺罗盘包括：存储被激光冷却的碱原子形成的云的真空室，其中原子可以下降自由地受重力的影响; 第一组激光源121,122，用于沿第一轴辐射第一组激光束310到云内; 以及第二组激光源123,124，用于沿第二轴辐射第二组激光束320到云内。第一组和第二组的激光束辐射相干激光脉冲，用于沿着限定平面的轨迹分离原子的波函数，其中波函数具有与轴230正交的垂直于平面的旋转的敏感性。第一组和第二组的激光源通过调制第一激光束相对于第二激光束的相对振幅而施加到轴上的抖动。选择的图示：图3C

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