专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JPWO2014129246A1 基板のエッチング装置及び基板の分析方法有权
标题翻译：蚀刻装置的分析方法和基板的基板
公开(公告)号：JPWO2014129246A1
公开(公告)日：2017-02-02
申请号：JP2015501362
申请日：2014-01-21
申请人：株式会社イアス , 株式会社イアス
发明人：川端　克彦 , 克彦川端 , 匠馬林 , 匠馬林 , 満政池内 , 満政池内 , ソンジェイー , ソンジェイー , 仁国香 , 仁国香
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L22/12 , G01N1/32 , H01J37/32449 , H01J37/32834 , H01J2237/334 , H01L21/3065 , H01L21/67069
摘要：本発明は、基板上のポリシリコンや、基板を構成するバルクシリコンのエッチングに好適なエッチング装置を提供する。本発明は、エッチングガスを基板の周縁より略中心へと流動させるガス流動調整手段を備えるエッチング装置に関し、ポリシリコンやバルクシリコンを、基板全面について均一な厚みでエッチング可能とする技術に関する。また、ガス流動調整手段は上下動可能に設置されており、その調整によりエッチング速度を制御できる。
摘要翻译：本发明，并且在所述基板上的多晶硅，构成衬底的体硅的蚀刻提供合适的蚀刻装置。本发明涉及一种包括一个燃气流量调节的蚀刻设备装置，用于流动的蚀刻气体至大致中央比衬底，多晶硅或块状硅，一种使蚀刻所述基板的整个表面上形成均匀厚度的外周。燃气流量控制装置被设置可垂直移动，它可以通过调整来控制蚀刻速率。

2. 发明专利

JP2017116313A シリコン基板用分析装置有权
公开(公告)号：JP2017116313A
公开(公告)日：2017-06-29
申请号：JP2015249588
申请日：2015-12-22
申请人：株式会社イアス , Ias Inc , 株式会社イアス
发明人： KAWABATA KATSUHIKO , ICHINOSE TATSUYA , HAYASHI TAKUMA
IPC分类号： G01N27/62 , G01N1/28 , G01N1/32
CPC分类号： G01N1/28 , G01N1/32 , G01N27/62
摘要：【課題】本発明は、膜厚の厚い窒化膜や酸化膜が成膜されたシリコン基板における微量金属等の不純物を、ICP−MSにより高精度に分析可能なシリコン基板用分析装置を提供する。【解決手段】本発明は、ロードポート、基板搬送ロボット、アライナー、乾燥室、気相分解チャンバー、分析ステージ及び基板分析用ノズルを有する分析スキャンポート、分析液採取手段、誘導結合プラズマ分析する分析手段を備えるシリコン基板用分析装置であって、酸化膜や窒化膜が成膜されたシリコン基板を、基板分析用ノズルにより高濃度回収液でシリコン基板表面を掃引して回収し、回収した高濃度回収液をシリコン基板表面に吐出後、加熱乾燥して、分析液によりシリコン基板表面を掃引して回収し、分析液をICP−MSで分析することを特徴とする。【選択図】図1

3. 发明专利

JP2014206378A ヨウ素１２９の分析方法及び装置审中-公开
标题翻译：分析方法和碘的设备129
公开(公告)号：JP2014206378A
公开(公告)日：2014-10-30
申请号：JP2011177445
申请日：2011-08-15
申请人：株式会社イアス , Ias Inc , 株式会社イアス
发明人： KAWABATA KATSUHIKO , SUZUKI JUNJI , KUNIKA JIN
IPC分类号： G01N27/62
CPC分类号： G01N27/62 , H01J49/045 , H01J49/105
摘要：【課題】本発明は、10−10レベルのように微量なヨウ素129が含まれる分析試料も、高感度に分析可能な方法を提供する。【解決手段】本発明は、分析試料を誘導結合プラズマによりイオン化し、当該イオンをイオンレンズで選択的に収束させて、質量分析することにより、ヨウ素129/ヨウ素127の同位体比を決定するヨウ素129の分析方法において、イオン化の際、キャリアガスであるアルゴンガスとともに、水素ガス又は窒素ガスを添加する分析方法に関する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供能够高灵敏度地分析含有微量等量的碘的痕量的129的分析样品的方法。解决方案：在本发明的碘129的分析方法中，将分析样品电离通过电感耦合等离子体，离子选择性地与离子透镜收敛，并进行质量分析，从而确定碘129 /碘127的同位素比。在电离期间，加入氩气作为载气，并加入氢气或氮气。

4. 发明专利

JP2020106303A 基板分析方法および基板分析装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020106303A
公开(公告)日：2020-07-09
申请号：JP2018242929
申请日：2018-12-26
申请人：株式会社イアス
发明人：川端克彦 , イーソンジェ , 林匠馬
IPC分类号： H01L21/66 , G01N1/28
摘要：【課題】基板端部を、より簡易で迅速に分析することができる分析技術を提供する。【解決手段】先端から分析液Dを吐出し、吐出した分析液Dで基板Wの表面を掃引した後に分析液Dを吸引する基板分析用のノズル(配管110、第一外管120、第二外管130とからなる三重管で構成)を用いた基板分析方法において、ノズルの先端と対向する位置に、吐出される分析液Dを受け止めるための液受止め板を配置し、配管110の先端から吐出した分析液Dをノズルの先端と液受止め板との間に保持し、ノズルの先端と液受止め板との間に、基板Wの端部を挿入できるように基板Wを位置調整し、基板Wの端部を、ノズルの先端と液受止め板との間に保持された分析液Dに接触させ、基板Wの端部が分析液Dに接触した状態で、ノズルと液受止め板とを基板の周縁に沿って同時に移動させることにより、基板端部を分析する。【選択図】図4

5. 发明专利

JP6328003B2 レーザーアブレーションICP分析方法及び分析装置有权
公开(公告)号：JP6328003B2
公开(公告)日：2018-05-23
申请号：JP2014164656
申请日：2014-08-13
申请人：株式会社イアス
发明人：川端克彦 , 一之瀬達也 , 国香仁
IPC分类号： G01N27/62 , G01N1/28

6. 发明专利

JP2017040614A オンライン移送した分析試料の分析システム有权
标题翻译：分析样品网上转账的分析系统
公开(公告)号：JP2017040614A
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2015163751
申请日：2015-08-21
申请人：株式会社イアス
发明人：川端克彦 , 一之瀬達也 , 池内満政
IPC分类号： G01N21/73
CPC分类号： G01N21/68 , G01N21/714 , G01N21/73 , G01N21/85 , G01N27/62 , H01J49/105 , G01N2001/002 , G01N2001/1006 , G01N2021/8411
摘要：【課題】本発明は、分析試料をオンライン移送可能としつつ、迅速に分析結果を得ることのできる分析システムに関する。また、2以上の現場から供給される分析試料について、1台の分析装置で分析可能としつつ、ネブライザーやスプレーチャンバー等の洗浄工程を要しない分析システムを提供する。【解決手段】本発明は、2以上の試料別移送手段を備えるとともに、試料別移送手段の各試料移送経路が、誘導結合プラズマ若しくはマイクロ波プラズマを利用した分析装置からなる共通分析手段のプラズマトーチと接続しており、各試料移送経路には、メイン流路とメイクアップガス供給路とドレイン流路とを有し、プラズマトーチは、略中央に霧化した分析試料を導入する試料導入管を有し、ドレイン流路の内径は、プラズマトーチの試料導入管の入り口部分の内径と同等以上である分析システムに関する。【選択図】図2
摘要翻译：本发明公开了分析样品而网上转移，能够获得快速分析的分析系统。此外，从两个或多个位点提供的分析样品，而在一个分析装置使分析，以提供不需要分析系统中的洗涤步骤，例如雾化器和雾化室。本发明设置有两个或更多个样品由转印手段，共同分析的等离子炬装置，通过转移的样本的每个样本传输路径是指，由使用感应耦合等离子体或微波等离子体光谱仪的被连接到所述中，在每个样品转移路径，并且主流动路径和补充气体供给通道和所述排水通道，一个等离子体焰炬，一个样品导入管用于引入分析样品在大致中央雾化它具有排水通道的内径，所述内和分析系统的入口部分等同于或大于所述等离子体焰炬的样品导入管。 .The

7. 发明专利

JP5881166B2 基板分析用ノズル有权
标题翻译：用于分析的喷嘴基板
公开(公告)号：JP5881166B2
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：JP2012134629
申请日：2012-06-14
申请人：株式会社イアス
发明人：川端克彦 , イーソンジェ , 国香仁 , 鈴木淳司
IPC分类号： G01N1/00

8. 发明专利

JP2008134071A Liquid taking out method and its device 审中-公开
标题翻译：液体检测方法及其设备
公开(公告)号：JP2008134071A
公开(公告)日：2008-06-12
申请号：JP2006318492
申请日：2006-11-27
申请人： Ias Inc , 株式会社イアス
发明人： KAWABATA KATSUHIKO , ICHINOSE TATSUYA
IPC分类号： G01N1/00 , G01F1/708
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and device capable of taking out liquid continuously without using a pump.
SOLUTION: At the other end side (300) of a conduit (100), of which one end side is immersed in liquid, gas injected from the outside is forced to jet, and liquid is taken out utilizing the sucking action of negative pressure generated by air current. The injecting pressure of the gas is controlled so as to keep the flowrate of the liquid in the conduit constant. The flowrate is measured based on the time difference for a bubble to pass between the two points (112, 114) on the conduit. The bubble is optically detected at the detecting points. The bubble is periodically mixed into the liquid (116). The gas is separated from the taken-out liquid (600). The separated liquid is mixed with dilution liquid (800).
COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供能够连续地取出液体而不使用泵的方法和装置。解决方案：在管道（100）的另一端（300），其一端浸没在液体中，从外部注入的气体被迫喷射，并且利用吸附作用吸出液体气流产生负压。控制气体的注入压力以使液体在导管中的流速保持恒定。基于气泡在导管上的两个点（112,114）之间通过的时间差来测量流量。气泡在检测点被光学检测。气泡周期性地混合到液体（116）中。气体与取出的液体（600）分离。将分离的液体与稀释液（800）混合。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP6108367B1 シリコン基板用分析装置有权
公开(公告)号：JP6108367B1
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：JP2015249588
申请日：2015-12-22
申请人：株式会社イアス
发明人：川端克彦 , 一之瀬達也 , 林匠馬
IPC分类号： G01N1/28 , G01N1/32 , G01N27/62
CPC分类号： G01N1/28 , G01N1/32 , G01N27/62
摘要：【課題】本発明は、膜厚の厚い窒化膜や酸化膜が成膜されたシリコン基板における微量金属等の不純物を、ICP−MSにより高精度に分析可能なシリコン基板用分析装置を提供する。【解決手段】本発明は、ロードポート、基板搬送ロボット、アライナー、乾燥室、気相分解チャンバー、分析ステージ及び基板分析用ノズルを有する分析スキャンポート、分析液採取手段、誘導結合プラズマ分析する分析手段を備えるシリコン基板用分析装置であって、酸化膜や窒化膜が成膜されたシリコン基板を、基板分析用ノズルにより高濃度回収液でシリコン基板表面を掃引して回収し、回収した高濃度回収液をシリコン基板表面に吐出後、加熱乾燥して、分析液によりシリコン基板表面を掃引して回収し、分析液をICP−MSで分析することを特徴とする。【選択図】図1

10. 发明专利

JP2016223803A 誘導結合プラズマ又はマイクロ波プラズマ分析用の希釈システム审中-公开
标题翻译：用于微波等离子体分析电感耦合等离子体或稀释剂系统
公开(公告)号：JP2016223803A
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：JP2015107530
申请日：2015-05-27
申请人：株式会社イアス
发明人：川端克彦 , 一之瀬達也 , 池内満政
IPC分类号： G01N27/62 , G01N21/73 , G01N1/10
CPC分类号： G01N1/10 , G01N21/73 , G01N27/62
摘要：【課題】本発明は、分析試料をオンライン供給する誘導結合プラズマ又はマイクロ波プラズマ分析用の希釈システムにおいて、複数の供給源からの分析試料を1台の分析装置で分析する場合にも好適なシステムを提供する。【解決手段】本発明は、一定長さの試料定量区域(Q)及び定量用ドレイン流路(D dq )を備えた定量手段、混合手段、及び分析手段を有する希釈システムに関する。本発明の希釈システムは、微量の分析試料も正確に希釈することができる。また、複数の現場からサンプリングした分析試料を、試料同士の汚染を生じることなく、1台の分析装置で分析することも可能になる。【選択図】図1
摘要翻译：公开的是用于在用于提供感应耦合等离子体或微波等离子体分析，在一个分析仪器分析来自多个源的被分析物时适当的系统采样线的分析稀释系统提供。本发明涉及一种具有一个稀释系统的给药装置，混合装置，和分析具有预定长度（Q）和所述量确定所述排水通道（DDQ）的样品量化部分的装置。本发明的稀释系统可以分析的准确稀释微量的样品。此外，从多个部位进行采样，而不之间使样品污染的分析样品，它也能够在一个分析装置来分析。点域1

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式