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2. 发明专利

JP5906501B2 分析装置有权
公开(公告)号：JP5906501B2
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：JP2012534004
申请日：2011-09-12
申请人：イマジニアリング株式会社
发明人：池田裕二 , 寉岡亮治
IPC分类号： G01N21/68 , G01N21/63
CPC分类号： G01J3/02 , G01J3/443 , G01N21/68 , G01N21/718

3. 发明专利

JP5886752B2 深紫外対応グレードの光ファイバを使用するフォトニック計測装置有权
标题翻译：使用深光纤紫外线相应等级光子测量装置
公开(公告)号：JP5886752B2
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：JP2012539875
申请日：2010-11-19
申请人：パーキンエルマーヘルスサイエンセズインコーポレイテッド
发明人：イヴァルディ,ジュアン,シー , セイント・シル,ポール,エル , チョウ,ユージーン , ワーナー,マーク,シー
IPC分类号： G01N21/33 , G01N21/31
CPC分类号： G01N21/3103 , G01N21/3151 , G01N21/68 , G01N21/72 , G01N21/74 , G01N2201/082 , G01N2201/0826 , G01N2201/0833

4. 发明专利

JP2015194402A ICP発光分光分析装置有权
标题翻译： ICP发射光谱仪
公开(公告)号：JP2015194402A
公开(公告)日：2015-11-05
申请号：JP2014072522
申请日：2014-03-31
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：松澤修
IPC分类号： G01N21/73
CPC分类号： G01J3/443 , G01J3/06 , G01N21/68 , G01N21/73
摘要：【課題】二次元検出部を用い、かつ、出射光の結像形状に応じて二次元検出部の使用する画素を変更させ、正確な強度を得ることができるICP発光分光分析装置を提供する。【解決手段】ICP発光分光分析装置1は、誘導結合プラズマ発生部10と、集光部20と、分光器30と、二次元検出部40と、制御部50とから概略構成されている。二次元検出部40は、面状に敷き詰められた複数の画素を有するCCDイメージセンサ41を備え、分光器30から出射した出射光を複数の画像上に結像させて出射光を検出する。そして、制御部50は、検出対象である出射光の結像形状に応じて、複数の画素のうち出射光の検出に使用する画素を決定する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可以使用二维检测部分的ICP发射光谱装置，并且根据发射光束的成像形状改变由二维检测部分使用的像素以获得准确的强度。 ICP发光分析装置1包括电感耦合等离子体产生部10，光缩合部20，光谱仪30，二维检测部40以及控制部50.二维检测部40包括CCD 图像传感器41具有布置成平面形状的多个像素，并且将从分光计30发射的发射光束成像在多个图像上以检测发射光束。控制部分50根据作为检测对象的发射光束的图像形成形状来确定用于从多个像素中检测发射光束的像素。

5. 发明专利

JP2015184267A ICP発光分光分析装置有权
标题翻译： ICP发射光谱仪
公开(公告)号：JP2015184267A
公开(公告)日：2015-10-22
申请号：JP2014063959
申请日：2014-03-26
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：中川良知
IPC分类号： G01N21/73
CPC分类号： G01N21/73 , G01J3/443 , G01N21/68 , H01J49/105 , H05H1/30
摘要：【課題】予め光電子増倍管に電圧を印加して速やかに本分析に移行することができるICP発光分光分析装置を提供する。【解決手段】ICP発光分光分析装置1は、誘導結合プラズマ発生部10と、集光部20と、分光器30と、検出器40と、制御部60とから概略構成されている。また、検出器40には、光電子増倍管70が備えられ、検出器制御部41と入力部42とを有している。光電子増倍管70には分圧抵抗r 1 〜r n があるため光電子増倍管70に印加される印加電圧Veの変化により増幅率が直ぐには一定にならないが、予め入力部42への分析条件の入力後から、分析対象の元素を含む試料の誘導結合プラズマ装置10への導入の前までの期間において、検出器制御部41が空転電圧と空転電圧印加時間を制御して、倍増率を一定にさせる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够通过预先施加到光电倍增器上的电压快速转移到主分析的ICP发射光谱仪。解决方案：ICP发射光谱仪1示意性地由以下组成：电感耦合等离子体产生单元10; 光收敛单元20; 光谱仪30; 检测器40; 和控制单元60.在检测器40中，设置有光电倍增管70，并具有检测器控制单元41和输入单元42.光电倍增管70具有提供的分压阻抗，从而进行放大因为施加到光电倍增管70的施加电压Ve的变化，而是在将包括分析对象的化学元素的样品引入到电感耦合等离子体产生单元之前的时间段内，因子不是立即均匀在检测器控制单元41预先向输入单元42输入分析条件之后，如图10所示，控制空闲电压和空闲电压施加时间，并使乘法因子均匀。

6. 发明专利

JP5383265B2 Etching equipment, analysis equipment, etching processing method, and etching treatment program 有权
公开(公告)号：JP5383265B2
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：JP2009063896
申请日：2009-03-17
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：利浩森澤 , 大輔白石 , 智己井上
IPC分类号： H01L21/3065 , C23F4/00
CPC分类号： G01N21/68 , H01J37/32935 , H01J37/32972 , H05H1/0037

7. 发明专利

JP5317692B2 Plasma spectroscopy system having a gas source 有权
公开(公告)号：JP5317692B2
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：JP2008503318
申请日：2006-03-31
申请人：アジレント・テクノロジーズ・オーストラリア(エム)プロプライエタリー・リミテッド
发明人：ハマー，マイケル，ロン
IPC分类号： G01N21/73 , B01D53/04 , G01N21/68 , G01N27/62 , H05H1/30
CPC分类号： H01J49/105 , G01N21/68 , G01N21/73 , H05H1/30
摘要： A spectroscopy system for spectro-chemical analysis of a sample includes a plasma torch (50) for generating a microwave induced plasma (90) as a spectroscopic source. The plasma forming gas is nitrogen which can contain an oxygen impurity. Thus the system includes a nitrogen generator (70) which is preferably supplied with compressed atmospheric air from a compressor (75) for oxygen to be removed from the air by adsorption. The invention allows the use of an on-site nitrogen gas generator and thus gives cost savings because the need to obtain supplies of bottled high purity gas is eliminated.

8. 发明专利

JP2009231562A Substrate for observation and observation system 审中-公开
标题翻译：观测和观察系统基础
公开(公告)号：JP2009231562A
公开(公告)日：2009-10-08
申请号：JP2008075604
申请日：2008-03-24
申请人： Tokyo Electron Ltd , 東京エレクトロン株式会社
发明人： YAMAZAWA YOHEI , KOSHIMIZU CHISHIO
IPC分类号： H01L21/3065 , H05H1/00
CPC分类号： G01N21/68 , G01N2021/1765 , H01J37/32935 , H01J37/32972 , H01L21/67253
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for observation capable of observing overall emission distribution of plasma. SOLUTION: A wafer 43 for observation observing an emission state of the plasma of a processing space S in a process module 12 of a substrate processing system 10 includes: a proximal 44; and plural imaging units 45 which are arranged on a surface 44a facing to the processing space S of the proximal 44, wherein each of the imaging units 45 includes a lens 46 and an image sensor 47, and the image sensor 47 has a memory which stores a taken image. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供能够观察等离子体的总体发射分布的观察用基板。解决方案：用于观察在基板处理系统10的处理模块12中观察处理空间S的等离子体的发射状态的晶片43包括：近端44; 以及多个成像单元45，其布置在面向近端44的处理空间S的表面44a上，其中每个成像单元45包括透镜46和图像传感器47，并且图像传感器47具有存储器拍摄的图像。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2008542780A Gas control device 审中-公开
公开(公告)号：JP2008542780A
公开(公告)日：2008-11-27
申请号：JP2008515263
申请日：2006-06-05
申请人：アルカテル−ルーセント
发明人：ノミネ，シリル , ピエールジヤン，デイデイエ
IPC分类号： G01N21/68
CPC分类号： G01N21/68 , H01J37/32935
摘要：本発明は磁場に対して透過性がある密閉周壁６によって限定され、制御されるべき気体種類がその中に存在する処理チャンバ１１などのチャンバと接続された軸状突起部５を含む気体制御装置１に関する。光放射センサ３は、チャンバの軸状突起部５の端部に配置され、光が光ファイバ４ａを介して光学分光計４に送られることを可能にする。プラズマ発生器１７、１８は、チャンバの軸状突起部５の内部空間８に制御プラズマ１６を発生させる。１つまたは複数の磁石７、７ａは、チャンバの軸状突起部５の周壁６の外側に配置され、制御プラズマ１６のイオン化粒子がセンサ３の方へ伝播されることを防ぐ磁性障壁を形成するために、センサ３に近接の磁場９を発生させ、それにより、センサ３およびチャンバが汚れることを防ぐ。

10. 发明专利

JP2008241283A Particle density measuring probe and particle density measuring instrument 有权
标题翻译：颗粒密度测量探头和颗粒密度测量仪器
公开(公告)号：JP2008241283A
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：JP2007078267
申请日：2007-03-26
申请人： Katagiri Engineering:Kk , Nu Eco Engineering Kk , Nuエコ・エンジニアリング株式会社 , 株式会社片桐エンジニアリング
发明人： HORI MASARU , TAKASHIMA NARITSUYO , KANO HIROYUKI , DEN SHOJI
IPC分类号： G01N21/31 , B01J19/08 , C23C16/50 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H05H1/00
CPC分类号： H05H1/0037 , G01N21/15 , G01N21/68
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately measure particle density without disturbing a plasma state. SOLUTION: The particle density measuring probe is constituted so as to measure the atom or molecule density of a plasma atmosphere by spectrum diffraction of absorbance and has the reflecting plate 14 provided to the leading end part 13 of the columnar light guide body 2, provided in the plasma atmosphere and the plasma introducing part 15 provided on this side of the reflecting plate 14 and constituted so that a part from which a part of a wall surface is omitted is formed in the longitudinal direction of the light guide body in the vertical cross section in the longitudinal direction of the light guide body and the light passed through this part and atoms or molecules in the plasma atmosphere are brought to a contact state. A light transmission body 2 is positioned on this side of the plasma introducing part 15 to guide light, in the axial direction by the total reflection due to a side wall. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：准确地测量颗粒密度而不干扰等离子体状态。解决方案：颗粒密度测量探针构成为通过吸收光谱衍射测量等离子体气氛的原子或分子密度，并且具有设置在柱状导光体2的前端部13的反射板14 设置在等离子体气氛中的等离子体引入部15和设置在反射板14的这一侧的等离子体引入部15，并且构成为在导光体的纵向方向上形成从壁部的一部分被省略的部分在导光体的长度方向上的垂直截面以及通过该部分的光以及等离子体气氛中的原子或分子成为接触状态。光传输体2位于等离子体引入部15的这一侧上，以沿轴向引导由于侧壁引起的全反射的光。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

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