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11. 发明专利

JP5707291B2 画像分類支援を行う荷電粒子線装置有权
标题翻译：执行图像分类支持带电粒子束装置
公开(公告)号：JP5707291B2
公开(公告)日：2015-04-30
申请号：JP2011213683
申请日：2011-09-29
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：平井大博 , 小原健二 , 三宅孝造
IPC分类号： H01J37/24 , H01J37/22 , H01J37/28 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G06T7/0004 , H01L22/12 , H01L22/20 , H01J2237/2817

12. 发明专利

JP2020043266A 半導体ウェハの欠陥観察システム及び欠陥観察方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020043266A
公开(公告)日：2020-03-19
申请号：JP2018170923
申请日：2018-09-12
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：原田実 , 高木裕治 , 近藤直明 , 平井大博 , 嶺川陽平
IPC分类号： G01N23/2251 , H01J37/22 , H01L21/66
摘要：【課題】半導体ウェハを観察する装置であって、ウェハ外周部の画像を撮像すると画像視野内においてウェハ内領域と背景領域の位置関係が一定とならず、欠陥検出や画像分類処理における演算量の増大や頑健性の低下を引き起こし、効率的な欠陥観察・解析が困難となる。【解決手段】半導体ウェハの欠陥観察システムであって、半導体ウェハを搭載するための、XY方向に移動可能なステージと、半導体ウェハのエッジを含んだ部位を撮像するための撮像手段と、撮像して得られた複数の画像に対し、ウェハのエッジが複数の画像内で、ほぼ平行である画像を出力するための画像出力手段と、を備える、欠陥観察システムとする。【選択図】図5

13. 发明专利

JP2019148898A ウェハ観察装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019148898A
公开(公告)日：2019-09-05
申请号：JP2018032142
申请日：2018-02-26
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：近藤直明 , 原田実 , 高木裕治 , 平井大博
IPC分类号： G01B15/04 , H01L21/66 , G06T7/00
摘要：【課題】ウェハ観察装置において、アライメントマークの外観がウェハの製造工程や品種によって異なる場合でもユーザへの負荷を抑制する。【解決手段】汎用テンプレート生成部211は、アライメントマークを含む入力画像の中から、テンプレート画像との類似度が第1の類似度を有する第1の領域と、テンプレート画像との類似度が第1の類似度とは異なる第2の類似度を有する第2の領域を切り出すことにより汎用テンプレート画像を生成する。【選択図】図2

14. 发明专利

JP2019132637A 欠陥観察装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019132637A
公开(公告)日：2019-08-08
申请号：JP2018013472
申请日：2018-01-30
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：大谷祐子 , 嶺川陽平 , 信原岳 , 神崎伸彦 , 平井大博 , 福田美由樹 , 磯前裕也 , 八重嶋香里 , 高木裕治
IPC分类号： H01L21/66 , G01N21/956
摘要：【課題】欠陥観察装置において、欠陥サイズによらず高精度で欠陥を検出する。【解決手段】光学顕微鏡105、光学顕微鏡305及び電子顕微鏡106の中から、試料101上の観察対象を観察する撮像構成を一つ選択して、選択した撮像構成の撮像条件を制御する。【選択図】図1

15. 发明专利

JP2017003305A 欠陥画像分類装置审中-公开
标题翻译：缺陷图像分类装置
公开(公告)号：JP2017003305A
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：JP2015114689
申请日：2015-06-05
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：平井大博 , 嶺川陽平 , 丹代裕
IPC分类号： G01N23/225
CPC分类号： H01J37/222 , H01J37/28 , H01J37/285 , H01J2237/221 , H01J2237/24592
摘要：【課題】本発明は、欠陥種を特定するのに適した画像を選択的に初期表示することで、MDC作業の効率を向上させることを目的とする。【解決手段】欠陥画像分類装置は、自動欠陥分類処理部の分類結果である欠陥の種類に関連付けられた複数の検出器のうち少なくとも一部の検出器から得られた画像を、表示部に初期表示する画像として選択する制御部を備える。前記制御部は、前記自動欠陥分類処理部によって判定された欠陥の種類と同じ種類であると過去に判定された欠陥の画像をユーザが分類したときの切替操作ログに基づいて、欠陥の種類と表示部に初期表示する画像とを関連付ける。【選択図】図1
摘要翻译：本发明公开了以选择性初始显示适合于识别缺陷类型的图像，并且其目的是提高MDC工作的效率。的缺陷图像分类装置，从至少一些所述多个具有缺陷的类型相关联的检测器的检测器所获得的图像是自动缺陷分类处理部，首先在显示单元的分类结果将要显示选择图像的控制单元。其中，所述控制单元，在过去所确定的缺陷的图像如果是相同的类型已经由自动缺陷分类处理部基于切换操作日志被确定缺陷的类型时，用户分类，缺陷的类型图像相关联最初显示在显示单元上。点域1

16. 发明专利

JP5948138B2 欠陥解析支援装置、欠陥解析支援装置で実行されるプログラム、および欠陥解析システム有权
标题翻译：缺陷分析支持装置中，由缺陷分析支持装置和缺陷分析系统所执行的程序，
公开(公告)号：JP5948138B2
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：JP2012109052
申请日：2012-05-11
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：平井大博 , 中垣亮 , 小原健二
IPC分类号： G01N23/225 , H01L21/66
CPC分类号： G06T7/001 , G01N21/9501 , G01N21/95607 , G01N23/2251 , G06T7/0006 , H01L22/12 , G01N2223/6116 , G01N2223/646 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148

17. 发明专利

JP5836221B2 荷電粒子線装置有权
公开(公告)号：JP5836221B2
公开(公告)日：2015-12-24
申请号：JP2012172473
申请日：2012-08-03
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：坂直磨 , 小原健二 , 平井大博
IPC分类号： H01L21/66 , H01J37/28 , H01J37/22
CPC分类号： H01J37/222 , H01J37/04 , H01J37/261 , H01L22/12 , H01J2237/049 , H01J2237/063 , H01J2237/221 , H01J2237/2448 , H01J2237/24585 , H01J2237/24592 , H01J2237/2602 , H01J2237/2803 , H01J2237/2817 , H01L2924/0002

18. 发明专利

JP5719760B2 欠陥分類装置有权
标题翻译：缺陷分类系统
公开(公告)号：JP5719760B2
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：JP2011287369
申请日：2011-12-28
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：嶺川陽平 , 高木裕治 , 原田実 , 平井大博 , 中垣亮
IPC分类号： G01N21/956 , G01N23/225
CPC分类号： G06F3/04842 , G02B21/365 , G06F17/30 , G06F9/44 , G06F9/4443 , G06T7/0004 , H01J37/265 , H01J2237/2817

19. 发明专利

JP2018137275A 試料観察装置および試料観察方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018137275A
公开(公告)日：2018-08-30
申请号：JP2017029011
申请日：2017-02-20
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：原田実 , 高木裕治 , 近藤直明 , 平井大博
IPC分类号： G06T3/40 , H01J37/22 , H01J37/28 , G01N23/225 , H01L21/66
CPC分类号： G06T5/50 , G06T5/003 , G06T7/0008 , G06T7/001 , G06T2207/10016 , G06T2207/10061 , G06T2207/20081 , G06T2207/20084 , G06T2207/30148 , H01J37/20 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/202 , H01J2237/2817
摘要：【課題】試料観察装置において、試料観察のため画像を撮像するための時間を短縮してスループット向上させることと試料の高品質な画像を得ることとを両立させる。【解決手段】試料観察装置を、移動可能なテーブルに載置した試料に荷電粒子線を照射し走査して試料を撮像する荷電粒子顕微鏡と、荷電粒子顕微鏡で試料を撮像する撮像条件を変えて取得した試料の同一箇所の画質が悪い劣化画像と画質が良い高画質画像とを記憶する画像記憶部と、画像記憶部に記憶した劣化画像と高画質画像とを用いて劣化画像から高画質画像を推定するための推定処理パラメータを求める演算部と、荷電粒子顕微鏡で試料の所望の箇所を撮像して得られた試料の所望の箇所の劣化画像を演算部で求めた推定処理パラメータを用いて処理して所望の領域の高画質画像を推定する高画質画像推定部と、高画質画像推定部で推定した推定高画質画像を出力する出力部とを備えて構成した。【選択図】図3

20. 发明专利

JP5957378B2 欠陥観察方法および欠陥観察装置有权
公开(公告)号：JP5957378B2
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：JP2012286608
申请日：2012-12-28
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：平井大博 , 中垣亮 , 原田実
IPC分类号： H01L21/66 , G01N23/225
CPC分类号： G06T7/001 , G01N23/2254 , G06K9/00 , G06K9/46 , G06K9/4661 , G01N2223/418 , G01N2223/611 , G06K2009/4666 , G06T2207/30148

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