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    • 2. 发明公开
    • Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleitersubstrates
    • 制造功率半导体衬底的方法
    • EP2498283A3
    • 2017-07-05
    • EP12154199.9
    • 2012-02-07
    • SEMIKRON Elektronik GmbH & Co. KG
    • Dr. Besendörfer, Kurt-GeorgErdner, Nadja
    • H01L21/48H01L23/373
    • H01L21/4867H01L23/3735H01L24/27H01L24/29H01L24/83H01L24/97H01L25/072H01L2224/27003H01L2224/27334H01L2224/27505H01L2224/32225H01L2224/83193H01L2224/83201H01L2224/8384H01L2924/00013H01L2924/01029H01L2924/1301H01L2224/13099H01L2224/13599H01L2224/05599H01L2224/05099H01L2224/29099H01L2224/29599H01L2924/00
    • Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleitersubstrates (30) mit den folgenden Verfahrensschritten beschrieben:
      - Beschichten mindestens einer Teilfläche (12, 14) eines flächigen Vorsinterträgers (10) mit einer Sinterpaste (16),
      - Anordnen eines Verbindungsflächenobjektes (18) auf der Teilfläche (12, 14) der getrockneten Sinterpaste- (16),
      - Druck-Beaufschlagung des Gebildes (20) aus dem mit der Sinterpaste (16) versehenen Vorsinterträger (10) und dem Verbindungsflächenobjekt (18) während einer kurzen Zeitspanne, so dass die Haftkraft zwischen der Sinterpaste (16) und dem Verbindungsflächenobjekt (18) größer wird als die Haftkraft zwischen der Sinterpaste (16) und dem Vorsinterträger (10),
      - Entfernen des Vorsinterträgers (10) von dem die Sinterpaste (16) aufweisenden Verbindungsflächenobjekt (18), wobei sich ein Halbzeug (22) ergibt,
      - Anordnen des Halbzeugs (22) auf einem isolierenden Grundkörper (24), wobei die Sinterpaste (16) dem flächigen Grundkörper (24) zugewandt ist, und
      - Sinter-Beaufschlagung des Gebildes (26) aus dem Halbzeug (22) und dem flächigen Grundkörper (24) mit Druck und erhöhter Temperatur während einer längeren Sinterzeitspanne zur Ausbildung des Leistungshalbleitersubstrates (30).
    • 一种用于生产具有下面描述的以下步骤的功率半导体基片(30)的方法: - 片材的涂层的至少一部分表面(12,14)预烧结具有烧结膏(16)的支撑体(10), - 布置所述部分表面上的连接表面的对象(18) (12,14)中的干燥Sinterpaste-(16)的, - 预烧结载体提供在短时间内从所述结构(20),以在烧结膏(16)(10)和所述连接面对象(18)的压力加载,从而使粘合力 烧结膏(16)与连接面对象(18)比所述烧结膏(16)和预烧结载体(10)之间的粘合力更大之间, - 去除所述预烧结具有所述支承件(10),从该烧结膏(16)的连接面对象(18), (22); - 将半成品(22)布置在绝缘基体(24)上,其中烧结膏(16)为平坦的Grundk 体侧(24),以及 - 从所述半成品(22)和所述管状主体(24)的压力和升高的温度下对用于形成功率半导体衬底(30)更长的烧结时间期间所述织物(26)烧结行为。