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    • 5. 发明公开
    • Mattiertes, strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial
    • Mattiertes,strahlungsempfindliches Aufzeichnungmaterial。
    • EP0649063A1
    • 1995-04-19
    • EP94116059.0
    • 1994-10-12
    • HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    • Frass, Werner, Dr.Gaschler, OtfriedJoerg, Klaus, Dr.Hultzsch, Günter, Dr.Elsässer, Andreas, Dr.
    • G03F7/115
    • G03F7/115Y10S430/151
    • Die Erfindung betrifft ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger, einer strahlungsempfindlichen Schicht, die ein 1,2-Naphthochinon-2-diazid und ein in Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen dagegen lösliches, organisches, polymeres Bindemittel enthält, und einer darauf befindlichen nicht durchgehenden Mattierungsschicht. Diese Mattierungsschicht besteht aus 100 bis 10.000 Partikel pro Quadratzentimeter mit einem mittleren Durchmesser von weniger als 40 µm und einem maximalen Durchmesser von weniger als 80 µm sowie einer mittleren Höhe von 2 bis 6 µm und einer maximalen Höhe von 10 µm, die ein Harz enthalten, das pro Gramm bis zu 0,80 mmol Säure- und/oder Salzgruppen aufweist. Die Mattierungsschicht wird durch Aufsprühen und Trocknen einer wäßrigen, anionisch oder anionisch/nichtionisch stabilisierten Dispersion des Harzes erhalten.
    • 本发明涉及一种具有支撑体(载体,基底,基底),含有1,2-萘醌2-二叠氮化合物的辐射敏感层和不溶于水但可溶于水溶性有机聚合物粘合剂的记录材料, 碱性溶液和位于其上的非连续消光层。 该消光层包含平均直径小于40μm,最大直径小于80μm,平均高度为2〜6μm,最大高度为10μm的每平方厘米100〜10000个 其含有每克含有至多0.80mmol酸和/或盐基团的树脂。 通过喷涂和干燥树脂的水性,阴离子或阴离子/非离子稳定的分散体获得消光层。
    • 9. 发明公开
    • Beschichtungslösung für die Herstellung negativ arbeitender lichtempfindlicher Aufzeichnungsmaterialen
    • Herstellung negativ arbeitender lichtempfindlicher Aufzeichnungsmaterialien的LösemittelgemischundBeschichtungslösungfürdie Herstellung negativ arbeitender lichtempfindlicher。
    • EP0410277A1
    • 1991-01-30
    • EP90113711.7
    • 1990-07-18
    • HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    • Arneth, Reinhold, Dr.Hehl, EberhardFrass, Werner, Dr.Jung, Günter
    • G03F7/004
    • G03F7/0048
    • Es wird ein Lösemittelgemisch für lichthärtbare Gemische beschrieben, das aus

      a) einem Gemisch aus
      aa) einem polaren Lösemittel der Formel
      R - OH,
      worin R H oder Alkyl ist, oder
      aa′) einem Monoalkylether oder einem Alkylether­ester eines Glykols und
      ab) einem organischen Lösemittel mit einem Siedepunkt im Bereich von 60 - 160 °C, das ein aliphatisches Keton, ein Alkansäure- oder Hydroxyalkansäurealkylester oder ein cyclischer Ether ist,
      in solchem Mengenverhältnis, daß ein homogenes Gemisch gebildet wird, und
      b) 0,1 bis 8 Gew.-% - bezogen auf das gesamte Lose­mittelgemisch - eines Lösemittels bestehen, dessen Siedepunkt höher liegt als jeder einzelne Siedepunkt der unter (a) genannten Lösemittel.

      Mit den Beschichtungslösungen werden Schichten erhal­ten, deren Lichtempfindlichkeit höher ist als die von entsprechenden Schichten, die ohne Zusatz von (b) erhalten worden sind.
    • 给出了用于光固化混合物的溶剂混合物的描述,其由a)式R-OH的极性溶剂的混合物组成,其中R是H或烷基或aa')单烷基醚或烷基醚酯 的二醇,和ab)沸点在60-160℃范围内的有机溶剂,其为脂肪族酮,链烷酸或羟基链烷酸或环状醚的烷基酯,其数量比使得 形成均匀的混合物,和b)0.1至8重量%(基于总溶剂混合物)沸点高于(a)所述溶剂的任何个别沸点的溶剂。 涂层溶液产生的光的灵敏度高于不添加(b)的相似层的光敏度。