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2. 发明公开

EP0410277A1 Beschichtungslösung für die Herstellung negativ arbeitender lichtempfindlicher Aufzeichnungsmaterialen 有权
标题翻译： Herstellung negativ arbeitender lichtempfindlicher Aufzeichnungsmaterialien的LösemittelgemischundBeschichtungslösungfürdie Herstellung negativ arbeitender lichtempfindlicher。
公开(公告)号：EP0410277A1
公开(公告)日：1991-01-30
申请号：EP90113711.7
申请日：1990-07-18
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Arneth, Reinhold, Dr. , Hehl, Eberhard , Frass, Werner, Dr. , Jung, Günter
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0048
摘要： Es wird ein Lösemittelgemisch für lichthärtbare Gemische beschrieben, das aus

a) einem Gemisch aus
aa) einem polaren Lösemittel der Formel
R - OH,
worin R H oder Alkyl ist, oder
aa′) einem Monoalkylether oder einem Alkyletherester eines Glykols und
ab) einem organischen Lösemittel mit einem Siedepunkt im Bereich von 60 - 160 °C, das ein aliphatisches Keton, ein Alkansäure- oder Hydroxyalkansäurealkylester oder ein cyclischer Ether ist,
in solchem Mengenverhältnis, daß ein homogenes Gemisch gebildet wird, und
b) 0,1 bis 8 Gew.-% - bezogen auf das gesamte Losemittelgemisch - eines Lösemittels bestehen, dessen Siedepunkt höher liegt als jeder einzelne Siedepunkt der unter (a) genannten Lösemittel.

Mit den Beschichtungslösungen werden Schichten erhalten, deren Lichtempfindlichkeit höher ist als die von entsprechenden Schichten, die ohne Zusatz von (b) erhalten worden sind.
摘要翻译：给出了用于光固化混合物的溶剂混合物的描述，其由a）式R-OH的极性溶剂的混合物组成，其中R是H或烷基或aa'）单烷基醚或烷基醚酯的二醇，和ab）沸点在60-160℃范围内的有机溶剂，其为脂肪族酮，链烷酸或羟基链烷酸或环状醚的烷基酯，其数量比使得形成均匀的混合物，和b）0.1至8重量％（基于总溶剂混合物）沸点高于（a）所述溶剂的任何个别沸点的溶剂。涂层溶液产生的光的灵敏度高于不添加（b）的相似层的光敏度。

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