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1. 发明公开

EP0699960A1 Lichtempfindliches Gemisch 失效
公开(公告)号：EP0699960A1
公开(公告)日：1996-03-06
申请号：EP95113087.1
申请日：1995-08-21
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Konrad, Klaus-Peter, Dr. , Gries, Willi-Kurt, Dr. , Jung, Günter
IPC分类号： G03F7/021 , G03F7/016
CPC分类号： G03F7/0212
摘要： Es wird ein lichtempfindliches Gemisch beschrieben, das ein Polykondensationsprodukt eines aromatischen Diazoniumsalzes, ein wasserlösliches amphiphiles polymeres Bindemittel mit einem mittleren Molekulargewicht M w von 5000 bis 100.000 und eine nichtionische oberflächenaktive Verbindung mit einem Molekulargewicht von 150 bis 2000 enthält. Das Gemisch ist zur Herstellung von Druckplatten, besonders Flachdruckplatten geeignet, die sich mit reinem Wasser entwickeln lassen und sich durch eine rasche Farbannahme und hohe Druckauflage auszeichnen.
摘要翻译：在敏感的mixt。 contg。芳族重氮盐的缩聚物（I），聚合物粘合剂和低聚物。摩尔。表面活性剂，粘合剂是MW为5000-100000的水溶性两亲聚合物（II），表面活性剂包括非离子cpd。（III）。重量。 150-2000。还要求的是用于制造印版的感光材料，包括用该混合物涂布的基材。和印版产品。通过选择性曝光和用水清洗未曝光区域。县。（I）包含由gps链接的循环的RN2X单位。衍生自可缩合羰基cpds。 HCHO; 或经常性的AN2X，尤其是（R 1 -R 2）pN 2 X'，单元和B单元，通过桥连接，尤其是。 -CH2- gps。衍生自缩合羰基cpds; R =芳香族gp。至少有2个戒指; X =阴离子; A =芳族重氮基团的基团。能够与HCHO冷凝; X'=赋予水中溶解度的阴离子; p =芳香gp。具有至少一个能够与活性羰基cpds缩合的位置。 R 2 =单键，0（CH 2）q NR 4 - ， - O（CH 2）r NR 4 - ， - S（CH）2）r N R 4 - ， - S-CH 2 CONR 4， - ， - O 5 - ， - O - ， - S-或-CO-NR 4 - ; q = 2-5; R 4 = H，1-5C烷基，7-12C芳烷基或6-12C芳基; R 5 = 6-12C亚芳基; R 3 =一个选择。 substd。（p + 1）价的苯gp。 B = cpd的基数。没有重氮gps，能够与HCHO冷凝，尤其是。的芳族胺，苯基，苯基醚，芳族硫醚，芳族烃，芳族杂环cpd。或有机酸酰胺。（II）是10-20C烯烃，α，β-不饱和聚合物的共聚物。羧酸和该酸与聚乙二醇的酯，具有6-10个氧乙烯（EO）单元。（III）是混合物。的烷基酚聚乙二醇醚（IIIA）和具有6-20C链烷醇的聚乙二醇的醚。（IIIA）特别是聚乙烯或聚丙二醇或EO和氧丙烯（PO）单元的共聚醚的醚。该材料含有25-50重量％（I），10-60重量％（III）和10-40重量％酸w.r.t. 非挥发物。

2. 发明公开

EP0247461A3 Photosensitive composition and photosensitive registration material prepared therefrom 失效
标题翻译：由其制备的光敏组合物和光敏记录材料
公开(公告)号：EP0247461A3
公开(公告)日：1988-07-20
申请号：EP87107064
申请日：1987-05-15
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Pawlowski, Georg, Dr. , Mohr, Dieter, Dr. , Jung, Günter
IPC分类号： G03F07/08
CPC分类号： G03F7/0166

3. 发明授权

EP0247461B1 Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial 失效
标题翻译：光敏组合物和光敏记录材料由其制备的。
公开(公告)号：EP0247461B1
公开(公告)日：1994-03-30
申请号：EP87107064.5
申请日：1987-05-15
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Pawlowski, Georg, Dr. , Mohr, Dieter, Dr. , Jung, Günter
IPC分类号： G03F7/021
CPC分类号： G03F7/0166

4. 发明授权

EP0180122B1 Entwickler für belichtete negativ arbeitende Reproduktionsschichten sowie Verfahren zur Herstellung von Druckformen und Verwendung des Entwicklers 有权
标题翻译：暴露的负责经营注册层的开发商，生产印刷版的过程和开发商的使用
公开(公告)号：EP0180122B1
公开(公告)日：1991-10-23
申请号：EP85113310.8
申请日：1985-10-21
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Mack, Gerhard, Dr. Dipl.-Chem. , Müller, Birgit , Jung, Günter , Frass, Werner, Dr. Dipl.-Chem.
IPC分类号： G03F7/26
CPC分类号： G03F7/322

5. 发明公开

EP0410277A1 Beschichtungslösung für die Herstellung negativ arbeitender lichtempfindlicher Aufzeichnungsmaterialen 有权
标题翻译： Herstellung negativ arbeitender lichtempfindlicher Aufzeichnungsmaterialien的LösemittelgemischundBeschichtungslösungfürdie Herstellung negativ arbeitender lichtempfindlicher。
公开(公告)号：EP0410277A1
公开(公告)日：1991-01-30
申请号：EP90113711.7
申请日：1990-07-18
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Arneth, Reinhold, Dr. , Hehl, Eberhard , Frass, Werner, Dr. , Jung, Günter
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0048
摘要： Es wird ein Lösemittelgemisch für lichthärtbare Gemische beschrieben, das aus

a) einem Gemisch aus
aa) einem polaren Lösemittel der Formel
R - OH,
worin R H oder Alkyl ist, oder
aa′) einem Monoalkylether oder einem Alkyletherester eines Glykols und
ab) einem organischen Lösemittel mit einem Siedepunkt im Bereich von 60 - 160 °C, das ein aliphatisches Keton, ein Alkansäure- oder Hydroxyalkansäurealkylester oder ein cyclischer Ether ist,
in solchem Mengenverhältnis, daß ein homogenes Gemisch gebildet wird, und
b) 0,1 bis 8 Gew.-% - bezogen auf das gesamte Losemittelgemisch - eines Lösemittels bestehen, dessen Siedepunkt höher liegt als jeder einzelne Siedepunkt der unter (a) genannten Lösemittel.

Mit den Beschichtungslösungen werden Schichten erhalten, deren Lichtempfindlichkeit höher ist als die von entsprechenden Schichten, die ohne Zusatz von (b) erhalten worden sind.
摘要翻译：给出了用于光固化混合物的溶剂混合物的描述，其由a）式R-OH的极性溶剂的混合物组成，其中R是H或烷基或aa'）单烷基醚或烷基醚酯的二醇，和ab）沸点在60-160℃范围内的有机溶剂，其为脂肪族酮，链烷酸或羟基链烷酸或环状醚的烷基酯，其数量比使得形成均匀的混合物，和b）0.1至8重量％（基于总溶剂混合物）沸点高于（a）所述溶剂的任何个别沸点的溶剂。涂层溶液产生的光的灵敏度高于不添加（b）的相似层的光敏度。

6. 发明授权

EP0410277B1 Beschichtungslösung für die Herstellung negativ arbeitender lichtempfindlicher Aufzeichnungsmaterialen 有权
标题翻译：用于生产负性工作的感光材料的涂布溶液。
公开(公告)号：EP0410277B1
公开(公告)日：1995-10-04
申请号：EP90113711.7
申请日：1990-07-18
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Arneth, Reinhold, Dr. , Hehl, Eberhard , Frass, Werner, Dr. , Jung, Günter
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0048

7. 发明公开

EP0180122A3 Developer for exposed negatively operating registration layers, process for producing printing plates and use of the developer 有权
标题翻译：暴露的负责经营注册层的开发商，生产印刷版的过程和开发商的使用
公开(公告)号：EP0180122A3
公开(公告)日：1988-03-02
申请号：EP85113310
申请日：1985-10-21
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Mack, Gerhard, Dr. Dipl.-Chem. , Müller, Birgit , Jung, Günter , Frass, Werner, Dr. Dipl.-Chem.
IPC分类号： G03F07/26
CPC分类号： G03F7/322

8. 发明公开

EP0247461A2 Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial 失效
标题翻译：光敏组合物和光敏记录材料由其制备的。
公开(公告)号：EP0247461A2
公开(公告)日：1987-12-02
申请号：EP87107064.5
申请日：1987-05-15
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Pawlowski, Georg, Dr. , Mohr, Dieter, Dr. , Jung, Günter
IPC分类号： G03F7/021
CPC分类号： G03F7/0166
摘要： Es wird ein lichtempfindliches Gemisch beschrieben, das ein Diazoniumsalz-Polykondensationsprodukt, ein polymeres Bindemittel und ein organisches Peroxid enthält, das eine Scorch-Temperatur von mindestens 100° C aufweist und oberhalb dieser Temperatur befähigt ist, Radikale zu bilden. Das Gemisch wird insbesondere für die Herstellung von Flachdruckplatten verwendet, deren Druckauflage durch Einbrennen der belichteten und entwickelten Platte gesteigert werden kann. Das lichtempfindliche Gemisch weist eine gute Dunkellagerfähigkeit auf.
摘要翻译：将描述光敏混合物含有重氮盐缩聚产物，聚合物粘合剂和具有至少100℃和高于此温度是能够形成自由基的焦烧温度的有机过氧化物。将混合物在特别是用于生产平版印刷版的使用时，压力垫可通过烘烤曝光和显影的板来增加。光敏感的混合物具有良好的深存储能力。

9. 发明公开

EP0180122A2 Entwickler für belichtete negativ arbeitende Reproduktionsschichten sowie Verfahren zur Herstellung von Druckformen und Verwendung des Entwicklers 有权
标题翻译：显影剂为曝光的负性工作的再现层和用于生产印刷形式的过程，和使用显影剂。
公开(公告)号：EP0180122A2
公开(公告)日：1986-05-07
申请号：EP85113310.8
申请日：1985-10-21
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Mack, Gerhard, Dr. Dipl.-Chem. , Müller, Birgit , Jung, Günter , Frass, Werner, Dr. Dipl.-Chem.
IPC分类号： G03F7/26
CPC分类号： G03F7/322
摘要： Die Erfindung betrifft einen Entwickler für negativ arbeitende Reproduktionsschichten.
Der Entwickler besteht aus einer Kombination aus Wasser, organischem Lösemittel, oberflächenaktivem Mittel, einem alkalisch reagierenden Mittel, Komplexbildner, Puffersubstanz, Emulgator und n-Alkansäure.
Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Herstellung von Druckformen unter Verwendung der Entwicklerkombination.
Neben den üblichen Voraussetzungen für gute und schnelle Entwicklung, Maschinentauglichkeit und Umweltfreundlichkeit, wird die störende Fladen- und Fädchenbildung im Entwicklungsprozeß durch Verwendung des Entwicklers unterbunden.
Der Entwickler ist universell anwendbar sowohl für bindemittelfreie als auch bindemittelhaltige Reproduktionsschichten.
摘要翻译：本发明涉及一种用于负性工作的再现层的显影剂。显影剂由水的组合，有机溶剂，表面活性剂，碱性反应，络合剂，缓冲剂，乳化剂和n-链烷酸。本发明还涉及一种用于制造使用该显影剂组合印刷印版的方法。除了为又好又快发展，设备适用性和环保性的常规条件，干扰Fladen-和Fädchenbildung是在发展过程中通过使用开发者禁止。显影剂是普遍适用的两种和含粘合剂的不含粘合剂的再现层。

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