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1. 发明申请

WO2020064223A1 METHOD AND APPARATUS FOR DETERMINING THE HEATING STATE OF AN OPTICAL ELEMENT IN A MICROLITHOGRAPHIC OPTICAL SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2020064223A1
公开(公告)日：2020-04-02
申请号：PCT/EP2019/072210
申请日：2019-08-20
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , WOLF, Alexander , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , ZOTT, Andy
发明人： WOLF, Alexander , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , ZOTT, Andy
IPC分类号： G03F7/20 , G01K11/00 , G02B7/18
摘要： The invention relates to a method and an apparatus for determining the heating state of an optical element in a microlithographic optical system, wherein the method includes the following steps: producing, using a light source (303), a first partial beam (310) that is transmitted through the optical element (200, 300) and a second partial beam (320) that is not transmitted through the optical element, and determining the heating state of the optical element on the basis of a measurement of the time-of-flight difference between the first partial beam and the second partial beam, wherein the first partial beam (310) and the second partial beam (320) are reflected at different faces of the optical element (200, 300).

2. 发明申请

WO2012041461A2 PROJECTION EXPOSURE TOOL FOR MICROLITHOGRAPHY AND METHOD FOR MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE 审中-公开
标题翻译：微刻法投影曝光工具及微刻曝光法
公开(公告)号：WO2012041461A2
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/004750
申请日：2011-09-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HETZLER, Jochen , BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , SCHWAB, Markus , WOLF, Alexander
发明人： HETZLER, Jochen , BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , SCHWAB, Markus , WOLF, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70133 , G03F7/70608 , G03F7/70733 , G03F9/7003 , G03F9/7034 , G03F9/7049
摘要： A projection exposure tool (10) for microlithography for exposing a substrate (20) comprises a projection objective (18) and an optical measuring apparatus (40) for determining a surface topography of the substrate (20) before the latter is exposed. The measuring apparatus (40) has a measuring beam path which extends outside of the projection objective (18), and is configured as a wavefront measuring apparatus, which is configured to determine topography measurement values simultaneously at a number of points on the substrate surface (21).
摘要翻译：用于微曝光曝光衬底（20）的投影曝光工具（10）包括投影物镜（18）和用于确定衬底（20）的表面形貌的光学测量装置（40）在后者暴露之前。测量设备（40）具有延伸到投影物镜（18）外部的测量光束路径，并且被配置为波前测量设备，该波前测量设备被配置为同时在基板表面上的多个点处确定地形测量值 21）。

3. 发明申请

WO2021078421A1 ASSEMBLY IN AN OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
公开(公告)号：WO2021078421A1
公开(公告)日：2021-04-29
申请号：PCT/EP2020/072485
申请日：2020-08-11
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HARTJES, Joachim , GRUNER, Toralf , WOLF, Alexander
发明人： HARTJES, Joachim , GRUNER, Toralf , WOLF, Alexander
IPC分类号： G03F7/20 , G01N27/02 , G02B7/18 , G01R27/22
摘要： The invention relates to an assembly in an optical system, in particular of a micro- lithographic projection exposure apparatus, comprising at least one optical element, at least one cooling channel through which can flow a cooling fluid (103, 303) for cooling said optical element during the operation of the optical system, and at least one corrosion detector (110, 310) for detecting an existing or imminent corrosion on the basis of the determination of at least one measurement variable indicating a corrosion-dictated change in state of the cooling fluid (103, 303).

4. 发明申请

WO2016113113A1 ARRANGEMENT FOR REDUCING CONTAMINATION IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：减少微波投影曝光装置污染的装置
公开(公告)号：WO2016113113A1
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：PCT/EP2015/081412
申请日：2015-12-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HARTJES, Joachim , GRUNER, Toralf
发明人： HARTJES, Joachim , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70033 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要： The invention relates to an arrangement for reducing contamination in a microlithographic projection exposure apparatus, wherein the projection exposure apparatus is designed for operation in the EUV and comprises an illumination device, wherein during the operation of the projection exposure apparatus EUV light generated by a plasma excitation of a target material brought about by a first laser light source enters the illumination device via an intermediate focus (IF). The arrangement comprises a second laser light source (140), which directs directional electromagnetic radiation into a region adjoining the intermediate focus (IF) within the illumination device, wherein said second laser light source (140) is designed in such a way that the directional electromagnetic radiation of the second laser light source (140) brings about an evaporation or plasma excitation for at least part of target material that has entered said region during the operation of the projection exposure apparatus.
摘要翻译：本发明涉及一种用于减少微光刻投影曝光装置中的污染的装置，其中投影曝光装置被设计为在EUV中操作并且包括照明装置，其中在投影曝光装置的操作期间由等离子体激发产生的EUV光由第一激光光源引起的目标材料经由中间焦点（IF）进入照明装置。该装置包括第二激光源（140），其将定向电磁辐射引导到与照明装置内的中间聚焦（IF）相邻的区域中，其中所述第二激光源（140）被设计成使得定向第二激光光源（140）的电磁辐射在投影曝光装置的操作期间对已经进入所述区域的目标材料的至少一部分产生蒸发或等离子体激发。

5. 发明申请

WO2020020506A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BESTIMMEN DES ERWÄRMUNGSZUSTANDES EINES OPTISCHEN ELEMENTS IN EINEM OPTISCHEN SYSTEM FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
公开(公告)号：WO2020020506A1
公开(公告)日：2020-01-30
申请号：PCT/EP2019/062631
申请日：2019-05-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , HAUF, Markus , BEURER, Gerhard
发明人： GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , HAUF, Markus , BEURER, Gerhard
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/00 , G02B7/18 , G01J5/08
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements in einem optischen System für die Mikrolithographie, wobei wenigstens ein berührungsloser, auf dem Empfang elektromagnetischer Strahlung von dem optischen Element (301, 401, 402, 403, 501, 502, 503, 504, 601) basierender Sensor (330, 430, 531, 532, 533, 534, 631, 632) verwendet wird, und wobei zur Ermittlung einer Temperaturverteilung in dem optischen Element der von dem Sensor (330, 430, 531, 532, 533, 534, 631, 632) erfasste Strahlungsbereich variiert wird.

6. 发明申请

WO2012126830A1 OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：光学元件
公开(公告)号：WO2012126830A1
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：PCT/EP2012/054664
申请日：2012-03-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HARTJES, Joachim , FIOLKA, Damian , PNINI-MITTLER, Boaz
发明人： HARTJES, Joachim , FIOLKA, Damian , PNINI-MITTLER, Boaz
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/195
CPC分类号： G02B7/1815 , G02B5/0891 , G02B5/208 , G03F7/70891
摘要： The invention relates to an optical element for a projection exposure apparatus for semiconductor lithography comprising an optically active surface (9) and at least one cooling component for cooling the optical element, wherein the cooling component is connected to at least two separate cooling circuits and embodied in such a way that the optically active surface (9) can be cooled to a greater extent in at least one partial region than in a further partial region. The invention furthermore relates to a projection exposure apparatus comprising an optical element according to the invention.
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光设备的光学元件，其包括光学活性表面（9）和用于冷却光学元件的至少一个冷却部件，其中冷却部件连接到至少两个分开的冷却回路，以使光学活性表面（9）能够在至少一个部分区域中比在另外的部分区域中更大程度地冷却。本发明还涉及包括根据本发明的光学元件的投影曝光装置。

7. 发明申请

WO2012013227A1 FACET MIRROR DEVICE 审中-公开
公开(公告)号：WO2012013227A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2010/060955
申请日：2010-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HARTJES, Joachim
发明人： HARTJES, Joachim
IPC分类号： G02B5/09 , G02B5/08 , G03F7/20 , G02B7/182
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B5/08 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B5/132 , G02B7/1815 , G02B7/182 , G03F7/70075 , Y10T29/49826
摘要： There is provided a facet mirror device comprising a facet element and a support element, the support element supporting the facet element. The facet element comprises a curved first support section while the support element comprises a second support section, the second support section forming a support edge contacting the first support section in a region of contact to support the facet element.
摘要翻译：提供了一种小面镜装置，其包括小面元件和支撑元件，支撑元件支撑小面元件。小面元件包括弯曲的第一支撑部分，而支撑元件包括第二支撑部分，第二支撑部分形成在接触区域中接触第一支撑部分的支撑边缘，以支撑小面元件。

8. 发明申请

WO2016113117A1 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTISCHEN ELEMENTS FÜR EIN OPTISCHES SYSTEM, INSBESONDERE FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：法用于制造光学元件，用于光学系统尤其是对于微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2016113117A1
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：PCT/EP2015/081434
申请日：2015-12-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HILD, Kerstin , STICKEL, Franz-Josef , FICHTL, Robert , HARTJES, Joachim
发明人： HILD, Kerstin , STICKEL, Franz-Josef , FICHTL, Robert , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/00 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70266 , G02B26/06 , G02B27/0068 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines optischen Elements für ein optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Bereitstellen eines Substrats (102), Aufbringen eines Schichtsystems (103) auf das Substrat, wobei eine optische Wirkfläche (101) des optischen Elements (100) ausgebildet wird und wobei das Schichtsystem eine zur Manipulation der geometrischen Form der optischen Wirkfläche thermisch deformierbare Schicht (104) aufweist, und Anlegen eines Temperaturfeldes an das optische Element unter zumindest bereichsweisem Aufwärmen der thermisch deformierbaren Schicht über eine vorgegebene Betriebstemperatur des optischen Systems, wobei vor dem Anlegen des Temperaturfeldes an das optische Element die thermisch deformierbare Schicht derart konfiguriert wird, dass eine beim Anlegen des Temperaturfeldes induzierte Deformation nach Abkühlen des optischen Elements auf die vorgegebene Betriebstemperatur zumindest teilweise erhalten bleibt. Die Erfindung betrifft weiter ein optisches Element für ein optisches System, wobei das optische Element (400) eine optische Wirkfläche (401 ) aufweist, mit einem Substrat (402) und einem auf dem Substrat (402) befindlichen Schichtsystem (403), welches ein Reflexionsschichtsystem (406) aufweist, wobei das Schichtsystem ferner eine Formgedächtnislegierung aufweist. Dabei kann eine im Betrieb des optischen Systems auftretende Deformation der optischen Wirkfläche des optischen Elements durch aktive Zufuhr von Wärmeenergie in die Formgedächtnislegierung wenigstens teilweise kompensiert werden.
摘要翻译：本发明涉及用于微光刻投射曝光设备制造的光学元件的光学系统，特别是一种方法。本发明的方法包括以下步骤：提供衬底（102），所述基板，其中，在形成所述光学元件（100）的光学活性表面（101）上施加的层系统（103），并且其中所述层系统中，几何形状的操作具有该光学有效的表面热变形层（104）和在所述光学系统的预定工作温度的热变形层的至少bereichsweisem加热下施加温度场的光学元件，其中在所述温度场的施加到所述光学元件，所述热变形层，例如被配置为使得至少在预定的操作温度被部分地接收所述光学元件的冷却后在所述温度场变形应用诱导。本发明还涉及一种光学元件的光学系统，其中所述光学元件（400）具有一个光学有效区域（401）包括基片（402）和在所述衬底（402）位于层系统（403）包括反射层系统（406），其中所述层系统还包括形状记忆合金。它可以通过在形状记忆合金中的至少一项所述的光学元件的光学有效表面变形的光学系统的操作期间发生的热能的活性供给来部分地补偿。

9. 发明申请

WO2013041134A1 ARRANGEMENT FOR THERMAL ACTUATION OF A MIRROR IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：在微波投影曝光装置中用于制造镜子的装置的装置
公开(公告)号：WO2013041134A1
公开(公告)日：2013-03-28
申请号：PCT/EP2011/066425
申请日：2011-09-21
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HARTJES, Joachim
发明人： HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/18
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/1815 , G02B26/0866 , G03F7/70216 , G03F7/70266 , G03F7/708 , G03F7/70891
摘要： The invention concerns an arrangement for thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus, wherein the mirror (901) has an optical effective surface (901a) and at least one access passage (910, 910') extending from a surface of the mirror, that does not correspond to the optical effective surface, in the direction of said effective surface, wherein the arrangement is designed for thermal actuation of the mirror (901) by means of electromagnetic radiation which is propagated in the access passage (910), wherein the arrangement further has at least one heat radiating means which produces the electromagnetic radiation which is propagated in the access passage (910, 910'), and wherein the heat radiating means is actuable along the access passage (910, 910').
摘要翻译：本发明涉及一种用于微光刻投影曝光装置中的反射镜的热致动装置，其中反射镜（901）具有光学有效表面（901a）和至少一个进入通道（910,910'），其从在所述有效表面的方向上不对应于所述光学有效表面的反射镜，其中所述布置被设计成通过在所述进入通道（910）中传播的电磁辐射来对所述反射镜（901）进行热致动，其中所述装置还具有至少一个散热装置，所述散热装置产生在所述进入通道（910,910'）中传播的电磁辐射，并且其中所述散热装置沿所述进入通道（910,910'）可启动。

10. 发明申请

WO2011082872A1 OPTISCHES ELEMENT MIT EINER MEHRZAHL VON REFLEKTIVEN FACETTENELEMENTEN 审中-公开
标题翻译： WITH ELEMENTS反射面中的几个光学元件
公开(公告)号：WO2011082872A1
公开(公告)日：2011-07-14
申请号：PCT/EP2010/067520
申请日：2010-11-16
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH , KIRCH, Marc , ENDRES, Martin , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
发明人： KIRCH, Marc , ENDRES, Martin , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G02B5/09 , G02B26/08 , G03F7/20
CPC分类号： G02B26/0816 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B7/1822 , G02B27/0927 , G02B27/0977 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Element zur Verwendung in einer Beleuchtungsoptik einer EUV Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage umfassend eine Mehrzahl von reflektiven Facettenelementen (1) mit jeweils mindestens einer reflektiven Fläche (5). Dabei ist mindestens ein Facettenelement drehbar (1) um eine Drehachse (9) angeordnet, wobei die Drehachse (9) die mindestens eine reflektive Fläche (5) dieses Facettenelementes (1) schneidet. Mit Hilfe eines solchen optischen Elements kann auf einfache Weise die Richtung und/oder die Intensität zumindest eines Teils der Beleuchtungsstrahlung innerhalb der Beleuchtungsoptik verändert werden.
摘要翻译：本发明涉及用于光学元件的EUV微光刻投射曝光设备，包括：（1）多个反射面元件的照明光学部件各自具有至少一个反射表面（5）。至少一个面可旋转地元件（1）被布置成绕旋转轴线（9），其中所述旋转轴线（9）的至少一个反射表面（5）相交此小面元件（1）。利用这样的光学元件的以简单的方式帮助的方向和/或照明辐射的至少一部分的强度可以在照明光学部件内变化。

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