专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2003009021A1 VERZÖGERUNGSELEMENT AUS KUBISCHEM KRISTALL UND OPTISCHE SYSTEME DAMIT 审中-公开
标题翻译：延迟元件立方晶体和光学系统THAT
公开(公告)号：WO2003009021A1
公开(公告)日：2003-01-30
申请号：PCT/DE2002/002392
申请日：2002-06-25
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , HARTMAIER, Jürgen , FIOLKA, Damian , ZENZINGER, Markus , MECKING, Birgit , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KAMENOV, Vladimir , BRUNOTTE, Martin
发明人： HARTMAIER, Jürgen , FIOLKA, Damian , ZENZINGER, Markus , MECKING, Birgit , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KAMENOV, Vladimir , BRUNOTTE, Martin
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B1/02 , G02B5/3091 , G03F7/70308 , G03F7/70966
摘要： Als Verzögerungselemente für das tiefe Ultraviolett werden Zentimeter dicke Platten oder Linsen aus Kalziumfluorid oder Bariumfluorid mit Strahlausbreitung in Richtung der -Kristallrichtung oder einer dazu äquivalenten Hauptachse vorgeschlagen, die spannungslos eingebaut werden. Eignung besonders für die Mikrolithographie bei 157 nm.
摘要翻译：由于延迟元件为深紫外线厘米提出在<110>晶与光束传播方向由氟化钙或氟化钡或与其等同的长轴厚的片材或透镜，其被内置通电。适宜特别是在157nm处微光刻。

2. 发明申请

WO2004001480A2 KATADIOPTRISCHES REDUKTIONSOBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：折反射缩小透镜
公开(公告)号：WO2004001480A2
公开(公告)日：2003-12-31
申请号：PCT/EP2003/006680
申请日：2003-06-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MECKING, Birgit , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KAMENOV, Vladimir , BRUNOTTE, Martin
发明人： MECKING, Birgit , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KAMENOV, Vladimir , BRUNOTTE, Martin
IPC分类号： G02B17/08
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B13/143 , G02B17/08 , G03F7/70225 , G03F7/70308 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要： Ein katadioptrisches Projektionsobjektiv zur Abbildung eines in der Objektebene des Projektionsobjektivs angeordneten Musters in die Bildebene des Projektionsobjektivs hat zwischen Objektebene und Bildebene einen katadioptrischen Objektivteil mit einen Konkavspiegel (17) und einem ersten Umlenkspiegel (16) sowie mindestens einen zweiten Umlenkspiegel (19). Im Lichtweg zwischen den Umlenkspiegeln wird die Polarisationsvorzugsrichtung des Lichtes mit Hilfe einer Polarisationsdreheinrichtung (26) um ca. 90° gedreht. Dadurch können polarisationsabhängige Reflektivitäts- und Phasenwirkungsunterschiede der Umlenkspiegel mindestens teilweise kompensiert werden. Hierdurch ist eine Abbildung mit weitgehend gleichem Kontrast für alle Strukturrichtungen möglich.
摘要翻译：用于成像放置在投影透镜图案的物平面中的投射物镜的像平面中的对象的反射折射投影物镜具有物平面和像平面的反射折射物镜部与凹面镜（17）和第一偏转反射镜（16）和至少一个第二偏转反射镜（19）之间。在偏转反射镜之间的光路中，利用偏振旋转器（26）由大约90°的光的偏振优选方向上旋转。在反射镜的作用这个偏振相关的反射率和相位差异可以至少部分地补偿。这导致画面而主要是为了所有结构的方向相同的对比。

3. 发明申请

WO2003054631A1 VERFAHREN ZUR OPTIMIERUNG DER ABBILDUNGSEIGENSCHAFTEN VON MINDESTENS ZWEI OPTISCHEN ELEMENTEN SOWIE PHOTOLITHOGRAPHISCHES FERTIGUNGSVERFAHREN 审中-公开
标题翻译：法在合理至少两个光学元件和光刻制造工艺的图片属性
公开(公告)号：WO2003054631A1
公开(公告)日：2003-07-03
申请号：PCT/EP2002/011030
申请日：2002-10-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MECKING, Birgit , GRUNER, Toralf , KOHL, Alexander
发明人： MECKING, Birgit , GRUNER, Toralf , KOHL, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70591 , G02B5/3083 , G03F7/70258 , G03F7/70566 , G03F7/70966 , Y10S359/90
摘要： Bei einem Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens zwei optischen Elementen (9, 10), bei dem die relative Lage der optischen Elemente (9, 10) zur Optimierung der optischen Abbildung zueinander eingestellt wird, werden folgende Verfahrensschritte durchgeführt: Zunächst wird eine polarisationsabhängige Störgrösse für mindestens ein optisches Element (9, 10) bestimmt. Anschliessend wird eine Zielposition mindestens eines beweglichen optischen Elements (9) aus der für dieses bestimmten Störgrösse und den Störgrössen der weiteren optischen Elemente berechnet. In welcher dieser Zielposition ist die Gesamtgrösse aller optischen Elemente (6), zusammengesetzt aus polarisationsabhängigen und polarisationsunabhängigen Störgrössen, minimiert. Schliesslich wird das bewegliche optische Element (9) in die Zielposition bewegt. Die Berücksichtigung der polarisationsabhängigen Störgrösse gewährleistet eine präzise Modellierung der Abbildungseigenschaften, welche die Voraussetzung für eine exakte Optimierung ist.
摘要翻译：在用于优化至少两个光学元件（9,10），其中所述光学元件的相对位置（9,10），以优化所述光学图像被调整为彼此的成像特性的方法中，执行以下的处理步骤：首先，将偏振相关的干扰量对于至少一个光学元件（9,10）。随后，目标位置计算的至少一个可移动的光学元件（9）适用于另外的光学元件的这种扰动变量和扰动变量。在此目标位置是偏振依赖性和偏振无关的扰动构成所有光学元件（6）的总尺寸最小化。最后，可移动光学元件（9）移动到目标位置。考虑到偏振相关扰动变量可以确保的摄像特性的精确建模，这对于精确优化的前提。

4. 发明公开

EP1407299A1 VERZÖGERUNGSELEMENT AUS KUBISCHEM KRISTALL UND OPTISCHE SYSTEME DAMIT 审中-公开
标题翻译：延迟元件立方晶体和光学系统THAT
公开(公告)号：EP1407299A1
公开(公告)日：2004-04-14
申请号：EP02752986.6
申请日：2002-06-25
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG
发明人： HARTMAIER, Jürgen , FIOLKA, Damian , ZENZINGER, Markus , MECKING, Birgit , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KAMENOV, Vladimir , BRUNOTTE, Martin
IPC分类号： G02B5/30 , G02B1/02 , G02B1/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B1/02 , G02B5/3091 , G03F7/70308 , G03F7/70966
摘要： Centimetre-thick sheets or lenses made from calcium fluoride or barium fluoride with beam propagation in the direction of the crystal direction or a main axis equivalent thereto, used as delay elements for the deep ultraviolet are disclosed, embodied in a stress-free form. The above is particularly suitable for microlithography at 157 nm.

5. 发明申请

WO2004025370A1 OPTISCHES ABBILDUNGSSYSTEM, INSBESONDERE KATADIOPTRISCHES REDUKTIONSOBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：光影像系统，尤其是反折射缩小透镜
公开(公告)号：WO2004025370A1
公开(公告)日：2004-03-25
申请号：PCT/EP2003/009253
申请日：2003-08-21
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ZACZEK, Christoph , MECKING, Birgit , ULLMANN, Jens , WAGNER, Christian
发明人： ZACZEK, Christoph , MECKING, Birgit , ULLMANN, Jens , WAGNER, Christian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/08 , G03F7/70225 , G03F7/70308 , G03F7/70566
摘要： Ein optisches Abbildungssystem, das beispielsweise als katadioptrisches Projektionsobjektiv ausgebildet sein kann, hat eine optische Achse, einen ersten Umlenkspiegel, der gegenüber der optischen Achse um einen ersten Kippwinkel gekippt ist und einen zweiten Umlenkspiegel, der gegenüber der optischen Achse um einen zweiten Kippwinkel gekippt ist. Bei einem der Umlenkspiegel ist ein Verhältnis Rsp zwischen dem Reflexionsgrad Rs für s-polarisiertes Licht und dem Reflexionsgrad Rp für p-polarisiertes Licht in einem den Kippwinkel umfassenden Inzidenzwinkelbereich größer als eins, während das entsprechende Verhältnis beim anderen Umlenkspiegel kleiner als eins ist. Dadurch kann eine polarisationsanhängige Beeinflussung des durchtretenden Lichtes durch die Umlenkspiegel gering gehalten werden.
摘要翻译：其可以例如为具有一个光轴的反射折射投影物镜形成的成像光学系统中，第一偏转镜，其由第一倾斜角和第二反射镜，其由一个第二倾斜角相对于光轴倾斜相对于光学轴线倾斜。在偏转镜中的一个是所述反射率R S为s偏振光和在入射角范围大于一的一个综合的倾斜角的反射率卢比为p偏振光之间的比率RSP，而在另一个偏转反射镜的相应比例是小于一。此可以保持低偏振未决通过反射镜影响透射光。

6. 发明申请

WO2003077007A3 OBJEKTIV MIT KRISTALL-LINSEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2003077007A3
公开(公告)日：2003-09-18
申请号：PCT/EP2003/002549
申请日：2003-03-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GOEHNERMEIER, Aksel , PAZIDIS, Alexandra , MECKING, Birgit , ZACZEK, Christoph , KRAEHMER, Daniel
发明人： GOEHNERMEIER, Aksel , PAZIDIS, Alexandra , MECKING, Birgit , ZACZEK, Christoph , KRAEHMER, Daniel
IPC分类号： G02B1/02
摘要： Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einer Fluorid-Kristall-Linse. Eine Redu-zierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man, wenn diese Linse eine (100)-Linse mit einer Linsenachse ist, welche annähernd senkrecht auf den {100}-Kristallebenen oder auf den dazu äquivalenten Kristallebenen des Fluorid-Kristalls steht. Bei Objektiven mit mindestens zwei Fluorid-Kristall-Linsen ist es günstig, wenn die Fluorid-Kristall-Linsen gegeneinander verdreht angeordnet sind. Die Linsenachsen der Fluorid-Kristall-Linsen können dabei neben der -Kristallrichtung auch in die - oder in die -Kristallrichtung weisen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch den gleichzeitigen Einsatz von Gruppen mit gegeneinander verdrehten (100)-Linsen und Gruppen mit gegeneinander verdrehten (111)-Linsen oder (110)-Linsen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch die Belegung eines optischen Elements mit einer Kompensations-Beschichtung. In einem Ausführungsform wird die örtlichen Doppelbrechungverteilung der Beschichtung nach Abschluss des Beschichtungsvorganges durch lokal begrenzten Energieeintrag verändert.

7. 发明申请

WO2003077007A2 OBJEKTIV MIT KRISTALL-LINSEN 审中-公开
标题翻译：用水晶镜片镜片
公开(公告)号：WO2003077007A2
公开(公告)日：2003-09-18
申请号：PCT/EP2003/002549
申请日：2003-03-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GOEHNERMEIER, Aksel , PAZIDIS, Alexandra , MECKING, Birgit , ZACZEK, Christoph , KRAEHMER, Daniel
发明人： GOEHNERMEIER, Aksel , PAZIDIS, Alexandra , MECKING, Birgit , ZACZEK, Christoph , KRAEHMER, Daniel
IPC分类号： G02B13/00
CPC分类号： G03F7/70966 , G02B1/02 , G02B5/3083 , G03F7/70566
摘要： Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einer Fluorid-Kristall-Linse. Eine Redu-zierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man, wenn diese Linse eine (100)-Linse mit einer Linsenachse ist, welche annähernd senkrecht auf den {100}-Kristallebenen oder auf den dazu äquivalenten Kristallebenen des Fluorid-Kristalls steht. Bei Objektiven mit mindestens zwei Fluorid-Kristall-Linsen ist es günstig, wenn die Fluorid-Kristall-Linsen gegeneinander verdreht angeordnet sind. Die Linsenachsen der Fluorid-Kristall-Linsen können dabei neben der -Kristallrichtung auch in die - oder in die -Kristallrichtung weisen. Eine weitere Reduzierung des stö-renden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch den gleichzeitigen Einsatz von Gruppen mit gegeneinander verdrehten (100)-Linsen und Gruppen mit gegeneinander verdrehten (111)-Linsen oder (110)-Linsen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch die Belegung eines optischen Ele-ments mit einer Kompensations-Beschichtung.
摘要翻译：透镜，在用于具有至少一种氟化物晶体透镜的微光刻投射曝光系统尤其投影透镜。一个实现的双折射的干扰影响一个热镀阳离子，如果该透镜是（100）透镜与透镜轴线大致垂直于与其等效的{100}晶面或上的氟化物晶体的晶面。与具有至少两个氟晶透镜的透镜，如果氟化物晶体透镜的排列相对于彼此旋转时，它是有利的。氟化物晶体透镜的透镜轴可以由此除<100>晶向在<111> - 具有或在<110>晶。一个实现通过同时使用基团的双折射的功率STOE影响进一步减小与相互旋转（100）-lenses和组相互旋转（111）透镜或（110）的透镜。通过光学ELE-换货与补偿涂料的可用性实现双折射的干扰影响进一步降低。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式