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1. 发明申请

WO2006133884A2 OPTICAL ELEMENT WITH AN ANTIREFLECTION COATING, PROJECTION OBJECTIVE, AND EXPOSURE APPARATUS COMPRISING SUCH AN ELEMENT 审中-公开
标题翻译：具有抗反射涂层，投影目标和包含这些元件的曝光装置的光学元件
公开(公告)号：WO2006133884A2
公开(公告)日：2006-12-21
申请号：PCT/EP2006005630
申请日：2006-06-13
申请人： ZEISS CARL SMT AG , ZACZEK CHRISTOPH , PAZIDIS ALEXANDRA
发明人： ZACZEK CHRISTOPH , PAZIDIS ALEXANDRA
IPC分类号： G02B1/11 , G02B1/02 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70958 , G02B1/02 , G02B1/113 , G02B1/115 , G03F7/70341 , G03F7/70941
摘要： An optical element (14) transparent for radiation with a wavelength ? in the ultraviolet wavelength range below 250 nm, in particular at 193 nm, comprises a substrate (17) with a refractive index ns larger than 1.6, and an antireflection coating (16) formed on at least part of the surface of the substrate (17) between the substrate (17) and an ambient medium with a refractive index n A, preferably with n A =1.0. The antireflection coating (16) consists of a single layer of a material with a refractive index n L of about n L = vn A n S , in particular n L > 1.3, and the optical thickness d L of the single layer is about ?/4. The optical element (14) is preferably part of a projection objective (5) in a microlithography projection exposure apparatus (1) and located adjacent to a light-sensitive substrate (10).
摘要翻译：一种对波长为λ的辐射透明的光学元件（14）在250nm以下的紫外线波长范围，特别是193nm的紫外线波长范围中，包括折射率ns大于1.6的基板（17）和形成在基板（17）的至少一部分表面上的抗反射涂层）和具有折射率为n A的环境介质之间，优选地为n A = 1.0。抗反射涂层（16）由单层的折射率为大约nLL的材料组成，大约为n / 特别是nL 1.3，单层的光学厚度d L L约为λ/ 4。光学元件（14）优选在微光刻投影曝光装置（1）中的投影物镜（5）的一部分，并且位于与感光基板（10）相邻的位置。

2. 发明申请

WO2007025783A3 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION LIGHTING SYSTEM 审中-公开
标题翻译：微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2007025783A3
公开(公告)日：2007-05-10
申请号：PCT/EP2006008605
申请日：2006-09-04
申请人： ZEISS CARL SMT AG , KAMENOV VLADIMIR , KRAEHMER DANIEL , GRUNER TORALF , WEISSENRIEDER KARL-STEFAN , FELDMANN HEIKO , ZIRKEL ACHIM , PAZIDIS ALEXANDRA , THOME BRUNO , SIX STEPHAN
发明人： KAMENOV VLADIMIR , KRAEHMER DANIEL , GRUNER TORALF , WEISSENRIEDER KARL-STEFAN , FELDMANN HEIKO , ZIRKEL ACHIM , PAZIDIS ALEXANDRA , THOME BRUNO , SIX STEPHAN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B1/11 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70958
摘要： A microlithographic projection lighting system contains an optical element (36) that supports an antireflection coating (32) or a reflection coating in order to reduce or increase the reflectance. According to the invention, the antireflection coating is designed in such a manner that, over an angle of incident sector of 70°, the transmission coefficients of the antireflection coating for polarization states (42p 42s), which are orthogonal to one another, do not differ from one another by more than 10 %, preferably by no more than 3 %, and more preferably by no more than 1 %. The same applies to the reflection coefficients of the reflection coating. In order to correct for errors, which are caused by larger angular dependencies of the middle transmission or reflection coefficients and the effect upon the phase, the projection lighting system contains means (50) for homogenizing or distributing intensity, which are preferably placed in or in the vicinity of a field plane or pupil plane.
摘要翻译：微光刻投射曝光设备包括这有助于减少或抗反射涂层（32）和反射涂层的反射率的增加的光学元件（36）。根据本发明，Antiref法涂层被设计成使得在一定范围的70°远离的入射角，由不超过10％的Antire-柔性涂层相互正交的偏振态（42P 42S）的传输系数，优选不超过3％，更优选地，不超过1％，从彼此不同。这同样适用于反射涂层的反射系数。为了纠正错误，由平均传输或Ref和均质化的强度分布，其优选位于或靠近一个场或光瞳平面上引起含有该投射曝光系统的装置相（50）的效果的更大的角度依赖性lexionskoeffizienten 是。

3. 发明申请

WO2006053705A1 VERFAHREN ZUM SCHUTZ EINES METALLSPIEGELS GEGEN DEGRADATION SOWIE METALLSPIEGEL 审中-公开
标题翻译：一种保护金属镜抗降解和金属镜
公开(公告)号：WO2006053705A1
公开(公告)日：2006-05-26
申请号：PCT/EP2005/012197
申请日：2005-11-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ZACZEK, Christoph , PAZIDIS, Alexandra , ULLMANN, Jens , MÜLLENDER, Angelika , HAIDL, Markus , FELDERMANN, Horst
发明人： ZACZEK, Christoph , PAZIDIS, Alexandra , ULLMANN, Jens , MÜLLENDER, Angelika , HAIDL, Markus , FELDERMANN, Horst
IPC分类号： G02B5/08 , G02B1/11
CPC分类号： G02B5/283 , G02B1/111 , G02B5/0808
摘要： Bei einem Verfahren zum Schutz eines Metallspiegels für Ultraviolettstrahlung mit Wellenlängen zwischen ca. 120 nm und ca. 260 nm gegen Degradation von Reflexionseigenschaften durch Umwelteinflüsse wird ein Metallspiegel, der bei einer bevorzugten Ausführungsform eine Metallschicht aus Aluminium hat, mit einer Schutzschicht beschichtet, die bei einer bevorzugten Variante aus Chiolith (Na5AI3F14) besteht. Ein derartig dielektrisch geschützter Metallspiegel weist im Vergleich zu herkömmlichen dielektrisch geschützten Metallspiegeln eine geringere Degradation des Reflexionsvermögens bei Lagerung in Umgebungsatmosphäre auf. Auch die Beständigkeit gegen Degradation durch UV-Strahlung ist gegenüber herkömmlichen dielektrisch geschützten Metallspiegeln verbessert.
摘要翻译：在用于保护金属反射镜为约120nm至约260 nm至的反射特性由于环境影响降解之间的波长的紫外辐射的方法中，具有的铝金属层的金属镜，在一个优选实施例中，在涂有保护层锥冰晶石的优选的变体（Na5AI3F14）组成。这样的电介质保护层的金属反射镜，相对于传统的介质保护金属反射镜反射率的下降解当存储在环境大气中。另外，为了降解抗性通过UV辐射比常规的介电保护的金属反射镜提高。

4. 发明申请

WO2003076086A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR DEKONTAMINATION OPTISCHER OBERFLÄCHEN 审中-公开
标题翻译：方法和装置光学表面去污
公开(公告)号：WO2003076086A1
公开(公告)日：2003-09-18
申请号：PCT/EP2003/002464
申请日：2003-03-11
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LÜDECKE, Jens , ZAZCEK, Christoph , PAZIDIS, Alexandra , ULLMANN, Jens , MÜHLPFORDT, Annette , THIER, Michael , WIESNER, Stefan
发明人： LÜDECKE, Jens , ZAZCEK, Christoph , PAZIDIS, Alexandra , ULLMANN, Jens , MÜHLPFORDT, Annette , THIER, Michael , WIESNER, Stefan
IPC分类号： B08B7/00
CPC分类号： G03F7/70925 , B08B7/0057
摘要： 1. Verfahren und Vorrichtung zur Dekontamination optischer Oberflächen. 2.1. Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Dekontamination von Oberflächen strahlführender Optiken unter Verwendung von UV-Strahlung in einer Reinigungsatmosphäre. 2.2. Erfindungsgemäss liegt die Wellenlänge der verwendeten UV-Strahlung in einem Bereich starker Sauerstoffabsorption, und die Reinigungsatmosphäre weist eine Sauerstoffkonzentration kleiner als diejenige von Luft auf. 2.3. Verwendung z.B. zur Reinigung der Oberflächen strahlführender Optiken von Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen.
摘要翻译： 1.一种用于光学表面的净化方法和设备。 2.1。本发明涉及一种用于光束导向光学器件的表面的净化的方法和装置，用紫外辐照在清洁的气氛。 2.2。根据本发明，在氧的强吸收的区域所使用的UV辐射，并且清洁大气的波长的氧浓度小于空气的。 2.3。例如使用用于清洁微光刻投射曝光系统的光束导向光学元件的表面上。

5. 发明申请

WO2009062665A3 OPTICAL ELEMENT FOR THE REFLECTION OF UV RADIATION, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING THE SAME 审中-公开
标题翻译：用于反射紫外辐射的光学元件，制造该装置的方法以及包括该装置的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009062665A3
公开(公告)日：2009-09-03
申请号：PCT/EP2008009512
申请日：2008-11-12
申请人： ZEISS CARL SMT AG , PAZIDIS ALEXANDRA , ZACZEK CHRISTOPH , FELDERMANN HORST , HUBER PETER
发明人： PAZIDIS ALEXANDRA , ZACZEK CHRISTOPH , FELDERMANN HORST , HUBER PETER
IPC分类号： G02B5/08 , G02B17/08
CPC分类号： G02B5/0891 , G02B5/0833 , G03F7/70316 , G03F7/70958
摘要： The invention relates to an optical element (1a, 1b) for the reflection of UV radiation at an operating wavelength below 250 nm, preferably at 193 nm, comprising: a substrate (2a, 2b), a reflective layer (3a, 3b) made of aluminum superimposed on the substrate (2a, 2b), the reflective aluminum layer (3a, 3b) not being transparent to UV radiation. The reflective aluminum layer (3a, 3b) is (111)-plane oriented, and the reflective optical element (1a, 1b) has a reflectivity of more than 85 %, preferably of more than 88 %, more preferably of more than 92 %, in at least a range of incident angles of 10°, preferably of 15°, at the operating wavelength. The invention also relates to an optical element having a reflective layer made from a material having a higher melting point than aluminum, to methods for producing such optical elements, and to optical arrangements comprising such optical elements.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在低于250nm，优选在193nm的工作波长下反射UV辐射的光学元件（1a，1b），包括：衬底（2a，2b），制成的反射层（3a，3b）叠加在衬底（2a，2b）上的铝，反射铝层（3a，3b）对紫外辐射不透明。反射性铝层（3a，3b）是（111）面取向的，并且反射光学元件（1a，1b）具有大于85％，优选大于88％，更优选大于92％在至少10°的入射角范围内，优选在15°的工作波长。本发明还涉及具有由熔点高于铝的材料制成的反射层的光学元件，制造这种光学元件的方法以及包括这种光学元件的光学装置。

6. 发明申请

WO2007101860A1 OFF-AXIS-OBJEKTIVE MIT DREHBAREM OPTISCHEN ELEMENT 审中-公开
标题翻译：与旋转光学元件，离轴镜片
公开(公告)号：WO2007101860A1
公开(公告)日：2007-09-13
申请号：PCT/EP2007/052105
申请日：2007-03-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , PAZIDIS, Alexandra , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： PAZIDIS, Alexandra , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70308 , G03F7/70983
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Objektiv und ein Verfahren zum Betreiben eines Objektivs, insbesondere eines Projektions- oder Beleuchtungsobjektivs für die Mikrolithografie zur Abbildung eines Retikels auf einen Wafer, mit einer Mehrzahl von optischen Elementen, die entlang eines Strahlengangs angeordnet sind, wobei mindestens ein optisches Element (1) erster Art vorgesehen ist, welches von einem Strahlenbündel nur teilweise bestrahlt wird, wobei das oder mehrere optische Elemente erster Art um die oder parallel zur optischen Achse drehbar gelagert oder positionierbar sind, wobei für jedes optische Element erster Art mindestens zwei, vorzugsweise mehrere Lagerpositionen vorgesehen sind und wobei der Drehwinkel zwischen zwei Lagerpositionen durch die durch das Strahlenbündel bestrahlte Fläche (7) derart definiert ist, dass in den verschiedenen Lagerpositionen die von dem Strahlenbündel bestrahlten Flächen nicht überlappen.
摘要翻译：本发明涉及一种透镜和用于微光刻对掩模版的成像的投影或照明物镜具有多个沿光路设置的光学元件的操作的透镜，特别是在晶片上的方法，其中至少一个光学元件是（1）第一类型的设置，其通过辐射束只照射部分，其中，所述或多个第一类型的光学元件或安装平行于光学轴线旋转或可被定位，其中，多个用于第一类型的至少两个的每一个光学元件，优选提供存储位置，并且其中所述旋转由所述光束的表面照射限定的两个轴承位置之间的角度（7），使得在由所述光束照射的表面的各种存储位置不重叠。

7. 发明申请

WO2004057378A1 BESCHICHTETES OPTISCHES ELEMENT MIT KORREKTURWIRKUNG DURCH ERZEUGUNG EINER SCHICHTDICKENVARIATION ODER BRECHZAHLVARIATION IN DER BESCHICHTUNG 审中-公开
标题翻译：涂校正效果光学元件通过创建一个厚度变化或破坏数变异在涂料
公开(公告)号：WO2004057378A1
公开(公告)日：2004-07-08
申请号：PCT/EP2003/014543
申请日：2003-12-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , REISINGER, Gerd , PAZIDIS, Alexandra , GÖHNERMEIER, Aksel , DINGER, Alexander , PETASCH, Thomas , BÖHM, Thure , BÖRRET, Rainer
发明人： REISINGER, Gerd , PAZIDIS, Alexandra , GÖHNERMEIER, Aksel , DINGER, Alexander , PETASCH, Thomas , BÖHM, Thure , BÖRRET, Rainer
IPC分类号： G02B1/10
CPC分类号： G02B1/18 , C23C14/5873 , G02B1/10 , G03F7/70958
摘要： Ein optisches Element (10; 10') weist einen Elementkörper (12) und eine auf dem Elementkörper (12) aufgebrachte Beschichtung (9; 18) zur Veränderung des Reflexionsvermögens auf. In der Beschichtung werden Korrekturstrukturen (23) zur Korrektur von Abbildungsfehlern erzeugt, z.B. durch lokalen Materialabtrag oder durch lokales Verändern der Brechzahl. Falls die Beschichtung (18) eine nach aussen weisende Abschlussschicht (186) sowie eine oder mehrere zwischen der Abschlussschicht (186) und dem Elementkörper (12) angeordnete Zwischenschichten (181 bis 185) um fasst, so enthält vorzugsweise nicht die Abschlussschicht (186), sondern eine der Zwischenschichten (185) die Korrekturstrukturen (23). Das optische Element (10; 10') ist mechanisch stabiler und kontaminationsbeständiger als optische Elemente, bei denen unmittelbar von dem Elementkörper Material zur Erzielung einer Korrekturwirkung abgetragen wird.
摘要翻译：的光学元件（10; 10“）具有一个元件主体（12）和在元件主体（12）的反射率（9 18）施加的涂层，上的变化。在涂覆修正结构（23）用于成像误差，例如的校正产生通过局部去除材料或通过局部改变折射率。如果涂层（18）具有一个面向外的精加工层（186）和一个或覆盖层（186）和所述元件体之间更多（12），以便词语设置中间层（181〜185），因此优选地不包括所述帽层（186），但是中间层中的一个（185）的修正结构（23）。所述光学元件（10; 10“）是机械上更稳定和污染比其中立即从元件体材料中除去，以获得校正效果的光学元件具有抗性。

8. 发明申请

WO2011147916A1 SPIEGEL MIT DIELEKTRISCHER BESCHICHTUNG 审中-公开
标题翻译：与绝缘涂层MIRROR
公开(公告)号：WO2011147916A1
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：PCT/EP2011/058642
申请日：2011-05-26
申请人： CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH , ERXMEYER, Jeffrey , PAZIDIS, Alexandra , FELDERMANN, Horst
发明人： ERXMEYER, Jeffrey , PAZIDIS, Alexandra , FELDERMANN, Horst
IPC分类号： G02B5/28 , G02B5/08
CPC分类号： G02B5/08 , G02B5/0833 , G02B5/0891 , G02B5/284
摘要： Zum Einsatz in einem Etalon wird ein Spiegel mit einer dielektrischen Beschichtung (2) auf einem Substrat (3) vorgeschlagen, wobei die dielektrische Beschichtung (2) genau zwei Schichtstapel (4, 5) aufweist, einen ersten Schichtstapel (4) auf dem Substrat aus alternierend angeordneten Schichten (41, 42) aus hoch- und niedrigbrechenden Oxiden und einen darüber angeordneten zweiten Schichtstapel (5) aus alternierend angeordneten Schichten aus Fluoriden (52) und Oxiden (51), und wobei die Anzahl der Fluoridschichten (52) an der Gesamtanzahl der Schichten der dielektrischen Beschichtung (2) einen Anteil von weniger als 0,45 aufweist.
摘要翻译：用于在标准具，具有衬底（3）上的电介质涂层（2）的反射镜使用，提出，其中，所述电介质涂层（2）正好两个层堆叠（4,5），第一层堆（4）的在基板上交替配置的层（41，42）高和低折射率的氧化物和上覆的第二层堆（5）由氟化物的交替布置的层（52）和氧化物（51），并且其中氟化物层（52）的数量与总数量所述电介质涂层（2）的层具有小于0.45的比例存在。

9. 发明申请

WO2011006685A1 MIKROSPIEGELANORDNUNG MIT BESCHICHTUNG SOWIE VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译：根据上述制造涂层和方法微镜片布置
公开(公告)号：WO2011006685A1
公开(公告)日：2011-01-20
申请号：PCT/EP2010/054426
申请日：2010-04-01
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , LOERCHER, Roland , PAZIDIS, Alexandra
发明人： WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , LOERCHER, Roland , PAZIDIS, Alexandra
IPC分类号： G02B5/22 , G02B26/08 , G02B5/08 , G03F7/20
CPC分类号： G02B26/0833 , G02B5/0891 , G02B5/22 , G03F7/70291 , G03F7/70316 , G03F7/70941 , G03F7/70958
摘要： Die Erfindung betrifft eine Mikrospiegelanordnung (1), umfassend: mindestens einen Mikrospiegel (3) mit einer reflektierenden Oberfläche (11), die an einem Spiegelsubstrat (2) gebildet ist, sowie eine Anti-Reflexbeschichtung (7), die an dem Spiegelsubstrat (2) außerhalb der reflektierenden Oberfläche (11) gebildet ist. Eine reflektierende Beschichtung (8) ist innerhalb der reflektierenden Oberfläche (11) gebildet und weist wenigstens zwei Schichtteilsysteme auf, wobei das erste Schichtteilsystem Schichten (8e, 8f) aus einer periodischen Abfolge alternierender hoch und niedrig brechender Schichten aus einem nicht-metallischen Material aufweist und bezüglich einer Nutzwellenlänge der Mikrospiegelanordnung im Hinblick auf die Reflektivität optimiert ist und wobei das zweite Schichtteilsystem bezüglich einer von der Nutzwellenlänge abweichenden Messwellenlänge der Mikrospiegelanordnung im Hinblick auf die Reflektivität optimiert ist. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung, wobei die Beschichtung eine reflektierende Beschichtung (8) und eine Anti-Reflexbeschichtung (7) umfasst. Die Anti-Reflexbeschichtung (7) kann hierbei insbesondere zur Kompensation der Schichtspannung einer reflektierenden Beschichtung (8) dienen.
摘要翻译：本发明涉及一种微镜装置（1），包括：（3）具有形成在镜基板（2）上的反射表面（11）的至少一个微反射镜形成，且抗反射涂层（7），该（到镜基板2 ）的所述反射表面（11外侧形成）。反射涂层（8）的反射表面（11）的内部形成，并且具有至少两个层部分系统，其中，所述第一层子系统（8F 8E）具有交替的由非金属材料制成的高和低折射率层的周期序列的层，并且相对于优化的微反射镜装置的使用波长相对于反射率，并且其中所述第二层子系统相对于从微反射镜装置的相对于该反射率的测定波长不同的使用的波长进行优化。本发明还涉及一种用于制备涂层，其中该涂层包括一反射涂层（8）和抗反射涂层（7）的方法。抗反射涂层（7），在这里特别被用于补偿的反射涂层（8）的膜应力。

10. 发明申请

WO2009143879A1 AN ELEMENT, IN PARTICULAR AN OPTICAL ELEMENT, FOR IMMERSION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：一个元素，特别是一个光学元素，用于倾斜图
公开(公告)号：WO2009143879A1
公开(公告)日：2009-12-03
申请号：PCT/EP2008/010141
申请日：2008-11-29
申请人： CARL ZEISS SMT AG , PAZIDIS, Alexandra , SIX, Stephan , DÜSING, Rüdiger , FEDOSENKO, Gennady , VON PAPEN, Tilmann , ZACZEK, Christoph , HENSCHEL, Wolfgang
发明人： PAZIDIS, Alexandra , SIX, Stephan , DÜSING, Rüdiger , FEDOSENKO, Gennady , VON PAPEN, Tilmann , ZACZEK, Christoph , HENSCHEL, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20 , G02B1/10
CPC分类号： G03F7/70958 , G02B3/06 , G02B13/143 , G02B17/0892 , G03F7/70341
摘要： The present invention relates to an optical element (1) having an optically free diameter, the optical element comprising: a material that is transparent to wavelengths in the ultraviolet region, at least one of an oleophobic coating (6, 7) outside of the optically free diameter and an oleophilic coating (9b, 9c) which is transparent to wavelengths in the UV region inside the optically free diameter, wherein at least one of the oleophobic coating (6, 7) and the oleophilic coating (9b, 9c) is at least one of microstructured and arranged on a microstructured surface (2, 4, 5) of the optical element (1). The present invention also relates to an element having at least one contact area that can be brought into contact with an immersion fluid, the contact area comprising a microstructure or nanostructure produced by material removal and/or comprising a coating stabilised with respect to UV irradiation.
摘要翻译：本发明涉及具有光学自由直径的光学元件（1），该光学元件包括：对紫外线区域的波长透明的材料，光学上外部的疏油涂层（6,7）中的至少一个自由直径和对光学自由直径内的UV区域中的波长透明的亲油性涂层（9b，9c），其中疏油涂层（6,7）和亲油涂层（9b，9c）中的至少一个处于至少一个微结构并布置在光学元件（1）的微结构化表面（2,4,5）上。本发明还涉及具有至少一个能够与浸没流体接触的接触区域的元件，所述接触区域包括通过材料去除产生的微结构或纳米结构和/或包括相对于UV照射而稳定的涂层。

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