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1. 发明申请

WO2003009021A1 VERZÖGERUNGSELEMENT AUS KUBISCHEM KRISTALL UND OPTISCHE SYSTEME DAMIT 审中-公开
标题翻译：延迟元件立方晶体和光学系统THAT
公开(公告)号：WO2003009021A1
公开(公告)日：2003-01-30
申请号：PCT/DE2002/002392
申请日：2002-06-25
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , HARTMAIER, Jürgen , FIOLKA, Damian , ZENZINGER, Markus , MECKING, Birgit , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KAMENOV, Vladimir , BRUNOTTE, Martin
发明人： HARTMAIER, Jürgen , FIOLKA, Damian , ZENZINGER, Markus , MECKING, Birgit , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KAMENOV, Vladimir , BRUNOTTE, Martin
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B1/02 , G02B5/3091 , G03F7/70308 , G03F7/70966
摘要： Als Verzögerungselemente für das tiefe Ultraviolett werden Zentimeter dicke Platten oder Linsen aus Kalziumfluorid oder Bariumfluorid mit Strahlausbreitung in Richtung der -Kristallrichtung oder einer dazu äquivalenten Hauptachse vorgeschlagen, die spannungslos eingebaut werden. Eignung besonders für die Mikrolithographie bei 157 nm.
摘要翻译：由于延迟元件为深紫外线厘米提出在<110>晶与光束传播方向由氟化钙或氟化钡或与其等同的长轴厚的片材或透镜，其被内置通电。适宜特别是在157nm处微光刻。

2. 发明申请

WO2003005128A1 SENSOR ZUR STRAHLUNGSENERGIEBESTIMMUNG UND VERWENDUNG HIERFÜR 审中-公开
标题翻译：传感器辐射能量确定及其用途
公开(公告)号：WO2003005128A1
公开(公告)日：2003-01-16
申请号：PCT/EP2002/007252
申请日：2002-07-02
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , FIOLKA, Damian
发明人： FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70558 , G01J1/48 , Y10T436/206664
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf einen Sensor zur Bestimmung der Energie von Strahlung eines Typs, der zur Umwandlung von Sauerstoff in Ozon fähig ist, und auf eine Verwendung eines solchen Sensors. Erfindungsgemäss beinhaltet der Sensor eine von der Strahlung durchstrahlbare Messkammer (1) mit einem Gaseinlass (4) und einem Gasauslass (6), Mittel (8) zur Zuführung eines sauerstoffhaltigen Gases (9) in die Messkammer über den Gaseinlass und zur Gasabführung über den Gasauslass, ein Ozonsensorelement (10) zur Messung des Ozongehaltes des in Messkammer befindlichen oder des über den Gasauslass abgeführten Gases (9a) und Auswertemittel (12) zur Bestimmung der Strahlungsenergie aus dem gemessenen Ozongehalt. Der Sensor ist z.B. zur Strahlungsenergiebestimmung in einem mit der Strahlung arbeitenden optischen Abbildungssystem verwendbar. Verwendung z.B. in Mikrolithographie-Projektionsbelichtungssystemen.
摘要翻译：本发明涉及一种传感器，用于确定一种类型，它能够转化成氧气的臭氧的辐射的能量，以及在使用这样的传感器。根据本发明，包括：所述传感器包括一个可穿透的由辐射测量室（1）具有进气口（4）和气体出口（6），装置（8），用于供给含氧气体（9）经由气体入口和所述气体排出通过气体出口测量室，用于通过从所述测得的臭氧浓度来确定辐射能量的气体出口（9a）和评估装置（12）测量所述包含在所述测量腔室或排放气体的臭氧浓度的臭氧传感器元件（10）。该传感器例如辐射能量的与放射线成像光学系统的操作的判定是有用的。例如使用在微光刻投射曝光系统。

3. 发明申请

WO2003077011A1 OPTICAL SYSTEM WITH BIREFRINGENT OPTICAL ELEMENTS 审中-公开
标题翻译：具有双重光学元件的光学系统
公开(公告)号：WO2003077011A1
公开(公告)日：2003-09-18
申请号：PCT/EP2002/012446
申请日：2002-11-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , DITTMAN, Olaf , TOTZECK, Michael , DIECKMANN, Nils , KÖHLER, Jess , GRUNER, Toralf , KRÄHMER, Daniel
发明人： FIOLKA, Damian , DITTMAN, Olaf , TOTZECK, Michael , DIECKMANN, Nils , KÖHLER, Jess , GRUNER, Toralf , KRÄHMER, Daniel
IPC分类号： G02B27/28
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/08 , G02B27/286 , G02B27/288 , G03F7/70075 , G03F7/70191 , G03F7/70241 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要： Optical system (1) : with a first optical subsystem (3) comprising at least a first birefringent optical element (7), with a second optical subsystem (5) comprising at least a second birefringent optical element (9), wherein between the first optical subsystem and the second optical subsystem an optical retarding system (13) with at least a first optical retarding element (15) is arranged, which introduces a ratardation of one-half of a wavelength between two mutually orthogonal states of polarization.
摘要翻译：光学系统（1）：具有包括至少第一双折射光学元件（7）的第一光学子系统（3），其中第二光学子系统（5）包括至少第二双折射光学元件（9），其中在第一光学子系统和第二光学子系统，布置有至少具有第一光学延迟元件（15）的光学延迟系统（13），其引入在两个相互正交的极化状态之间的波长的一半的估计。

4. 发明申请

WO2011095209A1 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2011095209A1
公开(公告)日：2011-08-11
申请号：PCT/EP2010/051303
申请日：2010-02-03
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , GÖHNERMEIER, Aksel , FIOLKA, Damian , GRUNER, Toralf
发明人： GÖHNERMEIER, Aksel , FIOLKA, Damian , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7025 , G03F7/70233 , G03F7/70566
摘要： Die Erfindung betrifft eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage (600) mit einer Beleuchtungseinrichtung (601) und einem Projektionsobjektiv (602), wobei die Beleuchtungseinrichtung (601) im Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage (602) eine Objektebene OP des Projektionsobjektivs beleuchtet und das Projektionsobjektiv diese Objektebene auf eine Bildebene (W) abbildet, wobei die Beleuchtung der Objektebene mit linear polarisiertem Licht erfolgt, dessen Wellenlänge kleiner als 15 Nanometer (nm) ist, und wobei das Projektionsobjektiv wenigstens eine Pupille (110, 210, 310, 410, 510) aufweist, wobei wenigstens eine Begrenzungslinie dieser Pupille eine von einer Kreisform abweichende Geometrie aufweist.
摘要翻译：本发明涉及具有照明装置（601）以及投影透镜（602），其中所述照明装置（601）照射所述投射物镜的物平面OP中的投影曝光装置（602）的操作的微光刻投射曝光设备（600）和在该对象平面上的投影透镜（图像平面 W）映射，其中，所述物体面的照明与直线偏振光的波长是小于15纳米（nm），并且其中，所述投射物镜中，至少一个光瞳（110，210，310，410，510），所述进行至少一个边界线此光瞳的形状从圆形形状的几何形状偏离。

5. 发明申请

WO2008119794A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR ILLUMINATION DEVICE OR PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是照明设备或投影微波投影曝光装置的目标
公开(公告)号：WO2008119794A1
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：PCT/EP2008/053847
申请日：2008-03-31
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , GRUNER, Toralf , FIOLKA, Damian
发明人： TOTZECK, Michael , GRUNER, Toralf , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566
摘要： The invention relates to an optical system, in particular an illumination device or a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus, comprising a polarization compensator (100, 200, 300, 400, 800, 900), which has at least one polarization-modifying partial element (110-140, 210-240, 310-340, 410-440, 810-840, 910-940), and a manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b), by means of which the position of the at least one partial element can be altered, wherein, in the optical system, at least one operating mode (501-504) can be set in which the intensity, over a region which belongs to a plane perpendicular to the optical axis (OA) and which can be illuminated with light from said light source, does not exceed 20% of the maximum intensity in said plane, and wherein the manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b) is arranged in said region.
摘要翻译：本发明涉及光学系统，特别是微光刻投影曝光装置的照明装置或投影物镜，该光学装置或投影物镜包括极化补偿器（100,200,300,400,800,900），其具有至少一个偏振修正部分元件（110-140,210-240,310-340,410-440,810-840,910-940）和操纵器（150,250,722,851-854,951a-954a，951b-954b），借助于此可以改变至少一个部分元件的位置，其中在光学系统中，可以设置至少一个操作模式（501-504），其中强度在属于垂直于光轴（OA）的并且可以用来自所述光源的光照射的平面不超过所述平面中最大强度的20％，并且其中所述操纵器（150,250,722,851-854,951a -954a，951b-954b）布置在所述区域中。

6. 发明申请

WO2008107025A1 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2008107025A1
公开(公告)日：2008-09-12
申请号：PCT/EP2007/060360
申请日：2007-10-01
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , MAUL, Manfred , SCHWAB, Markus , SEITZ, Wolfgang , DITTMANN, Olaf
发明人： FIOLKA, Damian , MAUL, Manfred , SCHWAB, Markus , SEITZ, Wolfgang , DITTMANN, Olaf
IPC分类号： G02B27/28 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B3/0056 , G02B5/1876 , G02B27/283 , G02B27/285 , G02B27/286 , G03F7/70566
摘要： The invention relates to an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprising a depolariser (10, 500-900) which in conjunction with a light mixing system disposed downstream in the light propagation direction at least partially causes effective depolarisation of polarised light impinging on the depolariser (10, 500-900) and a microlens array (20) which is arranged upstream of the light mixing system in the light propagation direction and in which a plurality of microlenses (20a, 20b,... ) are arranged with a periodicity, wherein the depolariser (10, 500-900) is such that a contribution afforded by interaction of the depolariser (10, 500-900) on the one hand with the periodicity of the microlens array (20) on the other hand, to a residual polarisation distribution occurring in a pupil plane (PP) arranged downstream of the microlens array (20) in the light propagation direction has a maximum degree of polarisation of not more than 5%.
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的照明系统，其包括去极化器（10,500-900），其与在光传播方向上配置的下游的光混合系统相结合，至少部分地引起偏振光的入射极化去极化器（10,500-900）和微透镜阵列（20），其布置在光传播方向上的光混合系统的上游，并且其中多个微透镜（20a，20b，...）以周期性其中去极化剂（10,500-900）使得一方面由去极化剂（10,500-900）与微透镜阵列（20）的周期性相互作用提供的贡献另一方面在光传播方向上布置在微透镜阵列（20）下游的光瞳面（PP）中发生的残留极化分布具有不大于5％的最大极化度。

7. 发明申请

WO2005083517A3 BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2005083517A3
公开(公告)日：2005-09-09
申请号：PCT/EP2005/001948
申请日：2005-02-24
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , ZENZINGER, Markus
发明人： FIOLKA, Damian , ZENZINGER, Markus
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Ein Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes (7) mit dem Licht einer zugeordneten Lichtquelle (10) hat mindestens einen Polarisationskompensator (11) in einer Pupillenebene (23) des Beleuchtungssystems. Mit diesem kann eine von winkelabhängig polarisationsverändernden Elementen (5) eingeführte Polarisationsveränderung mindestens teilweise kompensiert werden. Der Polarisationskompensator (11) weist zur ortsabhängigen Polarisationsveränderung Polarisationsveränderungsmittel auf, die als doppelbrechende Elemente oder Elemente mit einer doppelbrechenden Struktur ausgebildet sein können. Durch eine solche Polarisationskompensation können insbesondere bei Verwendung eines nachfolgenden Projektionsobjektivs mit physikalischem Strahlteiler die Transmissionseigenschaften der Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage gesteigert werden.

8. 发明公开

EP1407299A1 VERZÖGERUNGSELEMENT AUS KUBISCHEM KRISTALL UND OPTISCHE SYSTEME DAMIT 审中-公开
标题翻译：延迟元件立方晶体和光学系统THAT
公开(公告)号：EP1407299A1
公开(公告)日：2004-04-14
申请号：EP02752986.6
申请日：2002-06-25
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG
发明人： HARTMAIER, Jürgen , FIOLKA, Damian , ZENZINGER, Markus , MECKING, Birgit , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf , KAMENOV, Vladimir , BRUNOTTE, Martin
IPC分类号： G02B5/30 , G02B1/02 , G02B1/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B1/02 , G02B5/3091 , G03F7/70308 , G03F7/70966
摘要： Centimetre-thick sheets or lenses made from calcium fluoride or barium fluoride with beam propagation in the direction of the crystal direction or a main axis equivalent thereto, used as delay elements for the deep ultraviolet are disclosed, embodied in a stress-free form. The above is particularly suitable for microlithography at 157 nm.

9. 发明公开

EP1405144A1 SENSOR ZUR STRAHLUNGSENERGIEBESTIMMUNG UND VERWENDUNG HIERFÜR 审中-公开
标题翻译：传感器辐射能量确定及其用途
公开(公告)号：EP1405144A1
公开(公告)日：2004-04-07
申请号：EP02751097.3
申请日：2002-07-02
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG
发明人： FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20 , G01J1/48
CPC分类号： G03F7/70558 , G01J1/48 , Y10T436/206664
摘要： The invention relates to a sensor for determining the radiated energy of a type which is capable of converting oxygen into ozone, and to the use of said sensor. According to the invention, the sensor contains a measuring chamber (1) which can be penetrated by radiation, comprising a gas inlet (4) and a gas outlet (6), means (8) for supplying gas (9) containing oxygen into the measuring chamber by the gas inlet and for supplying gas into the measuring chamber via the gas inlet and means for discharging said gas via the outlet, an ozone element (10) for measuring the ozone content of the gas (9a) in the measuring chamber or the gas (9a) discharged via the gas outlet, and evaluating means (12) for determining the radiation energy from the measured ozone content. The sensor can, for example, be used for determining the radiation energy in an optical imaging system working with said rays. Said sensor can be used, for example, in a microlithography-projection exposure system.

10. 发明申请

WO2012038112A1 BELEUCHTUNGSOPTIK MIT EINEM BEWEGLICHEN FILTERELEMENT 审中-公开
标题翻译：与移动过滤元件照明光学
公开(公告)号：WO2012038112A1
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：PCT/EP2011/061631
申请日：2011-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , LAYH, Michael , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
发明人： LAYH, Michael , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： F21V9/10 , F21V9/40 , G03F7/70083 , G03F7/70158 , G03F7/70191 , G03F7/70833 , G03F7/70891
摘要： Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungsoptik, zur Ausleuchtung eines Objektfeldes mit Strahlung einer ersten Wellenlänge. Dabei umfasst die Beleuchtungsoptik ein Filterelement zur Unterdrückung von Strahlung mit einer zweiten Wellenlänge. Das Filterelement mindestens eine obskurierend wirkende Komponente, so dass sich während des Betriebs der Beleuchtungsoptik aufgrund der obskurierend wirkenden Komponente mindestens einen Bereich (469, 471) reduzierter Intensität von Strahlung mit der ersten Wellenlänge auf einem in Lichtrichtung nach dem Filterelement angeordneten ersten optischen Element (407) der Beleuchtungsoptik ergeben. Hierbei kann das Filterelement eine Mehrzahl von Positionen einnehmen, die zu unterschiedlichen Bereichen (469, 471) reduzierter Intensität fuhren, wobei es zu jedem Punkt auf einer optischen Nutzfläche (441) des ersten optischen Elements (407) mindestens eine Position gibt, so dass der Punkt nicht in einem Bereich (469, 471) reduzierter Intensität liegt.
摘要翻译：本发明涉及的照明光学部件用于与第一波长的辐射照明物场。照明光学系统包括：用于在第二波长抑制辐射的过滤元件。该过滤器元件的至少一个obskurierend作用的组分，以使至少一个减少的辐射（的强度的照明光学部件的操作过程中，由于具有在过滤器元件的第一光学元件的布置在光方向的下游侧的第一波长的obskurierend作用的组分部分（469，471）407 ）照明光学产率。在这里，过滤器元件可以假设的减小的强度引线多个在不同的区域的位置的（469，471），其中，存在于在所述第一光学元件（407）的至少一个位置的光的区域（441）的任何位置，从而使的区域（469，471）的减小的强度是不指向。

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