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1. 发明专利

TWI490937B 清淨度評價方法、清淨化終點檢測方法及飛散微粒子檢測裝置有权
简体标题：清净度评价方法、清净化终点检测方法及飞散微粒子检测设备
公开(公告)号：TWI490937B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW100116321
申请日：2004-08-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：守屋剛 , MORIYA, TSUYOSHI , 長池宏史 , NAGAIKE, HIROSHI , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/66
CPC分类号： H01L21/67028 , B08B3/12 , H01J37/32862 , H01L21/6831

2. 发明专利

TWI421126B 中間搬運室及基板處理系統有权
简体标题：中间搬运室及基板处理系统
公开(公告)号：TWI421126B
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW096128005
申请日：2007-07-31
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：守屋剛 , MORIYA, TSUYOSHI , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI , 近藤圭祐 , KONDOH, KEISUKE , 岡寬樹 , OKA, HIROKI
IPC分类号： B01J3/02 , H01L21/677

3. 发明专利

TW201920968A 探針裝置审中-公开
简体标题：探针设备
公开(公告)号：TW201920968A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107126433
申请日：2018-07-31
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：河西繁 , KASAI, SHIGERU , 秋山直樹 , AKIYAMA, NAOKI , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI , 齊藤進 , SAITO, SUSUMU
IPC分类号： G01R31/26 , G01R1/067
摘要：提供一種使用在大氣中所產生之電漿來實施探針之清潔時，可藉由探針之配置位置來調整電漿之影響的探針裝置。在使探針接觸於基板所形成之被檢查元件以進行電氣特性之檢查的探針裝置中，於探針卡保持在使複數探針之前端突出的狀態下，來載置有檢查對象之基板的載置台係具備有使基板相對於被保持在探針卡的探針來相對性地移動的移動機構。電漿供給部為了去除異物，係會朝向探針來供給清潔用電漿，電位調節構件從朝向探針來供給電漿之位置看來，係被設置於探針之背面側，以調節該探針之電位。
简体摘要：提供一种使用在大气中所产生之等离子来实施探针之清洁时，可借由探针之配置位置来调整等离子之影响的探针设备。在使探针接触于基板所形成之被检查组件以进行电气特性之检查的探针设备中，于探针卡保持在使复数探针之前端突出的状态下，来载置有检查对象之基板的载置台系具备有使基板相对于被保持在探针卡的探针来相对性地移动的移动机构。等离子供给部为了去除异物，系会朝向探针来供给清洁用等离子，电位调节构件从朝向探针来供给等离子之位置看来，系被设置于探针之背面侧，以调节该探针之电位。

4. 发明专利

TWI610793B 壓印裝置及模板有权
简体标题：压印设备及模板
公开(公告)号：TWI610793B
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：TW102120421
申请日：2013-06-07
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岩崎賢也 , IWASAKI, KENYA , 房野泰明 , FUSANO, HIROAKI , 廣岡隆明 , HIROOKA, TAKAAKI , 長尾健 , NAGAO, TAKESHI , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI
IPC分类号： B29C59/02 , G03F7/00 , B29C33/00
CPC分类号： B29C59/16 , B29C35/0888 , B29C59/002 , B29C2035/0827 , B29L2031/772 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002

5. 发明专利

TWI412074B 減壓處理室內的構件清淨化方法及基板處理裝置有权
简体标题：减压处理室内的构件清净化方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI412074B
公开(公告)日：2013-10-11
申请号：TW093125563
申请日：2004-08-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：守屋剛 , MORIYA, TSUYOSHI , 長池宏史 , NAGAIKE, HIROSHI , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/67028 , B08B3/12 , H01J37/32862 , H01L21/6831

6. 发明专利

TWI469212B 電漿蝕刻方法有权
简体标题：等离子蚀刻方法
公开(公告)号：TWI469212B
公开(公告)日：2015-01-11
申请号：TW098109964
申请日：2009-03-26
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：本田昌伸 , HONDA, MASANOBU , 增澤健二 , MASUZAWA, KENJI , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI , 岩田學 , IWATA, MANABU , 佐藤學 , SATO, MANABU , 成重和樹 , NARISHIGE, KAZUKI
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32027 , H01J37/32091

7. 发明专利

TWI452626B 電漿處理裝置及電漿處理方法以及記憶媒體有权
简体标题：等离子处理设备及等离子处理方法以及记忆媒体
公开(公告)号：TWI452626B
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：TW098104963
申请日：2009-02-17
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岩田學 , IWATA, MANABU , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI , 增澤健二 , MASUZAWA, KENJI , 本田昌伸 , HONDA, MASANOBU
IPC分类号： H01L21/3065 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32027 , H01J37/32091 , H01J37/32165

8. 发明专利

TW201404573A 壓印裝置及模板审中-公开
简体标题：压印设备及模板
公开(公告)号：TW201404573A
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW102120421
申请日：2013-06-07
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岩崎賢也 , IWASAKI, KENYA , 房野泰明 , FUSANO, HIROAKI , 廣岡隆明 , HIROOKA, TAKAAKI , 長尾健 , NAGAO, TAKESHI , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI
IPC分类号： B29C59/02 , G03F7/00 , B29C33/00
CPC分类号： B29C59/16 , B29C35/0888 , B29C59/002 , B29C2035/0827 , B29L2031/772 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要：本發明之壓印裝置係包含：模板，其含有板狀之模板本體部、及形成於該模板本體部之表面上之特定形狀之圖案部；模板保持機構，其係保持上述模板；基板保持機構，其係於上述模板之上述圖案部與上述樹脂層接觸之狀態下，可保持形成有含有光硬化性樹脂之樹脂層之基板；及光照射機構，其係用以照射使上述光硬化性樹脂硬化之波長區域之光；且，上述模板自上述模板本體部之側面可入射上述光，上述光照射機構使上述光自上述模板本體部之側面入射，穿透該模板本體部，照射至上述樹脂層。
简体摘要：本发明之压印设备系包含：模板，其含有板状之模板本体部、及形成于该模板本体部之表面上之特定形状之图案部；模板保持机构，其系保持上述模板；基板保持机构，其系于上述模板之上述图案部与上述树脂层接触之状态下，可保持形成有含有光硬化性树脂之树脂层之基板；及光照射机构，其系用以照射使上述光硬化性树脂硬化之波长区域之光；且，上述模板自上述模板本体部之侧面可入射上述光，上述光照射机构使上述光自上述模板本体部之侧面入射，穿透该模板本体部，照射至上述树脂层。

9. 发明专利

TWI404139B 電漿蝕刻方法及電腦可讀取之記憶媒體有权
简体标题：等离子蚀刻方法及电脑可读取之记忆媒体
公开(公告)号：TWI404139B
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW098110461
申请日：2009-03-30
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：本田昌伸 , HONDA, MASANOBU , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI , 佐藤學 , SATO, MANABU
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/31116 , H01J37/32027 , H01J37/32091 , H01L21/67069

10. 发明专利

TWI497581B 基板處理裝置及排氣方法有权
简体标题：基板处理设备及排气方法
公开(公告)号：TWI497581B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW099107922
申请日：2010-03-18
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山涌純 , YAMAWAKU, JUN , 及川純史 , OIKAWA, JUNJI , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/67017

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