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1. 发明专利

TW201408471A 壓印方法及壓印裝置审中-公开
简体标题：压印方法及压印设备
公开(公告)号：TW201408471A
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW102120445
申请日：2013-06-07
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岩崎賢也 , IWASAKI, KENYA , 房野泰明 , FUSANO, HIROAKI , 廣岡隆明 , HIROOKA, TAKAAKI , 長尾健 , NAGAO, TAKESHI , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0002
摘要：本發明之壓印方法係包含：將樹脂塗佈於基板上，形成樹脂層之樹脂層形成步驟；使上述樹脂層與形成為特定形狀之模板接觸之模板接觸步驟；及使上述模板自上述樹脂層脫離之模板脫離步驟；且該方法係使上述樹脂層硬化者，且，於使上述樹脂層與上述模板接觸之前，進行脫氣步驟，該脫氣步驟至少包含：將上述樹脂周圍之環境減壓至第1壓力為止之第1減壓步驟；將上述樹脂周圍之環境升壓至高於上述第1壓力之第2壓力之第1升壓步驟；將上述樹脂周圍之環境減壓至低於上述第2壓力之第3壓力為止之第2減壓步驟；及將上述樹脂周圍之環境升壓至高於上述第3壓力之第4壓力之第2升壓步驟。
简体摘要：本发明之压印方法系包含：将树脂涂布于基板上，形成树脂层之树脂层形成步骤；使上述树脂层与形成为特定形状之模板接触之模板接触步骤；及使上述模板自上述树脂层脱离之模板脱离步骤；且该方法系使上述树脂层硬化者，且，于使上述树脂层与上述模板接触之前，进行脱气步骤，该脱气步骤至少包含：将上述树脂周围之环境减压至第1压力为止之第1减压步骤；将上述树脂周围之环境升压至高于上述第1压力之第2压力之第1升压步骤；将上述树脂周围之环境减压至低于上述第2压力之第3压力为止之第2减压步骤；及将上述树脂周围之环境升压至高于上述第3压力之第4压力之第2升压步骤。

2. 发明专利

TWI610793B 壓印裝置及模板有权
简体标题：压印设备及模板
公开(公告)号：TWI610793B
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：TW102120421
申请日：2013-06-07
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岩崎賢也 , IWASAKI, KENYA , 房野泰明 , FUSANO, HIROAKI , 廣岡隆明 , HIROOKA, TAKAAKI , 長尾健 , NAGAO, TAKESHI , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI
IPC分类号： B29C59/02 , G03F7/00 , B29C33/00
CPC分类号： B29C59/16 , B29C35/0888 , B29C59/002 , B29C2035/0827 , B29L2031/772 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002

3. 发明专利

TW201404573A 壓印裝置及模板审中-公开
简体标题：压印设备及模板
公开(公告)号：TW201404573A
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW102120421
申请日：2013-06-07
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岩崎賢也 , IWASAKI, KENYA , 房野泰明 , FUSANO, HIROAKI , 廣岡隆明 , HIROOKA, TAKAAKI , 長尾健 , NAGAO, TAKESHI , 中山博之 , NAKAYAMA, HIROYUKI
IPC分类号： B29C59/02 , G03F7/00 , B29C33/00
CPC分类号： B29C59/16 , B29C35/0888 , B29C59/002 , B29C2035/0827 , B29L2031/772 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要：本發明之壓印裝置係包含：模板，其含有板狀之模板本體部、及形成於該模板本體部之表面上之特定形狀之圖案部；模板保持機構，其係保持上述模板；基板保持機構，其係於上述模板之上述圖案部與上述樹脂層接觸之狀態下，可保持形成有含有光硬化性樹脂之樹脂層之基板；及光照射機構，其係用以照射使上述光硬化性樹脂硬化之波長區域之光；且，上述模板自上述模板本體部之側面可入射上述光，上述光照射機構使上述光自上述模板本體部之側面入射，穿透該模板本體部，照射至上述樹脂層。
简体摘要：本发明之压印设备系包含：模板，其含有板状之模板本体部、及形成于该模板本体部之表面上之特定形状之图案部；模板保持机构，其系保持上述模板；基板保持机构，其系于上述模板之上述图案部与上述树脂层接触之状态下，可保持形成有含有光硬化性树脂之树脂层之基板；及光照射机构，其系用以照射使上述光硬化性树脂硬化之波长区域之光；且，上述模板自上述模板本体部之侧面可入射上述光，上述光照射机构使上述光自上述模板本体部之侧面入射，穿透该模板本体部，照射至上述树脂层。

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