专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2007023909A1 ＡＢＯｘ型ペロブスカイト結晶構造を有する誘電体膜及びその誘電体膜を使用したコンデンサ並びにＡＢＯｘ型ペロブスカイト結晶構造を有する誘電体膜の形成方法及び形成システム审中-公开
标题翻译：具有二氧化钛型晶体结构的电介质膜，使用电介质膜的电容器，以及用于形成具有二氧化钛型晶体结构的电介质膜的方法和系统
公开(公告)号：WO2007023909A1
公开(公告)日：2007-03-01
申请号：PCT/JP2006/316631
申请日：2006-08-24
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 株式会社オクテック , イビデン株式会社 , 奥村勝弥 , 山田欣司 , 篠田智隆 , 王道海 , 北野高広 , 山西良樹 , 原田宗生 , 川口達三 , 廣田良浩 , 枩田健志
发明人：奥村勝弥 , 山田欣司 , 篠田智隆 , 王道海 , 北野高広 , 山西良樹 , 原田宗生 , 川口達三 , 廣田良浩 , 枩田健志
IPC分类号： H01L21/822 , B32B9/00 , H01G4/12 , H01L21/314 , H01L21/8242 , H01L27/04 , H01L27/108
CPC分类号： H01G4/1209 , H01L21/31691 , H01L27/101 , H01L28/56
摘要：　平均径が所定値以上の空隙（４２）を含むＡＢＯｘ型ペロブスカイト結晶構造を有する第１の薄膜（３１）の上に、空隙（４２）の平均径よりも小さい平均粒径のＡＢＯｘ型ペロブスカイト結晶構造を有する粒子を含む第２の塗布液を塗布し、加熱・焼成する。すると、ＡＢＯｘ型ペロブスカイト結晶構造を有する第２の薄膜（３２）が形成され、これにより、ＡＢＯｘ型ペロブスカイト構造を有する膜の積層膜から構成されるＡＢＯｘ型ペロブスカイト構造を有する誘電体膜（３）が得られる。該誘電体膜（３）は、第１の薄膜（３１）と第２の薄膜（３２）との境界領域の密度が、当該誘電体膜（３）の他の領域の密度より高い、という特徴を有する。
摘要翻译：公开了具有ABOx型钙钛矿结构的电介质膜（3），其由具有ABOx型钙钛矿结构的膜的层压体构成。电介质膜（3）可以通过在具有ABOx型钙钛矿晶体结构的第一薄膜（31）上制造并具有平均直径等于或大于预定值的空隙（42），施加第二包含各自具有ABOx型钙钛矿晶体结构并且平均粒径小于空隙（42）的平均直径的颗粒的涂层溶液，然后加热和烧制所得产物以形成第二薄膜（32）在第一薄膜（31）上具有ABOx型钙钛矿晶体结构。电介质膜（3）的特征在于，第一薄膜（31）与第二薄膜（32）之间的边界处的密度高于电介质薄膜（3）的任何其它区域的密度。

2. 发明申请

WO2007023648A1 基板加熱装置、塗布・現像装置および基板加熱方法审中-公开
标题翻译：基板加热装置，涂层/开发装置和加热基板的方法
公开(公告)号：WO2007023648A1
公开(公告)日：2007-03-01
申请号：PCT/JP2006/315209
申请日：2006-08-01
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 株式会社オクテック , 西孝典 , 北野高広 , 奥村勝弥
发明人：西孝典 , 北野高広 , 奥村勝弥
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/38
CPC分类号： G03F7/38
摘要：　処理容器（４）内の基板載置部（３１）と、水を気化する気化部（６１，６２，６４，６７）と、この気化部（６１，６２，６４，６７）にキャリアガスを供給するための供給路（６８）と、キャリアガスを気化部（６１，６２，６４，６７）に供給して得られた水蒸気を含む処理ガスを処理容器（４）内に供給するガス供給路（６５）と、基板が基板載置部（３１）に載置され、処理容器（４）内が処理ガスの露点温度よりも高い温度になった後に処理ガスを処理容器（４）内に供給する制御部（１００）とを備えるように基板加熱装置（２）を構成する。露光された基板を水蒸気雰囲気で加熱できるため、短時間の電子ビーム露光がなされたエネルギー注入量の少ないレジストの場合であっても加熱処理により露光領域にあたる部位を充分に変質させることができ、線幅精度も向上する。
摘要翻译：本发明提供一种基板加热装置（2），其包括处理容器（4）内的基板安装部（31），用于蒸发水的蒸发部（61,62,64,67），用于供给载气进入蒸发部分（61,62,64,67），用于供给含有水蒸汽的处理气体的气体供给路线（65），其通过将载气进料到蒸发部分（61,62,64,67 ）到处理容器（4）中，以及控制单元（100），用于在将基板安装在基板安装部（31）上之后进行处理气体供给到处理容器（4）中的控制，处理容器（4）达到高于处理气体的露点温度的温度。由于暴露的基板可以在水蒸汽气氛中被加热，所以即使在短时间暴露于电子束的能量引入量小的抗蚀剂的情况下，作为曝光区域的位置也可令人满意地进行也可以改善热处理时的质量变化和线宽精度。

3. 发明申请

WO2006009046A1 現像処理装置及び現像処理方法审中-公开
标题翻译：开发处理设备和开发处理方法
公开(公告)号：WO2006009046A1
公开(公告)日：2006-01-26
申请号：PCT/JP2005/012957
申请日：2005-07-13
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 株式会社オクテック , 西孝典 , 北野高広 , 奥村勝弥
发明人：西孝典 , 北野高広 , 奥村勝弥
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30 , G03F7/38
CPC分类号： G03F7/3021 , G03F7/26 , G03F7/38 , H01L21/67109 , H01L21/6715 , H01L21/67178
摘要：　現像処理装置は、基板を保持する基板保持部と、基板保持部に設けられ、レジスト膜をＰＥＢ処理するために、基板保持部の上で基板を加熱するヒータと、基板保持部の上で基板を冷却するクーラーと、基板保持部の上で基板に現像液を供給する現像液ノズルと、ヒータ、クーラー、現像液ノズルをそれぞれ制御する制御器と、を具備する。
摘要翻译：显影处理装置具有用于保持基板的基板保持部，安装在基板保持部上的加热器，对基板保持部进行加热以使抗蚀剂膜进行PEB处理，在基板保持用冷却器对衬底进行切割，用于将衬底保持部分提供给衬底的显影液的显影液喷嘴和用于单独控制加热器，冷却器和显影液体喷嘴的控制器。

4. 发明申请

WO2007032193A1 ＡＢＯｘ型ペロブスカイト結晶構造を有する誘電体膜の形成方法及び形成システム审中-公开
标题翻译：具有ABOX型PEROVSKITE型晶体结构的电介质膜的制造方法
公开(公告)号：WO2007032193A1
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/JP2006/316630
申请日：2006-08-24
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 株式会社オクテック , 奥村勝弥 , 北野高広 , 山西良樹 , 原田宗生 , 川口達三 , 廣田良浩
发明人：奥村勝弥 , 北野高広 , 山西良樹 , 原田宗生 , 川口達三 , 廣田良浩
IPC分类号： C04B35/46 , H01B19/00 , H01G4/12
CPC分类号： H01G4/1209 , C04B35/4682 , H01G4/33
摘要：　平均径が所定値以上の空隙（４２）を含むＡＢＯｘ型ペロブスカイト結晶構造を有する第１の薄膜（３１）の上に、空隙（４２）の平均径よりも小さい平均粒径のＡＢＯｘ型ペロブスカイト結晶構造を有する粒子を含む誘電体形成用組成液を塗布し、加熱・焼成する。すると、ＡＢＯｘ型ペロブスカイト結晶構造を有する第２の薄膜（３２）が形成され、これにより、ＡＢＯｘ型ペロブスカイト構造を有する膜の積層膜から構成されるＡＢＯｘ型ペロブスカイト構造を有する誘電体膜が得られる。誘電体形成用組成液の塗布の際、空隙（４２）に誘電体形成用組成液の一部が入り込むことで、誘電体膜における第１の薄膜（３１）と第２の薄膜（３２）との境界領域が緻密となる。
摘要翻译：将用于形成电介质体的组成溶液施加到第一薄膜（31）上，然后加热/烧制，其中第一薄膜（31）具有ABOx型钙钛矿型晶体结构，并且包含空隙（42），其具有平均直径等于或大于预定值，并且构成溶液含有各自具有ABOx型钙钛矿型晶体结构并且平均粒径小于空隙（42）的平均直径的颗粒。结果，具有ABOx型钙钛矿型晶体结构的第二薄膜（32）。以这种方式，可以制造具有ABOx型钙钛矿型结构并由具有ABOx型钙钛矿型结构的膜的叠层构成的电介质膜。电介质膜中的第一薄膜（31）和第二薄膜（32）之间的边界区域变得致密，因为在施加组分溶液期间，一部分组分溶液被结合到空隙（42）中。

5. 发明申请

WO2006009045A1 基板加熱装置及び基板加熱方法审中-公开
标题翻译：基板加热设备基板加热方法
公开(公告)号：WO2006009045A1
公开(公告)日：2006-01-26
申请号：PCT/JP2005/012956
申请日：2005-07-13
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 株式会社オクテック , 西孝典 , 北野高広 , 奥村勝弥
发明人：西孝典 , 北野高広 , 奥村勝弥
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/039 , G03F7/38
CPC分类号： G03F7/38 , H01L21/67109 , H01L21/67748
摘要：　化学増幅型レジストの塗布膜を有する基板を、露光後から現像前までの間に加熱処理する基板加熱装置において、レジスト塗布膜が上面となるように基板が実質的に水平に載置される載置台と、グリセリンを基板に供給する流体供給機構と、グリセリンをレジスト塗布膜に接触させた状態で、載置台上の基板を加熱する加熱機構と、を具備し、グリセリンをレジスト塗布膜に接触させた状態で、載置台上の基板を加熱する。
摘要翻译：基板加热装置在曝光后但在显影到具有化学放大抗蚀剂膜的基板之前进行热处理。基板加热装置设置有放置台，其中基板被放置在基本水平的位置，抗蚀剂膜位于顶部，用于向基板供给甘油的流体供给机构和用于将载置台上的基板加热的加热机构使甘油与抗蚀剂膜接触的状态。在基板加热装置中，在使甘油与抗蚀剂膜接触的状态下，放置台上的基板被加热。

6. 发明申请

WO2009031251A1 配線基板およびその製造方法审中-公开
标题翻译：配线基板及其制造方法
公开(公告)号：WO2009031251A1
公开(公告)日：2009-03-12
申请号：PCT/JP2007/072026
申请日：2007-11-13
申请人：イビデン株式会社 , 株式会社オクテック , 野村敏弘 , 瀬川博史 , 宮澤美文 , 奥村勝弥
发明人：野村敏弘 , 瀬川博史 , 宮澤美文 , 奥村勝弥
IPC分类号： H01L23/12 , H01L25/07 , H01L25/18
CPC分类号： H05K3/4046 , H01L23/3677 , H01L23/49811 , H01L23/49827 , H01L2924/0002 , H05K3/308 , H05K3/42 , H05K2201/10242 , H05K2201/10303 , H05K2201/1059 , H05K2203/033 , Y10T29/49155 , H01L2924/00
摘要：　繰り返し作動しても、低い接続抵抗と高い熱伝導度を保ち、耐久性の高い配線基板を提供する。配線基板（１０）は、複数のスルーホール（３）を有する基板（１１）と、スルーホール（３）の内壁に形成されるスルーホール導体（４）と、基板（１１）の少なくとも片面上に形成されスルーホール導体（４）に電気的に接続する配線（２）と、スルーホール導体（４）で囲まれる内部空間にその一方の端部（５ａ）が挿入されて当該スルーホール導体（４）と接触して電気的に接続し、その他方の端（５ｂ）が基板表面から突出する柱状の導体で形成される金属ポスト（５）と、を備える。配線基板（１０）は、複数の金属ポスト（５）について、基板（１１）の表面から突出するポストの他方の端（５ｂ）が同一平面に位置することも可能である。
摘要翻译：提供即使在基板重复操作并且具有高耐久性的情况下也保持低连接电阻和高导热性的布线基板。布线基板（10）包括具有多个通孔（3）的基板（11），形成在通孔（3）的内壁上的通孔导体（4），布线（2）形成在所述基板（11）的至少一个表面上并与所述通孔导体（4）电连接;以及金属柱（5），所述金属柱（5）的一端（5a）插入在所述通孔导体空穴导体（4）与通孔导体（4）接触并与其电连接，另一端（5b）由从基板的表面突出的柱状导体形成。在布线基板（10）中，从多个金属柱（5）的基板（11）的表面突出的另一端（5b）可以位于同一平面上。

7. 发明申请

WO2004023548A1 プローブ方法及びプローブ装置审中-公开
标题翻译：探索方法和探索
公开(公告)号：WO2004023548A1
公开(公告)日：2004-03-18
申请号：PCT/JP2003/011166
申请日：2003-09-01
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 須賀唯知 , 奥村勝弥 , 伊藤寿浩 , 片岡憲一 , 小松茂和 , 阿部祐一
发明人：須賀唯知 , 奥村勝弥 , 伊藤寿浩 , 片岡憲一 , 小松茂和 , 阿部祐一
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01R1/07314 , G01R1/06766 , G01R31/2831 , G01R31/2886
摘要：本発明のプローブ方法は、テスタ回路（Ｔ）と少なくとも１つのプローブ（１４４）を具備するプローブ装置（１０）を使用して、少なくとも１つの電極（Ｐ）を具備する被検査体（Ｗ）の電気的特性を検査するプローブ方法である。このプローブ方法は、（ａ）該被検査体の電極を還元処理する、（ｂ）該電極と該プローブを接触させる、（ｃ）該プローブにフリッティング現象を形成するための電圧を印加する（該電圧をプローブに印加することにより形成された該フリッティング現象は該電極と該プローブとの間を電気的な導通状態にする）を具備している。　　
摘要翻译：一种用于检查使用包括测试器电路（T）和至少一个探针（144）的探针（10）的至少一个电极（P）检查的物品（W）的电特性的探测方法。探测方法包括（a）用于减少检查中的物品的电极的步骤，（b）使探针与电极接触的步骤，以及（c）用于施加电压以产生烧结现象的步骤（通过向探针施加电压产生的烧结现象在电极和探针之间引起导电状态）。

8. 发明申请

WO2003107383A1 電子光学鏡筒およびその製造方法审中-公开
标题翻译：电子光学镜片及其制作方法
公开(公告)号：WO2003107383A1
公开(公告)日：2003-12-24
申请号：PCT/JP2003/007331
申请日：2003-06-10
申请人：奥村勝弥 , 三好元介
发明人：奥村勝弥 , 三好元介
IPC分类号： H01J37/16
CPC分类号： H01J37/12 , H01J37/147 , H01J37/153 , H01J2237/1215
摘要： An electronic optical lens barrel suitable for miniaturizing and a production method therefore. A barrel body (1) is provided with an inner tube (11) and an outer tube (12), and consists of high-resistance, conductive ceramics in its entirety. Electrostatic lenses (21, 22, 23, 24) are attached to the inner surface (111) of the inner tube by plating, depositing, or other means. Those electrodes or electrode pieces at a common potential out of electrodes or electrode pieces (211-213, 221, 231, 232, 241-243) constituting a lens are connected together with a common wiring, whereby it is possible to collectively connect the electrodes or electrode pieces at a common potential to an external wiring.
摘要翻译：因此适用于小型化的电子光学镜筒和制造方法。筒体（1）具有内管（11）和外管（12），其整体由高电阻导电陶瓷构成。静电透镜（21,22,23,24）通过电镀，沉积或其他方式附接到内管的内表面（111）。构成透镜的电极中的共同电位的电极或电极片或电极片（211-213,221,231,232,241-243）与公共布线连接在一起，由此可以将电极或与外部布线共同电位的电极片。

9. 发明申请

WO2007086400A1 試料表面検査方法及び検査装置审中-公开
标题翻译：检测样品表面的方法和装置
公开(公告)号：WO2007086400A1
公开(公告)日：2007-08-02
申请号：PCT/JP2007/051047
申请日：2007-01-24
申请人：株式会社荏原製作所 , 野路伸治 , 内藤儀彦 , 曽布川拓司 , 寺尾健二 , 畠山雅規 , 奥村勝弥
发明人：野路伸治 , 内藤儀彦 , 曽布川拓司 , 寺尾健二 , 畠山雅規 , 奥村勝弥
IPC分类号： H01J37/29 , G01N23/225 , H01J37/147 , H01J37/20 , H01J37/21 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/265 , G01R31/307 , H01J37/04 , H01J2237/2441 , H01J2237/2446 , H01J2237/2594 , H01J2237/2817
摘要：　精度の良い試料表面検査を行える方法及び装置を提供する。　電子線式試料表面検査装置を用いて試料表面を検査する方法であって、前記試料表面検査装置の電子銃から発生した電子ビームを前記試料表面に照射し、前記試料表面から発生した二次電子を検出器の電子検出面に向けて結像させ前記試料表面を検査する方法において、前記検出器の検出面における前記二次電子の結像条件を、前記試料表面の電位が前記試料表面に照射された電子ビームの量に応じて変化さるように制御することに特徴を有する
摘要翻译：提供了一种用于执行高精度样品表面检查的方法和装置。该方法用于通过使用电子束型样品表面检查装置来检查样品表面。在该方法中，用从样品表面检查装置的电子枪产生的电子束照射样品表面，从样品表面产生的二次电子聚焦在检测器的电子检测表面上，并检查样品表面。该方法的特征在于，根据施加在样品表面上的电子束的量，将二次电子在检测器的检测表面上的聚焦条件控制为使样品表面上的电位发生变化。

10. 发明申请

WO2007013445A1 金属部材の処理方法及び金属部材の処理装置审中-公开
标题翻译：用于处理金属构件的方法和用于处理金属构件的装置
公开(公告)号：WO2007013445A1
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：PCT/JP2006/314653
申请日：2006-07-25
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 株式会社オクテック , 古屋邦浩 , 熊谷泰徳 , 奥村勝弥
发明人：古屋邦浩 , 熊谷泰徳 , 奥村勝弥
IPC分类号： H01L21/60 , B23K20/24 , C23G5/00
CPC分类号： C23G5/00 , B23K20/24 , H01L21/67092 , H01L24/75 , H01L24/81 , H01L2224/75 , H01L2224/75251 , H01L2224/75252 , H01L2224/81014 , H01L2224/81193 , H01L2224/81801 , H01L2924/01004 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01047 , H01L2924/0105 , H01L2924/01079
摘要：【課題】電極同士を接合する前に、塩酸を用いずに電極表面の酸化膜を除去する。【解決手段】電極が形成されている２つのチップを処理容器内に搬入し、それぞれ上部チャックと下部チャックに吸着する。その後、処理容器内に窒素ガスを導入し、低酸素雰囲気にする。その後、処理容器内に水素ガスと窒素ガスを導入し、その混合ガスの雰囲気の下、各電極を加熱する。こうすることにより、各電極の表面の酸化膜が水素により還元され、電極の表面から酸化膜が除去される。
摘要翻译：在将电极连接在一起之前，电极表面上的氧化膜被除去而不使用盐酸。分别设置有电极的两个芯片被携带到处理室中，并且分别被吸到上卡盘和下卡盘上。然后，将氮气引入处理室，从而产生低氧气氛。之后，将氢气和氮气引入处理室，并在混合气体气氛中加热每个电极。因此，各电极表面的氧化膜被氢还原，氧化膜从电极表面除去。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式