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31. 发明申请

WO2009013230A1 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的光学系统
公开(公告)号：WO2009013230A1
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/EP2008/059435
申请日：2008-07-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MÜLLER, Ralf , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , FELDMANN, Heiko , PAUL, Hans-Jochen
发明人： MÜLLER, Ralf , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael , FELDMANN, Heiko , PAUL, Hans-Jochen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70308 , G02B5/205 , G02B5/283 , G02B26/001 , G02B26/0825 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70566
摘要： The invention concerns an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus. To permit comparatively flexible and fast influencing of intensity distribution and/or the polarization state, an optical system according to the invention comprises at least one layer system (120, 200) which is at least one-side bounded by a lens or a mirror, wherein said layer system (120, 200) is an interference layer system of several layers and has at least one liquid or gaseous layer portion (123, 220) whose maximum thickness is at a maximum 1 micrometer (μm), and a manipulator (105) for manipulation of the thickness profile of said layer portion (123, 220).
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的光学系统。为了允许强度分布和/或偏振状态的相对灵活和快速的影响，根据本发明的光学系统包括至少一个由透镜或反射镜限定的一个层系统（120,200）其中所述层系统（120,200）是几层的干涉层系统，并且具有至少一个最大厚度最大为1微米（μm）的液体或气体层部分（123,220）和机械手（105）），用于操纵所述层部分（123,220）的厚度分布。

32. 发明申请

WO2008064845A1 METHOD OF MANUFACTURING A PROJECTION OBJECTIVE AND PROJECTION OBJECTIVE MANUFACTURED BY THAT METHOD 审中-公开
标题翻译：通过该方法制造投影目标和投影目标的方法
公开(公告)号：WO2008064845A1
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：PCT/EP2007/010244
申请日：2007-11-26
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FELDMANN, Heiko , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander
发明人： FELDMANN, Heiko , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70225 , G03F7/70275 , G03F7/705 , G03F7/70983
摘要： A method of manufacturing a projection objective including the steps of defining an initial design for a projection objective and optimizing the design using a merit function having a plurality of merit function components AB, IRRAD EFP, each of which reflects a particular quality parameter. One of that merit function components defines a maximum irradiance requirement requiring that a normalized effective irradiance value representing an effective irradiance AB, IRRAD EFF normalized to an effective irradiance in an image surface of the projection objective does not exceed a predefined irradiance threshold value IRR TV on each optical surface of the projection objective except for a last optical surface directly adjacent to an image surface of the projective objective. Optical surfaces positioned within caustic regions and/or critically small effective sub-apertures on optical surfaces are thereby systematically avoided.
摘要翻译：一种制造投影物镜的方法，包括以下步骤：定义投影物镜的初始设计，并使用具有多个优点函数分量AB，IRRAD EFP的优值函数优化设计，每个优点函数分量反映了特定的质量参数。其中一个优点功能组件定义了最大辐照度要求，要求表示在投影物镜的图像表面中归一化为有效辐照度的有效辐照度AB，IRRAD EFF的归一化有效辐照度值不超过预定的辐照度阈值IRR TV 投影物镜的每个光学表面除了与投影物镜的图像表面直接相邻的最后光学表面之外。因此系统地避免了位于苛性区域内的光学表面和/或光学表面上的临界小的有效子孔。

33. 发明申请

WO2007085290A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR KORREKTUR VON ABBILDUNGSFEHLERN 审中-公开
标题翻译：方法和设备更正错误的图片
公开(公告)号：WO2007085290A2
公开(公告)日：2007-08-02
申请号：PCT/EP2006/012120
申请日：2006-12-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SORG, Franz , DEUFEL, Peter , GRUNER, Toralf
发明人： SORG, Franz , DEUFEL, Peter , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70308 , G03F7/70825 , G03F7/70933
摘要： Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem ersten und mindestens einem weiteren optischen Korrekturelement. Dabei ist das erste optische Korrekturelement im Bereich einer Pupillenebene der Projektionsbelichtungsanlage angeordnet und das weitere optische Korrekturelement in einem größeren Abstand von der Pupillenebene angeordnet als das erste Korrekturelement. Darüber hinaus betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem ersten und mindestens einem weiteren optischen Korrekturelement, wobei das erste optische Korrekturelement in der Nähe einer Pupillenebene der Projektionsbelichtungsanlage in einer Trägerfassung angeordnet ist und das weitere optische Korrekturelement in einer Hilfsfassung austauschbar in der Trägerfassung angeordnet ist. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Korrektur von Abbildungsfehlern einer Projektionsbelichtungsanlage in der Halbleiterlithographie, mit mindestens den folgenden Schritten - Vorsehen eines optischen Korrekturelementes - Erfassen der Einsatzparameter der Projektionsbelichtungsanlage - Vorhersage von Degradationserscheinungen Fertigung mindestens eines angepassten Korrekturelementes vorab Austausch des Korrekturelementes zu einem festgelegten Zeitpunkt
摘要翻译：本发明涉及一种投影曝光装置，其具有第一和至少一个附加的光学校正元件半导体光刻。在此，在投影曝光装置的光瞳平面的区域中的第一校正光学元件被布置和另外的光学校正元件被布置在来自光瞳平面作为第一校正元件更大的距离。此外，本发明涉及一种投影曝光装置，其具有第一和至少一个附加的光学校正元件，其中，在所述投影曝光装置的光瞳平面的附近的第一校正光学元件设置在一个承载框架，并在载体插座可互换布置在辅助框架的进一步光学校正元件半导体光刻是。本发明还涉及用于校正在半导体光刻的投射曝光设备的像差的方法，包括至少以下步骤： - 提供光学校正元件 - 检测所述投射曝光设备的操作参数 - 退化现象产生至少一个调整的校正元件的预测提前更换校正元件的固定时间

34. 发明申请

WO2007066225A3 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG MIKROSTRUKTURIERTER BAUELEMENTE 审中-公开
公开(公告)号：WO2007066225A3
公开(公告)日：2007-06-14
申请号：PCT/IB2006/003878
申请日：2006-11-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GRUNER, Toralf , GEH, Bernd
发明人： GRUNER, Toralf , GEH, Bernd
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Bei einem Verfahren zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente wird in einer mikrolithographischen Projekti- onsbelichtungsanlage (PEA) ein Muster (M) aus Strukturen (STl bis ST6) in eine Bildebene eines Projektionsobjektivs (PL) abgebildet. Erfindungsgemäß wird derart auf die Dosisverteilung von Projektionslicht in der Bildebene eingewirkt, daß das Abbild einer Struktur zumindest im wesentlichen unabhängig von der Topographie von Strukturen ist, die sich innerhalb eines die Struktur umgebenden Bereichs befinden.

35. 发明申请

WO2007025783A2 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微米级投影曝光设备
公开(公告)号：WO2007025783A2
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：PCT/EP2006/008605
申请日：2006-09-04
申请人： CARL-ZEISS SMT AG , KAMENOV, Vladimir , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , FELDMANN, Heiko , ZIRKEL, Achim , PAZIDIS, Alexandra , THOME, Bruno , SIX, Stephan
发明人： KAMENOV, Vladimir , KRÄHMER, Daniel , GRUNER, Toralf , WEISSENRIEDER, Karl-Stefan , FELDMANN, Heiko , ZIRKEL, Achim , PAZIDIS, Alexandra , THOME, Bruno , SIX, Stephan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B1/11 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70958
摘要： Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage enthält ein optisches Element (36), das zur Verringerung oder Erhöhung des Reflexionsvermögens eine Antireflex- Beschichtung (32) bzw. eine Reflex-Beschichtung trägt. Erfindungsgemäß ist die Antiref lex-Beschichtung derart ausgelegt, daß über einen Einfallswinkelbereich von 70° hinweg sich die Transmissionskoeffizienten der Antire- flex-Beschichtung für zueinander orthogonale Polarisationszustände (42p 42s) um nicht mehr als 10%, vorzugsweise um nicht mehr als 3%, weiter vorzugsweise um nicht mehr als 1%, voneinander unterscheiden. Entsprechendes gilt für den Reflexionskoeffizienten der Reflex-Beschichtung. Zu Korrektur von Fehlern, die durch größere Winkelabhängigkeiten des mittleren Transmissions- oder Ref lexionskoeffizienten und der Wirkung auf die Phase verursacht sind, enthält die Projektionsbelichtungsanlage Mittel (50) zur Homogenisierung einer Intensitätsverteilung, die vorzugsweise in oder in der Nähe einer Feld- oder Pupillenebene angeordnet sind.
摘要翻译：
的微光刻投射曝光设备包含BEAR为lt光学元件（36）用于减少或玉儿＆OUML;反射率＆OUML的红;一族的防反射涂层（32）和反射涂层TR＆AUML; GT。发明＆AUML;大街例如，抗反射涂层被设计成使得？在70°的入射角范围内。中的时间，Antire-柔性涂层˚F导航用途r的传输系数相互正交的偏振不超过10％的状态HANDS（42P 42S），优选不超过3％，更优选不超过1％，从彼此不同。这同样适用于反射涂层的反射系数。对于由GR＆ouml错误校正;道路ERE引起所述相位中间传动或REF lexionskoeffizienten和效果的角度依赖性BEAR包含保持所述投射曝光系统的装置（50），用于在均质化的强度BEAR tsverteilung，优选或者在场或瞳孔飞机附近。

36. 发明申请

WO2006125617A2 METHOD FOR IMPROVING THE IMAGING PROPERTIES OF A PROJECTION OBJECTIVE, AND SUCH A PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：改进投影目标成像特性的方法及其投影目标
公开(公告)号：WO2006125617A2
公开(公告)日：2006-11-30
申请号：PCT/EP2006/004929
申请日：2006-05-24
申请人： CARL ZEISS SMT AG , CONRADI, Olaf , FELDMANN, Heiko , RICHTER, Gerald , BLEIDISTEL, Sascha , FROMMEYER, Andreas , GRUNER, Toralf , HUMMEL, Wolfgang
发明人： CONRADI, Olaf , FELDMANN, Heiko , RICHTER, Gerald , BLEIDISTEL, Sascha , FROMMEYER, Andreas , GRUNER, Toralf , HUMMEL, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0068 , G02B3/0081 , G02B26/0825 , G03F7/7015 , G03F7/70266 , G03F7/70558 , Y10S359/90
摘要： The invention relates to a method for improving the imaging properties of a microlithography projection objective, wherein the projection objective has a plurality of lenses between an object plane and an image plane, a first lens of the plurality of lenses being assigned a first manipulator for actively deforming the lens, the first lens being deformed for at least partially correcting an aberration, at least one second lens of the plurality of lenses furthermore being assigned at least one second manipulator, and the second lens being deformed in addition to the first lens. Furthermore, a method is described for selecting at least one lens of a plurality of lenses of a projection objective as actively deformable element, and a projection objective.
摘要翻译：本发明涉及一种用于改善微光刻投影物镜的成像特性的方法，其中所述投影物镜在物平面和像平面之间具有多个透镜，所述多个透镜的第一透镜被分配用于主动的第一操纵器使透镜变形，第一透镜被变形以至少部分地校正像差，多个透镜中的至少一个第二透镜进一步被分配至少一个第二操纵器，并且第二透镜除了第一透镜之外也变形。此外，描述了一种用于选择投影物镜的多个透镜中的至少一个透镜作为主动变形元件和投影物镜的方法。

37. 发明申请

WO2006084479A1 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置
公开(公告)号：WO2006084479A1
公开(公告)日：2006-08-17
申请号：PCT/EP2005/001435
申请日：2005-02-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , DEGÜNTHER, Markus
发明人： GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , DEGÜNTHER, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70108 , G03F7/70141 , G03F7/70191
摘要： A projection exposure apparatus has a projection lens (10) with an object plane (34), an image plane, an optical axis (28) and a non-telecentric entrance pupil (32). The apparatus further comprises an illumination system (12) having an intermediate field plane (80) and a field stop (36; 36'). The field stop is positioned in or in close proximity to the intermediate field plane (80) and defines an illuminated field (14) in the object plane (34) that does not contain the optical axis (28) of the projection lens (24). The illumination system (12) is configured such that, in the object plane (34), a mean of the angles formed between all principal rays (42) emanating from the intermediate field plane (80) on the one hand and the optical axis (28) of the projection lens (24) on the other hand differs from 0 ° .
摘要翻译：投影曝光装置具有具有物平面（34），像平面，光轴（28）和非远心入射光瞳（32）的投影透镜（10）。该装置还包括具有中间场平面（80）和场停止（36; 36'）的照明系统（12）。场停止件位于中间场平面（80）中或紧邻中间场平面（80），并且在物平面（34）中限定不包含投影透镜（24）的光轴（28）的照明场（14）。照明系统（12）被配置为使得在物平面（34）中，一方面从中间场平面（80）发射的所有主光线（42）和光轴（42）之间形成的平均角另一方面，投影透镜（24）的光束（28）不同于0°。

38. 发明申请

WO2006053751A2 PROJEKTIONSOBJEKTIV EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光设备的投影目标
公开(公告)号：WO2006053751A2
公开(公告)日：2006-05-26
申请号：PCT/EP2005/012327
申请日：2005-11-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BEIERL, Helmut , BLEIDISTEL, Sascha , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , WEBER, Jochen , FELDMANN, Heiko , SCHWAER, Bärbel , ROGALSKY, Olaf , KAZI, Ari
发明人： BEIERL, Helmut , BLEIDISTEL, Sascha , SINGER, Wolfgang , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , WABRA, Norbert , BEDER, Susanne , WEBER, Jochen , FELDMANN, Heiko , SCHWAER, Bärbel , ROGALSKY, Olaf , KAZI, Ari
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70891
摘要： Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage weist ein Projektionsobjektiv (20) auf, das ein Objekt (24) auf eine Bildebene (28) abbildet und eine Linse (L3) mit einer gekrümmten Fläche (S) hat. In dem Projektionsobjektiv (20) befindet sich ein flüssiges oder festes Medium (34), das unmittelbar an die gekrümmte Fläche (S) über einen Bereich hinweg angrenzt, der für die Abbildung des Objekts (24) nutzbar ist. Die Projektionsbelichtungsanlage weist außerdem einen verstellbaren Manipulator (M) zur Verringerung einer Bildfeldwölbung auf, die durch eine Erwärmung des Mediums (34) während des Projektionsbetriebs verursacht wird.
摘要翻译：
的微光刻投射曝光设备包括：一个投影透镜（20）到图像平面（28）的图像的对象（24）和具有一个冠导航中使用的透镜（L3）奈德FL＆AUML;枝（S）具有，在投影透镜20中，存在液体或固体介质34，其在与图像相邻的区域上紧邻曲面S 物体（24）的尺寸是可用的。投影曝光＆害羞;植物具有坳道除了可调节的操纵器（M），以减少一个Bildfeldw＆OUML; lbung，其通过EI＆害羞; NE广告＆AUML;所述介质（34）的变暖W＆AUML; Projektionsbe＆期间害羞;引起驱动。

39. 发明申请

WO2003054631A1 VERFAHREN ZUR OPTIMIERUNG DER ABBILDUNGSEIGENSCHAFTEN VON MINDESTENS ZWEI OPTISCHEN ELEMENTEN SOWIE PHOTOLITHOGRAPHISCHES FERTIGUNGSVERFAHREN 审中-公开
标题翻译：法在合理至少两个光学元件和光刻制造工艺的图片属性
公开(公告)号：WO2003054631A1
公开(公告)日：2003-07-03
申请号：PCT/EP2002/011030
申请日：2002-10-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MECKING, Birgit , GRUNER, Toralf , KOHL, Alexander
发明人： MECKING, Birgit , GRUNER, Toralf , KOHL, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70591 , G02B5/3083 , G03F7/70258 , G03F7/70566 , G03F7/70966 , Y10S359/90
摘要： Bei einem Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens zwei optischen Elementen (9, 10), bei dem die relative Lage der optischen Elemente (9, 10) zur Optimierung der optischen Abbildung zueinander eingestellt wird, werden folgende Verfahrensschritte durchgeführt: Zunächst wird eine polarisationsabhängige Störgrösse für mindestens ein optisches Element (9, 10) bestimmt. Anschliessend wird eine Zielposition mindestens eines beweglichen optischen Elements (9) aus der für dieses bestimmten Störgrösse und den Störgrössen der weiteren optischen Elemente berechnet. In welcher dieser Zielposition ist die Gesamtgrösse aller optischen Elemente (6), zusammengesetzt aus polarisationsabhängigen und polarisationsunabhängigen Störgrössen, minimiert. Schliesslich wird das bewegliche optische Element (9) in die Zielposition bewegt. Die Berücksichtigung der polarisationsabhängigen Störgrösse gewährleistet eine präzise Modellierung der Abbildungseigenschaften, welche die Voraussetzung für eine exakte Optimierung ist.
摘要翻译：在用于优化至少两个光学元件（9,10），其中所述光学元件的相对位置（9,10），以优化所述光学图像被调整为彼此的成像特性的方法中，执行以下的处理步骤：首先，将偏振相关的干扰量对于至少一个光学元件（9,10）。随后，目标位置计算的至少一个可移动的光学元件（9）适用于另外的光学元件的这种扰动变量和扰动变量。在此目标位置是偏振依赖性和偏振无关的扰动构成所有光学元件（6）的总尺寸最小化。最后，可移动光学元件（9）移动到目标位置。考虑到偏振相关扰动变量可以确保的摄像特性的精确建模，这对于精确优化的前提。

40. 发明公开

EP2067076A2 PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHY APPARATUS WITH IMPROVED IMAGING PROPERTIES AND METHOD FOR IMPROVING THE IMAGING PROPERTIES OF THE PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：具有改进图像属性和方法微光刻设备防护镜，以提高保护镜头的图像性能
公开(公告)号：EP2067076A2
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：EP07818556.8
申请日：2007-09-28
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： BECKENBACH, Mariella , RIEF, Klaus , BERTELE, Andreas , SIGEL, Benjamin , BLEIDISTEL, Sascha , HUMMEL, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , GRUNER, Toralf , SCHWAER, Jochen , SCHWAER, Baerbel , SCHLETTERER, Thomas , HOEGELE, Artur , SCHOEPPACH, Armin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/023 , G02B13/14 , G02B27/0068 , G03F7/70058 , G03F7/70266
摘要： A projection objective for microlithography comprises a plurality of lenses (32, 34, 36, 38, 42) which in each case have a local optical axis (40), a first manipulator (60) with a first actuator (46, 72) and at least one second actuator (48, 74) being assigned to at least one first lens (42) from the plurality of lenses (32, 34, 36, 38). A first force input and/or moment input can be realized by means of the first actuator (46, 72) and a second force input and/or moment input can be realized by means of the second actuator (48, 74), wherein the first force input and/or moment input and the second force input and/or moment input differ with regard to at least one of the parameters: intensity of the force and/or moment input, direction of the force input relative to the local optical axis (40), direction of the moment input relative to a periphery of the first lens (42).

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