专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2021129341A1 一种批量化生产AR衍射光波导的方法和设备审中-公开
公开(公告)号：WO2021129341A1
公开(公告)日：2021-07-01
申请号：PCT/CN2020/133637
申请日：2020-12-03
申请人：青岛五维智造科技有限公司
发明人：兰红波 , 许权 , 赵佳伟 , 朱晓阳
IPC分类号： G02B6/13 , G02B6/124 , B29C64/10 , B33Y10/00 , G02B27/01 , B29C33/3842 , B29C59/022 , B29C64/393 , B29D11/00663 , B29K2905/08 , B33Y50/02 , C25D1/10 , G02B2027/0178 , G02B27/0172 , G02B6/0038 , G02B6/0065 , G03F7/0002
摘要：一种批量化生产AR衍射光波导的方法和设备，可以实现任意形状大面积表面浮雕倾斜光栅AR衍射光波导低成本批量化生产，采用双光子聚合微纳3D打印实现任意形状倾斜光栅大面积母版的制造，一方面解决了任意形状倾斜光栅母版制造的难题，另一方面能实现大尺寸晶圆级母版的直接制造，而且还具有制造成本低和生产效率高的优势。采用复合纳米压印光刻技术，结合压印特有适合倾斜光栅压印工艺和复合软模具，解决了大倾斜角、大槽深倾斜光栅无法脱模导致无法制造的难题，实现了倾斜光栅几何形状和尺寸无约束制造。

2. 发明申请

WO2020252448A1 METHOD FOR ACCELERATED PRODUCTION OF ELECTROFORM TOOLING INSERTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2020252448A1
公开(公告)日：2020-12-17
申请号：PCT/US2020/037719
申请日：2020-06-15
申请人： SHARKLET TECHNOLOGIES, INC.
发明人： STONEBERG, Ryan Eugene , BALLARD, Kevin Lee
IPC分类号： C25D1/10 , B29C45/37 , B29C59/00 , B33Y10/00 , B33Y50/02 , C23C18/16
摘要： Disclosed herein is a method comprising growing a shim by disposing a mandrel having an optional textured surface in an electrolytic bath, where the shim contains a negative image of the optional textured surface formed by electrolytic deposition of a metal; affixing the shim working-side down on a reference plane using a fixture; optically scanning the shim to reverse engineer a geometry of a non-working surface, where reverse engineering a geometry of the non-working surface includes developing a profile of the non-working surface and the thickness of the shim; and adding a material to the non-working surface of the shim via additive manufacturing to form a tool insert.

3. 发明申请

WO2018084448A8 모판, 모판의 제조 방법, 마스크의 제조 방법 및 OLED 화소 증착 방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2018084448A8
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：PCT/KR2017/011362
申请日：2017-10-16
申请人： 주식회사 티지오테크
发明人： 장택용
IPC分类号： C25D1/20 , C25D1/10
摘要： 본 발명은 모판, 모판의 제조 방법, 마스크의 제조 방법 및 OLED 화소 증착 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 모판의 제조 방법은, 전주 도금(Electroforming)으로 마스크 제조시 사용되는 모판(Mother Plate; 20)을 제조하는 방법으로서, (a) 전도성 단결정 실리콘 재질인 기재(21)를 제공하는 단계 및 (b) 기재(21)의 적어도 일면 상에 패턴을 가지는 절연부(25)를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

4. 发明申请

WO2017148394A1 LIGA FABRICATION PROCESS 审中-公开
标题翻译： LIGA制造工艺
公开(公告)号：WO2017148394A1
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：PCT/CN2017/075351
申请日：2017-03-01
申请人： MASTER DYNAMIC LIMITED
发明人： WANG, Yingnan , KONG, Ching Tom
IPC分类号： G03F7/04 , C25D1/10
摘要： Provided is a process of forming a three-dimensional micro component, including the step of (i) forming a three-dimensional (3D) geometry contour within a photoresist material using two-photon absorption polymerization, wherein the three-dimensional geometry contour forms a cross-linked polymeric contour defining an outer surface portion of a micro component upon the three-dimensional geometry portion formed in the photoresist having been baked; and (ii) applying a UV (ultraviolet) polymerization process so as to cross-link polymeric material of the photoresist adjacent said three-dimensional geometry contour.
摘要翻译：提供了一种形成三维微型部件的方法，包括以下步骤：（i）使用双光子吸收聚合在光致抗蚀剂材料内形成三维（3D）几何轮廓，其中所述三维几何轮廓形成交联聚合物轮廓，所述交联聚合物轮廓在所述光致抗蚀剂中形成的所述三维几何部分已经被烘焙之后限定微部件的外表面部分; 和（ii）施加UV（紫外线）聚合过程以交联邻近所述三维几何轮廓的光刻胶的聚合物材料。

5. 发明申请

WO2013153578A1 電気鋳造部品の製造方法审中-公开
标题翻译：制造电气元件的方法
公开(公告)号：WO2013153578A1
公开(公告)日：2013-10-17
申请号：PCT/JP2012/002550
申请日：2012-04-12
申请人：株式会社LEAP , 佐野孝史 , 寺田常徳
发明人：佐野　孝史 , 寺田　常徳
IPC分类号： C25D1/10 , H01L21/60
CPC分类号： C25D1/10 , H01L21/4853 , H01L23/49816 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L2224/0401 , H01L2224/05624 , H01L2224/11003 , H01L2224/1111 , H01L2224/11334 , H01L2224/13019 , H01L2224/131 , H01L2924/00014 , H01L2924/014
摘要：　電鋳により製造される、幅に対する高さの比率が大きなハイレシオ部品を形成するための電気鋳造部品の製造方法を提供する。部品４０の移植工程において部品４０の転倒又は脱落を防止するため、金属基板１０の基板表面を粗面加工するステップと、部品１０の所望のアスペクト比を形成するための、部品パターンの反転パターンであるフォトレジストパターン３０を所望の厚さＴとなるよう形成するステップと、フォトレジストパターン３０をマスクに、電気鋳造により部品を所望の厚さＴ以下の高さｔとなるよう形成するステップと、フォトレジストパターン３０を除去するステップと、形成された部品４０を部品基板９０に移植するステップとを含む。
摘要翻译：本发明提供一种通过电铸制造电铸部件的方法，以形成具有高宽比的部件。本发明包括：在移动部件（40）的过程期间使金属基板（10）的基板表面粗糙化以防止部件（40）的脱落或脱离的步骤; 将作为部件图案的相反图案的光致抗蚀剂图案（30）形成为期望厚度（T）以便形成所述部件（40）的期望纵横比的步骤; 通过用作为掩模的光致抗蚀剂图案（30）进行电铸而将部件形成为等于或小于所需厚度（T）的高度（t）的步骤; 去除光致抗蚀剂图案（30）的步骤; 以及将成形部件（40）移栽到部件基板（90）的工序。

6. 发明申请

WO2013072954A1 転写金型の製造方法、それによって作製された転写金型、及びその転写金型によって作製された部品审中-公开
标题翻译：用于转移模具的生产方法，使用其生产的转移模具以及使用所述转移模具生产的组件
公开(公告)号：WO2013072954A1
公开(公告)日：2013-05-23
申请号：PCT/JP2011/006356
申请日：2011-11-15
申请人：株式会社LEAP , 佐野孝史 , 寺田常徳
发明人：佐野　孝史 , 寺田　常徳
IPC分类号： C25D1/10 , B29C33/38
CPC分类号： B29C59/02 , B29C33/3842 , B29C33/58 , C25D1/00 , C25D1/003 , C25D1/22 , Y10T428/24802
摘要：　電気鋳造により部品を形成するための、作業性が良く、耐久性に富んだ転写金型、及びそれによる部品を提供する。金属基板１０上に所望の部品パターンの反転パターンを形成し、この反転パターンをマスクにして、金属基板１０をエッチングし、所望の部品パターンを形成するステップと、反転パターンを熱処理するか、又は、反転パターンを取り去り、その取り去った場所に絶縁層３０、５０を形成するステップと、を含む。
摘要翻译：提供：用于形成具有良好可加工性和优异耐久性的使用电铸的部件的转移模具; 和使用其制造的组件。还提供了一种转移模具的制造方法，其包括：在金属基板（10）上形成期望的部件图案的反转图案的步骤，使用反转图案蚀刻金属基板（10）作为掩模，并且形成所需的部件图案; 以及反转图案被热处理或反转图案去除的步骤，并且在去除部位形成绝缘层（30,50）。

7. 发明申请

WO2011027184A1 DISPOSITIF D'ÉLABORATION À TEMPÉRATURE AMBIANTE DE NANOFILS DE SI PAR ÉLECTRODÉPOSITION, PRCÉDÉ DE PRÉPARATION ET NANOFILS OBTENUS 审中-公开
标题翻译：用于通过在环境温度下电沉积生产硅纳米微粒的装置，其制备方法和结晶纳米颗粒的方法
公开(公告)号：WO2011027184A1
公开(公告)日：2011-03-10
申请号：PCT/IB2009/006466
申请日：2009-08-04
申请人： UNIVERSITE DE REIMS CHAMPAGNE ARDENNE , MOLINARI, Michaël , MALLET, Jérémy , TROYON, Michel , MARTINEAU, Florie
发明人： MALLET, Jérémy , TROYON, Michel , MARTINEAU, Florie
IPC分类号： C25D1/02 , C25D1/10 , C25D3/66 , C25D9/08 , D01F9/08
CPC分类号： C25D1/02 , B82Y30/00 , C25D1/10 , C25D3/665 , C25D9/08
摘要： La présente invention concerne un dispositif d'élaboration par électrodéposition de nanofils de silicium pur à froid dans une enceinte en isolation de l'atmosphère, le procédé associé et les nanofils obtenus. Le dispositif comprend au moins une solution de dépôt (1a), un solvant ionique (1 b), un substrat (2) caractérisé en ce qu'il comprend au moins une membrane nanoporeuse (2a). Le dispositif et le procédé associé permettent l'élaboration à moindre coût d'un grand nombre de nanofils de silicium pur amorphes de diamètres réguliers et de longueurs désirés et permettent en outre d'obtenir des nanofils de silicium cristallin en effectuant des recuits sous vide après l'élaboration.
摘要翻译：本发明涉及一种用于通过电绝缘在与大气绝缘的外壳中的纯硅纳米线冷加工的装置，相关方法和所得的纳米线。该装置包括至少一个沉积溶液（1a），离子溶剂（1b）和基底（2），其特征在于其包括至少一个纳米多孔膜（2a）。该器件和相关方法允许更廉价地制造具有均匀直径和期望长度的大量无定形纯硅纳米线，并且通过在制备后通过真空退火来获得晶体硅纳米线。

8. 发明申请

WO2008082421A1 ANTIREFLECTIVE SURFACES, METHODS OF MANUFACTURE THEREOF AND ARTICLES COMPRISING THE SAME 审中-公开
标题翻译：抗反射表面及其制造方法和包含其的文章
公开(公告)号：WO2008082421A1
公开(公告)日：2008-07-10
申请号：PCT/US2007/000400
申请日：2007-01-05
申请人： GENERAL ELECTRIC COMPANY , MILLER, Scott, Michael
发明人： MILLER, Scott, Michael
IPC分类号： C25D1/08 , C25D1/10 , C25D11/02 , C25D11/04 , G02B1/11
CPC分类号： G02B1/118 , B29C39/148 , B29C39/18 , B32B3/30 , B32B15/08 , B32B38/06 , B32B2037/243 , B32B2038/0076 , B32B2307/40 , C25D1/06 , C25D7/08 , C25D11/12 , C25D11/18
摘要： Disclosed herein is an antireflective viewing surface comprising a viewing surface; and a textured layer disposed upon the viewing surface; wherein the textured layer comprises a plurality of protrusions that are smaller than the wavelength of light and that are aperiodically distributed across the viewing surface. Disclosed herein too is a method of manufacturing an antireflective viewing surface comprising electroforming a metal upon a first template to form an electroformed metal template; wherein the first template comprises a plurality of pores; disposing a layer of a polymeric resin on a viewing surface; pressing the electroformed metal template against the polymeric resin; and solidifying the polymeric resin.
摘要翻译：本文公开了包括观察表面的抗反射观察表面; 和设置在观察表面上的纹理层; 其中纹理化层包括小于光的波长的多个突起，并且不均匀地分布在观察表面上。本文还公开了制造抗反射观察表面的方法，其包括在第一模板上电铸金属以形成电铸金属模板; 其中所述第一模板包括多个孔; 在观察表面上设置聚合物树脂层; 将电铸金属模板压在聚合物树脂上; 并固化聚合物树脂。

9. 发明申请

WO2003071006A1 微細電鋳用金型とその製造方法审中-公开
标题翻译：精细电铸模具及其制造方法
公开(公告)号：WO2003071006A1
公开(公告)日：2003-08-28
申请号：PCT/JP2003/001686
申请日：2003-02-18
申请人：住友電気工業株式会社 , 新田耕司 , 稲澤信二 , 細江晃久
发明人：新田耕司 , 稲澤信二 , 細江晃久
IPC分类号： C25D1/10
CPC分类号： C25D1/10
摘要： A fine electroforming mold having a simple structure which can be manufactured easily. In order to improve productivity of a metal product composed of a metal thin film, electrode portions to function as cathodes during electroforming can be arranged with a higher density and a metal thin film formed on the electrode portions can easily be peeled off. The mold has a staying power and can be used a plurality of times. There is also disclosed a manufacturing method for manufacturing the fine electroforming mold with a higher accuracy by an easier way. The fine electroforming mold (M) has a conductive substrate (1) to function as a cathode during electroforming. On the surface of the conductive substrate (1), an insulation layer (2) having an opening (21) reaching the conductive substrate (1) and having a shape corresponding to a shape of a metal product (P) when viewed from above is formed of an inorganic insulation material with a thickness T2 not smaller than 10 nm and smaller than 1/2 of thickness T1 of the metal product (P). The surface of the conductive substrate (1) exposed at the portion of the opening (21) is made to serve as an electrode portion. The manufacturing method is as follows. On the region excluding the area where a resist film (R) is pattern-formed on the surface of the conductive substrate (1), a single-layered or multi-layered inorganic film (2') is formed to grow into the insulation layer (2) by the vapor phase growth method. After this, the resist film (R) is removed and the opening (21) having a shape corresponding to the shape of the metal product (P) viewed from above and reaching the conductive substrate (1) is formed in the inorganic thin film (2').
摘要翻译：具有易于制造的结构简单的精细电铸模具。为了提高由金属薄膜构成的金属制品的生产率，可以以更高的密度设置电铸时用作阴极的电极部分，并且可以容易地剥离形成在电极部分上的金属薄膜。模具具有保持力并可多次使用。还公开了一种以更简单的方式制造具有更高精度的精细电铸模的制造方法。精细电铸模具（M）具有在电铸期间用作阴极的导电基板（1）。在导电性基板（1）的表面上，从上方观察到具有与金属制品（P）的形状对应的形状的具有到达导电性基板（1）的开口部（21）的绝缘层（2）由不小于10nm且小于金属产品（P）的厚度T1的1/2的厚度T2的无机绝缘材料形成。将在开口部21露出的导电性基板（1）的表面作为电极部。制造方法如下。在除了导电性基板（1）的表面上形成有抗蚀剂膜（R）的区域之外的区域上，形成单层或多层无机膜（2'）以生长到绝缘层（2）通过气相生长法。之后，除去抗蚀剂膜（R），并且形成与从上方观察并到达导电性基板（1）的与金属制品（P）的形状对应的形状的开口（21）在无机薄膜 2' ）。

10. 发明申请

WO98045504A1 ARTICLE, METHOD, AND APPARATUS FOR ELECTROCHEMICAL FABRICATION 审中-公开
标题翻译：电化学制造的文章，方法和装置
公开(公告)号：WO98045504A1
公开(公告)日：1998-10-15
申请号：PCT/US1998/006591
申请日：1998-04-03
IPC分类号： B81C1/00 , B21C37/00 , C23F1/00 , C25D20060101 , C25D1/00 , C25D1/10 , C25D5/02 , C25D5/10 , C25D7/12 , C25D17/06 , C25D19/00 , C25D21/12 , H01L21/288 , H05K3/24
CPC分类号： C25D5/10 , B33Y10/00 , B33Y70/00 , B81C1/00126 , B81C2201/0181 , B81C2201/0197 , B81C2201/032 , C25D1/00 , C25D1/003 , C25D5/022 , C25D5/12 , C25D5/22 , C25D17/06 , H01L21/2885 , H05K3/241 , Y10T428/12486 , Y10T428/239
摘要： An electroplating method that includes: a) contacting a first substrate (2) with a first electroplating article (4), which includes a support and a conformable mask disposed in a pattern on the support; b) electroplating a first metal from an electroplating bath (58) which is a source of metal ions onto the first substrate in a first pattern, the first pattern corresponding to the complement of the conformable mask pattern; and c) removing the first article from the first substrate, is disclosed. The method may be used in the microfabrication of miniaturized devices. Electroplating articles and electroplating apparatus are also disclosed.
摘要翻译：一种电镀方法，其包括：a）使第一基板（2）与第一电镀制品（4）接触，所述第一电镀制品（4）包括支撑件和以图案布置在所述载体上的适形掩模; b）以第一图案将来自作为金属离子源的电镀浴（58）电镀第一金属到所述第一基板上，所述第一图案对应于所述适形掩模图案的所述补体; 和c）从第一基板上去除第一制品。该方法可用于微型装置的微细加工。还公开了电镀制品和电镀装置。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式