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1. 发明申请

WO2017074264A1 NANOINJECTION MOLDING 审中-公开
标题翻译：纳米注射成型
公开(公告)号：WO2017074264A1
公开(公告)日：2017-05-04
申请号：PCT/SG2016/050527
申请日：2016-10-27
申请人： AGENCY FOR SCIENCE, TECHNOLOGY AND RESEARCH , BANSHING INDUSTRIAL PTE LTD
发明人： SAIFULLAH, Mohamed Sultan Mohiddin , CHONG, Siew Ling Karen , LOKE, Yee Chong , CHENG, Alvin , LEONG, Nicholas
IPC分类号： B29C45/37 , B29C59/02 , B82Y40/00 , B81C1/00 , C23C14/34 , C25D1/00
CPC分类号： B29C45/37 , B81C99/009 , B81C2201/0153 , B82Y40/00 , C23C14/14 , C23C14/34 , C25D1/10 , G03F7/0002
摘要： An injection mold insert with hierarchical structures and a method for method of making such injection mold inserts are provided. The method includes imprinting a primary imprint structure on an article and imprinting a secondary imprint structure on the primary imprint structure on the article. The secondary imprint structure includes a plurality of shapes, each of the plurality of shapes being substantially smaller than shapes of the primary imprint structure. The method further includes bonding the article to a substrate, sputter-coating the article with a metal film as an electroforming seed layer, and electroforming the injection mold insert over the article. Finally, the method includes dissolving the article to define the injection mold insert having a negative replica of the primary and secondary imprint structures.
摘要翻译：提供了具有分层结构的注塑模具插入物和制造这种注塑模具插入物的方法。该方法包括在物品上压印主压印结构并在物品上的主压印结构上压印次压印结构。次级压印结构包括多个形状，多个形状中的每一个形状基本上小于主压印结构的形状。该方法进一步包括将制品粘合到基底上，用作为电铸种层的金属膜溅射涂覆制品，并且将注塑模具插件电铸在制品上。最后，该方法包括溶解制品以限定具有主要和次要压印结构的负复制品的注塑模具插入件。

2. 发明申请

WO2017014172A1 蒸着用メタルマスク基材、蒸着用メタルマスク、蒸着用メタルマスク基材の製造方法、および、蒸着用メタルマスクの製造方法审中-公开
标题翻译：用于蒸气沉积的金属掩模基板，用于蒸气沉积的金属掩模，用于蒸气沉积的金属掩模基板的生产方法，以及用于蒸气沉积的金属掩模的生产方法
公开(公告)号：WO2017014172A1
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：PCT/JP2016/070951
申请日：2016-07-15
申请人：凸版印刷株式会社
发明人：田村　純香 , 新納　幹大 , 藤戸　大生 , 西辻　清明 , 西　剛広 , 三上　菜穂子
IPC分类号： C23C14/04 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C25B11/041 , C23C14/042 , C25C1/08 , C25C7/08 , C25D1/10 , C25D5/16 , C25D11/34 , H01L51/0011
摘要：蒸着用メタルマスク基材（１０）は、表面と、前記表面とは反対側の面である裏面とを備えるニッケル含有金属シート（１１）を含み、前記表面および前記裏面の少なくとも一方は、レジスト層が位置するための対象面であり、前記対象面の表面粗さＳａが０．０１９μｍ以下であり、かつ、前記対象面の表面粗さＳｚが０．３０８μｍ以下である。
摘要翻译：用于气相沉积的金属掩模基板（10）包括设置有与前表面相反的表面和后表面的含镍金属片（11）。前表面和/或后表面用作用于定位抗蚀剂层的目标表面。目标表面的表面粗糙度Sa不大于0.019μm，目标表面的表面粗糙度Sz不大于0.308μm。

3. 发明申请

WO2013168646A1 表面処理銅箔及びそれを用いた積層板、銅箔、プリント配線板、電子機器、並びに、プリント配線板の製造方法审中-公开
标题翻译：使用相同的表面处理铜箔和层压板，铜箔，印刷线路板，电子设备和生产印刷线路板的方法
公开(公告)号：WO2013168646A1
公开(公告)日：2013-11-14
申请号：PCT/JP2013/062658
申请日：2013-04-30
申请人： JX日鉱日石金属株式会社
发明人：新井　英太 , 三木　敦史
IPC分类号： C25D7/06 , B32B15/08 , H05K1/09 , H05K3/38
CPC分类号： H05K3/382 , C25D1/04 , C25D1/10 , C25D1/12 , C25D1/14 , C25D3/562 , C25D3/58 , C25D5/16 , C25D7/0614 , C25D7/0692 , H05K3/022
摘要：　樹脂と良好に接着し、且つ、銅箔をエッチングで除去した後の樹脂の透明性に優れた表面処理銅箔及びそれを用いた積層板を提供する。表面処理銅箔は、銅箔表面に粗化処理により粗化粒子が形成され、粗化処理表面のＴＤの平均粗さＲｚが０．２０～０．８０μｍであり、粗化処理表面のＭＤの６０度光沢度が７６～３５０％であり、前記粗化粒子の表面積Ａと、前記粗化粒子を前記銅箔表面側から平面視したときに得られる面積Ｂとの比Ａ／Ｂが１．９０～２．４０である。
摘要翻译：提供：能够令人满意地粘附到树脂上的表面处理铜箔，其优点在于，当通过蚀刻去除箔时，所得到的树脂显示出高透明度; 和使用该箔的层压体。该表面处理铜箔在表面具有粗糙化颗粒，所述颗粒通过粗糙化处理形成。在经表面处理的铜箔中，经过粗糙化处理的表面的TD平均粗糙度（Rz）为0.20〜0.80μm，MD光泽度在60°下为76〜350％，A / B比为1.90〜 2.40 [A表示粗糙粒子的表面积，B表示从铜箔的表面侧观察的粗糙粒子的面积。

4. 发明申请

WO2013161454A1 微細パターン転写用のモールドの製造方法及びそれを用いた凹凸構造を有する基板の製造方法、並びに該凹凸構造を有する基板を有する有機ＥＬ素子の製造方法审中-公开
标题翻译：用于生产用于转印微细图案的模具的方法，使用其制造具有未结构结构的基板的方法，以及用于生产具有未结构的具有基底的有机EL元件的方法
公开(公告)号：WO2013161454A1
公开(公告)日：2013-10-31
申请号：PCT/JP2013/057851
申请日：2013-03-19
申请人： JX日鉱日石エネルギー株式会社
发明人：關　隆史 , 増山　聡 , 福田　真林 , 西村　涼
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/38 , H01L21/027 , H01L51/50 , H05B33/02 , H05B33/10
CPC分类号： B29C33/3878 , B29C33/3807 , B29C33/3842 , B29C33/424 , B29C45/263 , B29C59/022 , B29C59/026 , B29C2033/385 , B29C2059/023 , B29K2105/0061 , B29K2825/08 , B29K2833/12 , B29L2011/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C25D1/10 , G03F7/0002 , G03F7/165 , H01L51/5262 , H01L51/5275 , H01L51/56 , H05B33/10
摘要：　回折格子のような凹凸構造を有する基板の製造に好適である微細パターン転写用のモールドを簡易なプロセスで且つ高いスループットで提供する。　微細パターン転写用のモールドの製造方法は、基材の表面にブロック共重合体とポリアルキレンオキシドとを含む溶液を塗布する工程と、ブロック共重合体を有機溶媒蒸気の存在下で相分離させて表面に凹凸構造を有し且つ内部が水平シリンダ構造のブロック共重合体膜を得る溶媒相分離工程と、電鋳により金属層を積層する工程と、前記金属層から凹凸構造を有する基材を剥離する工程とを含む。
摘要翻译：通过简单的工艺和高通量，提供一种用于转印适合于制造具有不均匀结构的基板的精细图案的模具，例如衍射光栅。一种用于转印精细图案的模具的方法，包括用包含嵌段共聚物和聚环氧烷的溶液涂覆基材的表面的步骤，在存在下相分离嵌段共聚物的溶剂相分离步骤的有机溶剂蒸气，得到表面不均匀结构的嵌段共聚物膜，其内部为水平圆筒结构，通过电铸分层金属层的工序和剥离基材的工序，具有金属层的结构不均匀。

5. 发明申请

WO2013153578A1 電気鋳造部品の製造方法审中-公开
标题翻译：制造电气元件的方法
公开(公告)号：WO2013153578A1
公开(公告)日：2013-10-17
申请号：PCT/JP2012/002550
申请日：2012-04-12
申请人：株式会社LEAP , 佐野孝史 , 寺田常徳
发明人：佐野　孝史 , 寺田　常徳
IPC分类号： C25D1/10 , H01L21/60
CPC分类号： C25D1/10 , H01L21/4853 , H01L23/49816 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L2224/0401 , H01L2224/05624 , H01L2224/11003 , H01L2224/1111 , H01L2224/11334 , H01L2224/13019 , H01L2224/131 , H01L2924/00014 , H01L2924/014
摘要：　電鋳により製造される、幅に対する高さの比率が大きなハイレシオ部品を形成するための電気鋳造部品の製造方法を提供する。部品４０の移植工程において部品４０の転倒又は脱落を防止するため、金属基板１０の基板表面を粗面加工するステップと、部品１０の所望のアスペクト比を形成するための、部品パターンの反転パターンであるフォトレジストパターン３０を所望の厚さＴとなるよう形成するステップと、フォトレジストパターン３０をマスクに、電気鋳造により部品を所望の厚さＴ以下の高さｔとなるよう形成するステップと、フォトレジストパターン３０を除去するステップと、形成された部品４０を部品基板９０に移植するステップとを含む。
摘要翻译：本发明提供一种通过电铸制造电铸部件的方法，以形成具有高宽比的部件。本发明包括：在移动部件（40）的过程期间使金属基板（10）的基板表面粗糙化以防止部件（40）的脱落或脱离的步骤; 将作为部件图案的相反图案的光致抗蚀剂图案（30）形成为期望厚度（T）以便形成所述部件（40）的期望纵横比的步骤; 通过用作为掩模的光致抗蚀剂图案（30）进行电铸而将部件形成为等于或小于所需厚度（T）的高度（t）的步骤; 去除光致抗蚀剂图案（30）的步骤; 以及将成形部件（40）移栽到部件基板（90）的工序。

6. 发明申请

WO2012043607A1 スタンパ、物品およびそれらの製造方法审中-公开
标题翻译： STAMP，ARTICLE AND METHOD FOR MANUIFACTURING SAID STAMP AND ARTICLE
公开(公告)号：WO2012043607A1
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/JP2011/072148
申请日：2011-09-28
申请人：日本軽金属株式会社 , 三菱レイヨン株式会社 , 北浩昭 , 白井孝太 , 小嶋克宏
发明人：北　浩昭 , 白井　孝太 , 小嶋　克宏
IPC分类号： B29C33/38 , B29C59/02 , C22C21/00 , C22F1/00 , C22F1/04 , G02B1/11 , G11B5/84 , B29L11/00
CPC分类号： B29C59/02 , B21J5/002 , B22D25/02 , B29C33/38 , B29C33/424 , B29C59/046 , B29K2905/02 , B29K2905/06 , B29K2907/02 , B29K2907/04 , C22C21/00 , C22F1/00 , C22F1/04 , C25D1/10 , G02B1/11 , G11B5/855 , Y10T29/49988
摘要：本発明は、Ｔｉの含有量が１５０～５００ｐｐｍであり、ＢまたはＣの含有量が１～５０ｐｐｍである純度９９．９％以上のアルミニウムからなるアルミニウム基材（１０）の表面に、アスペクト比（細孔（１２）の深さ／細孔（１２）間の平均間隔）が１～４である複数の細孔（１２）からなる微細凹凸構造を有する酸化皮膜（１４）が形成されたスタンパ（１８）に関する。本発明によれば、結晶粒の痕跡に由来する模様の酸化皮膜の表面への出現が抑制され、かつ低コストであるスタンパ、及びこのスタンパを用いて製造された外観の良好な物品およびそれらの製造方法を提供することができる。
摘要翻译：本发明涉及一种印模（18），其中具有微浮雕结构的氧化膜（14）包括多个小孔（12），所述小孔（12）的纵横比（所述小孔的深度 12）至1〜4的平均间隔，形成在铝基板（10）的表面上，铝基板（10）的纯度至少为99.9％，钛含量为150〜500ppm，硼或碳含量为1〜50ppm。本发明使得可以提供：一种低成本的印模，其中氧化膜表面上出现的图案，所述图案源于晶粒的痕迹; 使用所述印章制造并具有良好外观的制品; 以及制造所述印模和制品的方法。

7. 发明申请

WO2011027184A1 DISPOSITIF D'ÉLABORATION À TEMPÉRATURE AMBIANTE DE NANOFILS DE SI PAR ÉLECTRODÉPOSITION, PRCÉDÉ DE PRÉPARATION ET NANOFILS OBTENUS 审中-公开
标题翻译：用于通过在环境温度下电沉积生产硅纳米微粒的装置，其制备方法和结晶纳米颗粒的方法
公开(公告)号：WO2011027184A1
公开(公告)日：2011-03-10
申请号：PCT/IB2009/006466
申请日：2009-08-04
申请人： UNIVERSITE DE REIMS CHAMPAGNE ARDENNE , MOLINARI, Michaël , MALLET, Jérémy , TROYON, Michel , MARTINEAU, Florie
发明人： MALLET, Jérémy , TROYON, Michel , MARTINEAU, Florie
IPC分类号： C25D1/02 , C25D1/10 , C25D3/66 , C25D9/08 , D01F9/08
CPC分类号： C25D1/02 , B82Y30/00 , C25D1/10 , C25D3/665 , C25D9/08
摘要： La présente invention concerne un dispositif d'élaboration par électrodéposition de nanofils de silicium pur à froid dans une enceinte en isolation de l'atmosphère, le procédé associé et les nanofils obtenus. Le dispositif comprend au moins une solution de dépôt (1a), un solvant ionique (1 b), un substrat (2) caractérisé en ce qu'il comprend au moins une membrane nanoporeuse (2a). Le dispositif et le procédé associé permettent l'élaboration à moindre coût d'un grand nombre de nanofils de silicium pur amorphes de diamètres réguliers et de longueurs désirés et permettent en outre d'obtenir des nanofils de silicium cristallin en effectuant des recuits sous vide après l'élaboration.
摘要翻译：本发明涉及一种用于通过电绝缘在与大气绝缘的外壳中的纯硅纳米线冷加工的装置，相关方法和所得的纳米线。该装置包括至少一个沉积溶液（1a），离子溶剂（1b）和基底（2），其特征在于其包括至少一个纳米多孔膜（2a）。该器件和相关方法允许更廉价地制造具有均匀直径和期望长度的大量无定形纯硅纳米线，并且通过在制备后通过真空退火来获得晶体硅纳米线。

8. 发明申请

WO2009142787A2 PHOTOVOLTAIC DEVICES BASED ON NANOSTRUCTURED POLYMER FILMS MOLDED FROM POROUS TEMPLATE 审中-公开
标题翻译：基于由多孔模板成型的纳米结构聚合物膜的光电器件
公开(公告)号：WO2009142787A2
公开(公告)日：2009-11-26
申请号：PCT/US2009/034433
申请日：2009-02-18
申请人： BOARD OF REGENTS, THE UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM , HU, Wenchuang , ARYAL, Mukti, N. , BUYUKSERIN, Fatih , GAO, Jinming , ZHAO, Xiao-mei
发明人： HU, Wenchuang , ARYAL, Mukti, N. , BUYUKSERIN, Fatih , GAO, Jinming , ZHAO, Xiao-mei
IPC分类号： H01L31/042
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C25D1/10 , C25D11/00 , H01L51/0014 , H01L51/0036 , H01L51/0047 , H01L51/4253 , H01L51/44 , Y02E10/549
摘要： The present invention includes a template, an optoelectronic device and methods for making the same. The optoelectronic device includes a first substrate; a first electrode disposed on the first substrate; a first interdigitating, nano-structured charge-transfer molded material (e.g., a polymer) with a first electron affinity disposed on the first electrode; a second interdigitating, nano-structured charge-transfer material (e.g., single molecules, quantum dots, or particles) with a second electron affinity disposed on the first interdigitating, nano-structured charge-transfer material; a second electrode disposed in the second interdigitating, nano-structured charge-transfer material; and a second substrate disposed on the second electrode.
摘要翻译：本发明包括模板，光电器件及其制造方法。光电器件包括第一衬底; 设置在所述第一基板上的第一电极; 设置在第一电极上的具有第一电子亲和力的第一互交纳米结构的电荷转移模制材料（例如，聚合物）具有设置在第一交叉纳米结构的电荷转移材料上的具有第二电子亲和力的第二互交纳米结构的电荷转移材料（例如单分子，量子点或颗粒）设置在所述第二交叉纳米结构的电荷转移材料中的第二电极; 以及设置在第二电极上的第二基板。

9. 发明申请

WO2009126192A1 PIN BASED METHOD OF PRECISION DIAMOND TURNING TO MAKE PRISMATIC MOLD AND SHEETING 审中-公开
标题翻译：基于PIN的精密金刚石切割方法进行精密模制和切割
公开(公告)号：WO2009126192A1
公开(公告)日：2009-10-15
申请号：PCT/US2009/000522
申请日：2009-01-27
申请人： REFLEXITE CORPORATION
发明人： LU, Xiao-jing
IPC分类号： B29D11/00 , B29C33/30 , B29C33/38 , G02B5/124 , B23P15/24
CPC分类号： C25D1/10 , B23P15/24 , B29C33/302 , B29C33/3842 , B29D11/00605 , G02B5/124 , Y10T409/303752
摘要： A system, and corresponding method for use, for providing a mass- producible retroreflective material, or sheeting, featuring full cube corner pins is presented. The full cube corner shaping may be provided with the use of a diamond turning tool. The diamond turning tool may be used to simultaneously manufacture a number of pins. The pins may be used to form a mold featuring a triangular or full cube corner surface formation.
摘要翻译：提出了一种系统和相应的使用方法，用于提供具有全立体角销的大批量生产的逆向反射材料或片材。使用金刚石车刀可以提供完整的立体角成形。金刚石车刀可以用于同时制造多个销。销可以用于形成具有三角形或全立方角形表面形成的模具。

10. 发明申请

WO2009001976A1 METHOD OF DUPLICATING NANO PATTERN TEXTURE ON OBJECT'S SURFACE BY NANO IMPRINTING AND ELECTROFORMING 审中-公开
标题翻译：通过纳米印刷和电化法将纳米图案复制在对象表面上的方法
公开(公告)号：WO2009001976A1
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：PCT/KR2007/003161
申请日：2007-06-28
申请人： EF TECH CO., LTD. , LEE, Kyung Wook , LEE, Kyung Yul , JEONG, Jun Sang
发明人： LEE, Kyung Wook , LEE, Kyung Yul , JEONG, Jun Sang
IPC分类号： B41C3/00 , B41C3/08 , B82B3/00 , B44C1/22 , H01L21/302
CPC分类号： C25D1/10 , B23P15/24 , B29C33/3857 , C23C18/1657 , C25D1/006
摘要： Disclosed is a method of duplicating a nano-pattern texture of the surface of an object through electroforming using an imprint mold, including selecting the object having the surface texture to be duplicated; disposing the selected object and pretreating the surface thereof; nano-imprinting the surface of the pretreated object, thus duplicating it on a plastic mold; metallizing the surface of the plastic mold through vapor deposition, and performing electroforming, thus manufacturing metal module master molds; trimming the edges of the metal module master molds, performing micro-processing, connecting the metal module master molds, and then performing electroforming, thus manufacturing a large-area metal unit master mold; and electroforming the metal unit master mold, thus producing a duplicate having the surface texture, thus exhibiting an effect in which the skin of a selected natural object can be duplicated on metal having a uniform thickness.
摘要翻译：公开了一种通过使用压印模具通过电铸来复制物体表面的纳米图案纹理的方法，包括选择具有待复制的表面纹理的物体; 设置所选择的物体并预处理其表面; 纳米压印预处理物体的表面，从而将其复制在塑料模具上; 通过气相沉积对塑料模具的表面进行金属化，并执行电铸，从而制造金属模具主模具; 修剪金属模具主模具的边缘，执行微处理，连接金属模具主模具，然后执行电铸，从而制造大面积金属单元主模具; 并且电铸金属单元母模，从而产生具有表面纹理的副本，从而表现出一种效果，其中所选择的天然物体的皮肤可以复制在具有均匀厚度的金属上。

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