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    • 3. 发明申请
    • 結晶成長方法
    • 晶体生长方法
    • WO2016046983A1
    • 2016-03-31
    • PCT/JP2014/075717
    • 2014-09-26
    • 株式会社日立製作所
    • 石津 崇章小南 信也上野 雄一郎神田 喬之
    • C30B11/02
    • C30B11/02
    •  半導体結晶の原料の高純度化を行うと共に、高純度で質の高い結晶として単離可能である高効率の結晶成長方法を提供することを課題とする。結晶性原料(1)を一端が閉ざされた管状容器(2)に収容し前記管状容器(2)を略水平にした後、前記管状容器(2)に収容した前記結晶性原料(1)の一端から他端へ帯状に溶融させた部分を略水平方向に順次移動させて前記結晶性原料(1)に含まれる不純物を前記結晶性原料(1)の前記他端に偏析させる精製工程(S1)と、不純物を偏析させた前記結晶性原料(1)を部分融解して不純物の少ない精製原料(11)と不純物の多い不純原料(12)とに分離する分離工程(S2)と、略垂直方向にした前記容器(2)内において、前記不純原料は凝固状態で分離したまま前記精製原料(11)は溶融状態とした後冷却して結晶を成長させる結晶成長工程(S3)と、をこの順に同一の容器で行うことを特徴とする結晶成長方法。
    • 本发明解决了提供一种高效净化半导体晶体材料的高效晶体生长方法以及可分离出高纯度高品质晶体的问题。 晶体生长方法包括在同一容器中按以下顺序执行的以下步骤:将结晶材料(1)放置在一端封闭的管状容器(2)中的精炼步骤(S1) 管状容器(2),然后依次移动放置在管状容器(2)中的一部分结晶材料(1),并将其从一端至大致水平方向的一端熔化成带状,从而将包含在管状容器 结晶材料(1)到结晶材料(1)的另一端; 分离步骤(S2),其部分地熔化其中已经分离杂质的结晶材料(1),以将其分离成具有较少杂质的精制材料(11)和具有更多杂质的不纯物质(12); 以及在将固化物熔化后的精制材料(11)在固化状态下分离的不纯物质进行冷却的晶体生长工序(3),并使容器(2)中的晶体生长在大致垂直的位置。
    • 5. 发明申请
    • PROCEDE DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT DE SILICIUM
    • 生产硅基板的方法
    • WO2016034501A1
    • 2016-03-10
    • PCT/EP2015/069711
    • 2015-08-27
    • BARET, Guy
    • BARET, Guy
    • C30B11/00C30B11/02C30B15/00C30B15/06C30B29/06
    • C30B29/06C30B11/001C30B11/002C30B15/002C30B15/06C30B15/10
    • L'invention concerne un procédé de réalisation d'un substrat de silicium purifié cristallin pour la réalisation de cellules photovoltaïques. La technologie traditionnelle de sciage d'un lingot de silicium conduit à des pertes matière importantes et une variabilité dans le taux de dopage du silicium qui varie en fonction de la position dans le lingot. L'invention décrit un procédé sans perte matière et qui produit des substrats parfaitement plans. Selon l'invention, un substrat de silicium est élaboré par flottation du silicium liquide 2 à la surface d'un bain liquide 10 de fluorures d'au moins un élément chimique de la colonne II de la classification périodique puis par le refroidissement de la couche de silicium liquide jusqu'à la solidification et la cristallisation de cette couche de silicium. Selon l'invention, le silicium 1 est porté en fusion dans un creuset 20 qui se déverse sur le bain liquide de fluorures. Le silicium liquide puis solide s'écoule alors en surface du bain de fluorures fondus. Une bande de silicium cristallisé 4 est ensuite extraite et découpée selon la géométrie voulue pour les substrats. Selon un développement de l'invention le silicium est apporté sous forme d'une poudre en surface du bain de fluorures fondus.
    • 本发明涉及一种用于生产纯化的晶体硅衬底以制造光伏电池的方法。 用于锯切硅锭的常规技术导致材料的显着损失和硅的掺杂速率的变化,其根据锭中的位置而变化。 本发明描述了一种不会导致材料损失并产生完全平坦的基底的方法。 根据本发明,通过使来自周期表的列II的至少一种化学元素的氟化物的液体浴10的表面上的液体硅2浮起,然后通过冷却液态硅层直到 所述硅层固化并结晶。 根据本发明,将硅1熔化在排放到氟化物液浴上的锅20中。 以前的液体和现在的固体硅因此流过熔融氟化物浴的表面。 然后将一块结晶硅4提取并切割成用于基底的所需形状。 根据本发明的发展,硅在熔融氟化物浴的表面上以粉末形式携带。
    • 6. 发明申请
    • VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR GERICHTETEN ERSTARRUNG EINES EINKRISTALLINEN PLATTENFÖRMIGEN KÖRPERS
    • 方法和系统定向固化单晶盘状主体
    • WO2014161774A1
    • 2014-10-09
    • PCT/EP2014/056244
    • 2014-03-28
    • SCHOTT AG
    • SEIDL, AlbrechtVOITSCH, AndreasBIRKMANN, BernhardKUDLA, ChristianSTIEBLER, Kirsten
    • C30B11/00C30B11/02C30B29/20
    • C30B11/003C30B11/002C30B11/14C30B29/20
    • Verfahren und Anordnung zur gerichteten Erstarrung eines einkristallinen plattenförmigen Körpers Die Erfindung bezieht sich auf eine Anordnung und ein Verfahren zur gerichteten Erstarrung eines einkristallinen plattenförmigen Körpers aus einem in einer eine Umfangswandung (32, 34) und eine Bodenwandung (28) aufweisenden in einem Ofen (12) angeordneten Wanne aufgeschmolzenen Material, wobei innenseitig in einem ersten Bereich der Umfangswandung der Wanne zumindest ein Einkristallkeim (46) angeordnet und angeschmolzen wird, der angeschmolzene Bereich mit in der Wanne geschmolzenem Material in Berührung gelangt und sodann durch Temperatureinwirkung eine Kristallwachstumsfront gebildet wird, die von dem zumindest einen Einkristallkeim ausgehend zur gegenüberliegenden Seite der Umfangswandung als zweiten Bereich bewegt wird. Um mit konstruktiv einfachen Maßnahmen einkristalline plattenförmige Körper herzustellen, wird vorgeschlagen, dass die Wanne im Ofen stationär angeordnet wird, dass die Umfangswandung in dem den zumindest einen Einkristallkeim aufweisenden ersten Bereich kontrolliert gekühlt wird, und dass das Bewegen der Kristallwachstumsfront durch einen in dem Ofen horizontal verlaufenden Temperaturgradienten erzeugt wird.
    • 方法和装置的单晶板状体本发明涉及一种装置和用于单晶板状体的从在一个周壁的定向凝固的方法(32,34)和具有在烘箱中的底壁(28)的定向凝固(12 )布置浴中熔融材料,从而布置在所述桶的周壁的第一区域内,至少一个单晶种子(46)和被融合,在桶的熔融材料的熔合区域抵接,然后晶体生长前受温度的作用形成的 至少一个单晶种子移动到相反侧比第二外围区域的基础上。 为了产生具有结构简单的措施单晶板状体,其在炉中的槽被设置固定的,该周向壁,其中具有所述第一区域被冷却控制所述至少一个单晶籽提出,并且所述的晶体生长前的炉中的运动水平由 延伸温度梯度产生。
    • 7. 发明申请
    • CRYSTALLINE PRODUCT HAVING FREE SURFACE OF GROWN CRYSTAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
    • 具有结晶自由表面的结晶产品及其制造方法
    • WO02006569A1
    • 2002-01-24
    • PCT/JP2001/004633
    • 2001-06-01
    • C30B11/02C30B11/00
    • C30B11/002C30B11/00C30B29/40
    • A crystalline article having a shape of a product, characterized by having a free surface of a grown crystalline material of an inorganic material, wherein the free surface of a grown crystalline material is a surface of a grown single crystal or a grown polycrystalline material; and a method for producing a crystalline product which comprises providing a melt of an inorganic material having the shape of a product and also being repellent against the wall of a container and solidifying or crystallizing the melt while maintaining the condition of the above repellency, to produce a crystalline article having a shape of a product and having a free surface of a grown crystalline material. The method allows the production of a crystalline article and crystalline product having good performance capabilities with a reduced cost achieved by a large scale production.
    • 一种具有产品形状的结晶制品,其特征在于具有无机材料的生长结晶材料的自由表面,其中生长的结晶材料的自由表面是生长的单晶或生长的多晶材料的表面; 以及生产结晶产品的方法,其包括提供具有产品形状的无机材料的熔体并且还可以抵抗容器的壁,并且在保持上述排斥性的状态的同时使熔体固化或结晶,从而产生 具有产品形状且具有生长的结晶材料的自由表面的结晶制品。 该方法允许生产具有良好性能的结晶产品和结晶产品,并通过大规模生产实现降低的成本。