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1. 发明申请

WO2008053697A1 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：积极抵抗组合物和形成电阻图案的方法
公开(公告)号：WO2008053697A1
公开(公告)日：2008-05-08
申请号：PCT/JP2007/070102
申请日：2007-10-15
申请人：東京応化工業株式会社 , 内海義之 , 清水宏明 , 大下京子 , 吉井靖博
发明人：内海義之 , 清水宏明 , 大下京子 , 吉井靖博
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/2041 , H01L21/0276 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要：酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、前記樹脂成分（Ａ）が一般式（ＩＩ）で表される構成単位（ａ１）を有する共重合体（Ａ１）または一般式（ＩＩ）で表される構成単位（ａ１）からなる重合体（Ａ２）を含有するポジ型レジスト組成物。［式（ＩＩ）中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はハロゲン化低級アルキル基を示し；Ｒ１～Ｒ３は、それぞれ独立してアルキル基又はフッ素化アルキル基である。ただし、前記フッ素化アルキル基は、Ｒ１～Ｒ３が結合している第三級炭素原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子が結合していない基であり、Ｒ１～Ｒ３の少なくとも一つは、前記フッ素化アルキル基である。Ｒ２及びＲ３は、一つの環構造を形成していてもよい。］
摘要翻译：一种正型抗蚀剂组合物，其包含可通过酸和酸产生剂组分（B）的作用而增加其碱溶性的树脂组分（A），所述酸和酸产生剂组分（B）在暴露于光时可产生酸，其中所述树脂组分（A）包含具有由通式（II）表示的构成单元（a1）的共聚物（A1）或具有由通式（II）表示的构成单元（a1）的聚合物（A2）[其中R表示氢原子，卤素原子，低级烷基或卤代低级烷基; R 1〜R 3独立地表示烷基或氟代烷基，条件是在氟化烷基中没有氟原子连接到碳原子上与R 1至R 3结合的叔碳原子相邻，R 1至R 3中的至少一个与R 3， / SUP>表示上述氟代烷基，R 2和R 3可以一起形成环结构。

2. 发明申请

WO2005031461A1 LOW-POLYDISPERSITY PHOTOIMAGEABLE ACRYLIC POLYMERS, PHOTORESISTS AND PROCESSES FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：低聚物可光聚合丙烯酸聚合物，微电影的光电子和工艺
公开(公告)号：WO2005031461A1
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：PCT/US2004/031242
申请日：2004-09-22
申请人： E.I. DUPONT DE NEMOURS AND COMPANY , FARNHAM, William, Brown , FRYD, Michael , SCHADT, Frank, Leonard, III
发明人： FARNHAM, William, Brown , FRYD, Michael , SCHADT, Frank, Leonard, III
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0046 , C07C35/29 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , Y10S430/108
摘要： The invention pertains to low polydispersity acrylic polymers useful for photoimaging and photoresist compositions, and to the photoimaging processes which use these compositions. The low polydispersity polymers of this invention are prepared using controlled radical polymerization (CRP) techniques, such as RAFT (reversible addition fragmentation chain transfer) polymerization.
摘要翻译：本发明涉及用于光成像和光致抗蚀剂组合物的低分散性丙烯酸聚合物以及使用这些组合物的光成像方法。使用可控自由基聚合（CRP）技术如RAFT（可逆加成断裂链转移）聚合制备本发明的低多分散性聚合物。

3. 发明申请

WO2005012374A1 アクリル系重合体および感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：丙烯酸聚合物和辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2005012374A1
公开(公告)日：2005-02-10
申请号：PCT/JP2004/011143
申请日：2004-08-04
申请人： JSR株式会社 , 藤原考一 , 山口宙志 , 中村敦
发明人：藤原考一 , 山口宙志 , 中村敦
IPC分类号： C08F220/28
CPC分类号： C08F220/30 , G03F7/0397 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要：【課題】　レジスト溶剤への溶解性に優れ、ベーク温度依存性が少なく、また現像後のパターンのラインエッジラフネスを低減する。【解決手段】　式（１）と、式（２）と、式（３）および／または式（４）とを含有することを特徴とする。【化１】　Ｒ、Ｒ’、Ｒ''、およびＲ'''は水素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を、Ｒ 1 は、水素原子、炭素数１～４の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、または、炭素数１～４の直鎖状あるいは分岐状のフッ素化アルキル基を、Ｘは炭素数７～２０の炭素原子および水素原子のみからなる多環型脂環式炭化水素基を、Ｒ 2 およびＲ 3 は相互に独立に炭素数１～４の直鎖状または分岐状のアルキル基を、Ｒ 4 は炭素数４～２０の脂環式炭化水素基を、Ｒ 5 は炭素数１～４の直鎖状または分岐状のアルキル基を、Ｒ 6 およびＲ 7 は水素原子、または炭素数１～４の直鎖状または分岐状のアルキル基をそれぞれ表す。
摘要翻译：本发明提供一种在抗蚀剂溶剂中溶解性优异且几乎不依赖于烘烤温度的抗蚀剂，并可形成线边缘粗糙度减小的显影图案。解决问题的手段一种丙烯酸类聚合物，其特征在于包含通式（1）的单元，通式（2）的单元和通式（3）的单元和/或通式（4）的单元，其中R R'，R“和R”'分别为氢，甲基或三氟甲基; R 1是氢，C 1-4直链或支链烷基，烷氧基或C 1-4直链或支链氟代烷基; X是由碳原子和氢原子组成的C7-20多环脂族烃基; R 2和R 3各自独立地为C 1-4直链或支链烷基; R 4是C 4-20脂环族烃基; R 5是C 1-4直链或支链烷基; R 6和R 7各自为氢或C 1-4直链或支链烷基。

4. 发明申请

WO2004097525A1 ホトレジスト組成物、該ホトレジスト組成物用低分子化合物および高分子化合物审中-公开
标题翻译：光电组合物和用于光电组合物的低分子化合物和高分子化合物
公开(公告)号：WO2004097525A1
公开(公告)日：2004-11-11
申请号：PCT/JP2004/005410
申请日：2004-04-15
申请人：東京応化工業株式会社 , 緒方寿幸 , 遠藤浩太朗 , 辻裕光 , 吉田正昭 , 佐藤充 , 松丸省吾 , 羽田英夫
发明人：緒方寿幸 , 遠藤浩太朗 , 辻裕光 , 吉田正昭 , 佐藤充 , 松丸省吾 , 羽田英夫
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： C07C43/126 , C07C43/162 , C07C43/1747 , C07C69/96 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , Y10S430/108
摘要：アルカリ可溶性部位（ｉ）を有し、このアルカリ可溶性部位（ｉ）の少なくとも一部がハロゲン原子含有アセタール系酸解離性溶解抑止基（ii）で保護されている高分子化合物または／および低分子化合物、並びにそれ含むホトレジスト組成物。露光光、特に３００ｎｍ以下の波長光に対する透明性が高く、かつ断面矩形状の良好なレジストパターンを得ることができ、保存安定性の高いホトレジスト組成物とすることができる。
摘要翻译：具有碱溶性部位的高分子化合物或/和低分子化合物（i），其至少部分被卤化缩醛型酸解离抑制基团（ii）保护; 和含有该组合物的光致抗蚀剂组合物。光致抗蚀剂组合物是高曝光后的保存稳定性之一，实现了相对于辐射，特别是300nm以下波长的光线显示高透明度的优异的截面矩形的抗蚀剂图案。

5. 发明申请

WO0137047A3 NITRILE/FLUOROALCOHOL POLYMER-CONTAINING PHOTORESISTS AND ASSOCIATED PROCESSES FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：含氮/氟聚合物的聚合物和相关的微结构方法
公开(公告)号：WO0137047A3
公开(公告)日：2002-03-28
申请号：PCT/US0031136
申请日：2000-11-14
申请人： DU PONT , FRYD MICHAEL , SCHADT FRANK LEONARD III , PERIYASAMY MOOKKAN
发明人： FRYD MICHAEL , SCHADT FRANK LEONARD III , PERIYASAMY MOOKKAN
IPC分类号： G03F7/033 , C08F216/02 , C08F216/14 , C08F220/42 , C08F220/44 , C08F232/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , C08F216/04
CPC分类号： G03F7/0046 , C08F216/02 , C08F220/44 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , Y10S430/106 , Y10S430/108
摘要： Nitrile/fluoroalcohol-containing photoresists and associated processes for microlithography are described. These photoresists are comprised of a fluoroalcohol functional group and a nitrile-containing compound which together simultaneously impart high ultraviolet (UV) transparency and developability in basic media to these materials. The materials of this invention have high UV transparency, particularly at short wavelengths, e.g., 157 nm, which makes them highly useful for lithography at these short wavelengths.
摘要翻译：描述了含腈/含氟醇的光致抗蚀剂和相关的微光刻工艺。这些光致抗蚀剂由氟代醇官能团和含腈化合物组成，它们同时在这些材料的基础介质中同时赋予高的紫外（UV）透明度和显影性。本发明的材料具有高的UV透明度，特别是在短波长例如157nm处，这使得它们在这些短波长下非常适用于光刻。

6. 发明申请

WO01096963A1 RESIST COMPOSITION 审中-公开
标题翻译：耐腐蚀组合物
公开(公告)号：WO01096963A1
公开(公告)日：2001-12-20
申请号：PCT/JP2001/005033
申请日：2001-06-13
IPC分类号： C08L27/12 , C08L29/14 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0395 , C08L27/12 , C08L29/14 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , C08L2666/04
摘要： A chemical amplification type resist composition which is highly transparent to light beams and excellent in dry-etching resistance and gives a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, evenness, heat resistance, etc. The resist composition is characterized by comprising (A) a fluoropolymer comprising (a) units of a fluorovinyl monomer having a group -CF2-OR (wherein R represents C1-10 alkyl) and (b) units of an alicyclic ethylenic monomer, (B) an acid-generating compound which generates an acid upon irradiation with light, and (C) an organic solvent.
摘要翻译：一种对光束透明度高，耐干蚀刻性优异的化学放大型抗蚀剂组合物，其灵敏度，分辨率，均匀性，耐热性等优异的抗蚀剂图案。抗蚀剂组合物的特征在于，包含（A）含氟聚合物包括（a）具有基团-CF2-OR（其中R表示C1-10烷基）的氟乙烯基单体的单元和（b）脂环族烯属单体的单元，（B）在照射时产生酸的产酸化合物与（C）有机溶剂。

7. 发明申请

WO01083591A1 POLYIMIDES AND POLYAMIC ACIDS 审中-公开
标题翻译：聚酰亚胺和聚酰胺
公开(公告)号：WO01083591A1
公开(公告)日：2001-11-08
申请号：PCT/JP2001/003600
申请日：2001-04-26
IPC分类号： C08G73/10 , G03F7/038 , H05K1/00 , G03F7/037 , H05K3/46
CPC分类号： C08G73/1039 , C08G73/10 , G03F7/0387 , G03F7/0388 , H05K3/4676 , Y10S430/108 , Y10T428/24917
摘要： Polyimides comprising repeating units of the general formula (I); and polyamic acids comprising repeating units of the general formula (IV): wherein R>1 2 1-20 2 2 2 2 2 3 2 3 2 2 1-4
摘要翻译：包含通式（I）的重复单元的聚酰亚胺; 和包含通式（IV）的重复单元的聚酰胺酸：其中R 1和R 2各自为H或C 1-20烷基; Z是稠合多环芳族基团或通式（i），（ii），（iii），（iv）或（v）的基团：X是-CO-或-C（= N> 2） - ; Y是直接键，-CH 2， - O - ， - SO 2，-S - ， - CO-或-C（= N 2）。 W是直接键，-CH 2， - C（CH 3）2 - ， - C（CF 3）2 - ， - S - ， - SO - ， - SO' 2 < - 或O-; b，m和n各自为0或1; r为C 1-4烷基，卤代或苯基; a为0〜3。

8. 发明申请

WO01037047A2 NITRILE/FLUOROALCOHOL-CONTAINING PHOTORESISTS AND ASSOCIATED PROCESSES FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：含氮/含氟化合物的光电子学和相关方法用于微结构
公开(公告)号：WO01037047A2
公开(公告)日：2001-05-25
申请号：PCT/US2000/031136
申请日：2000-11-14
IPC分类号： G03F7/033 , C08F216/02 , C08F216/14 , C08F220/42 , C08F220/44 , C08F232/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0046 , C08F216/02 , C08F220/44 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , Y10S430/106 , Y10S430/108
摘要： Nitrile/fluoroalcohol-containing photoresists and associated processes for microlithography are described. These photoresists are comprised of a fluoroalcohol functional group and a nitrile-containing compound which together simultaneously impart high ultraviolet (UV) transparency and developability in basic media to these materials. The materials of this invention have high UV transparency, particularly at short wavelengths, e.g., 157 nm, which makes them highly useful for lithography at these short wavelengths.
摘要翻译：描述了含腈/氟代醇的光致抗蚀剂和相关的微光刻工艺。这些光致抗蚀剂由氟代醇官能团和含腈化合物组成，它们同时在这些材料的基础介质中同时赋予高的紫外（UV）透明性和显影性。本发明的材料具有高的UV透明度，特别是在短波长（例如157nm）下，这使得它们在这些短波长下非常适用于光刻。

9. 发明申请

WO00001752A1 COMPOSITION FOR LIGHT ABSORPTION FILM FORMATION CONTAINING BLOCKED ISOCYANATE COMPOUND AND ANTIREFLECTION FILM FORMED THEREFROM 审中-公开
标题翻译：含有阻塞异氰酸酯化合物的光吸收膜形成组合物和其形成的抗反射膜
公开(公告)号：WO00001752A1
公开(公告)日：2000-01-13
申请号：PCT/JP1999/003332
申请日：1999-06-23
IPC分类号： C08G18/80 , C09D175/04 , G03F7/09 , G02B1/10 , G03F7/00
CPC分类号： C08G18/80 , C09D175/04 , G02B1/111 , G03F7/091 , Y10S430/106 , Y10S430/107 , Y10S430/108 , Y10S430/115 , Y10S430/151
摘要： A composition for light absorption film formation which comprises: a film-forming composition comprising an organic solvent and a light-absorbing polymer or light-absorbing substance dissolved therein; and a crosslinking agent having blocked isocyanate groups. Since the isocyanate groups of the crosslinking agent have been blocked, the composition containing the crosslinking agent has excellent storage stability. When the composition is applied to a substrate and then baked, crosslinking proceeds to give an antireflection film, which does not intermix with a resist film to be formed thereon by coating and is free from diffusion of a photo-generated acid thereinto from the resist layer. As a result, a resist image free from footing or scum can be formed.
摘要翻译：一种光吸收成膜用组合物，其特征在于，含有溶解于其中的有机溶剂和吸光性聚合物或光吸收性物质的成膜组合物，和具有封端异氰酸酯基团的交联剂。由于交联剂的异氰酸酯基已被封闭，因此含有交联剂的组合物具有优良的储存稳定性。当将组合物施加到基底上然后烘烤时，进行交联以得到防反射膜，其不与通过涂覆在其上形成的抗蚀剂膜混合，并且不会从抗蚀剂层扩散光产生的酸。结果，可以形成没有基脚或浮渣的抗蚀剂图像。

10. 发明申请

WO00000546A1 PHOTO-CURABLE POLYMER COMPOSITION AND FLEXOGRAPHIC PRINTING PLATES CONTAINING THE SAME 审中-公开
标题翻译：光固化聚合物组合物和含有它的柔性印刷版
公开(公告)号：WO00000546A1
公开(公告)日：2000-01-06
申请号：PCT/EP1999/004349
申请日：1999-06-23
IPC分类号： B41M1/04 , B41N1/06 , B41N1/12 , C08F291/00 , C08L53/02 , G03F7/033
CPC分类号： G03F7/033 , B41M1/04 , B41N1/06 , B41N1/12 , C08L53/02 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/117 , C08L2666/24
摘要： Photo-curable polymer composition comprising: (a) a first block copolymer comprising at least two blocks A of polymerised mono-vinyl aromatic monomer, at least one block B of polymerised conjugated diene monomer, and, optionally, a residue of a di-functional coupling agent, wherein the total polymerised mono-vinyl aromatic monomer content is in the range from 5 to 25 wt.% of the block copolymer, and wherein the residue, if present, is derived from a di-functional coupling agent containing alkoxy or epoxy functional groups; (b) 0 to 70 % by weight of a second block copolymer having one block A at least one block B and, optionally, a residue of a di- or multi-functional coupling agent, wherein the total polymerised mono-vinyl aromatic monomer content is in the range from 5 to 50 wt.% of the block copolymer (c) at least 5 % by weight of a low molecular weight block copolymer and (d) a photo-initiator. Flexographic printing plate precursor comprising a photo-curable layer sandwiched between two release films or a release film and a support. Cured polymer composition, obtainable by curing the photo-curable composition; flexographic printing plate containing the cured polymer composition, process for printing on a substrate with the flexographic printing plate.
摘要翻译：光固化聚合物组合物，其包含：（a）第一嵌段共聚物，其包含至少两个聚合的单乙烯基芳族单体的嵌段A，至少一个聚合的共轭二烯单体的嵌段B，以及任选的二官能的残基偶联剂，其中总聚合的单乙烯基芳族单体含量在嵌段共聚物的5至25重量％的范围内，并且其中残基（如果存在）衍生自含有烷氧基或环氧基的二官能偶联剂功能组; （b）0至70重量％的具有一个嵌段A的至少一个嵌段B和任选的二官能或多官能偶联剂的残基的第二嵌段共聚物，其中总聚合的单乙烯基芳族单体含量的嵌段共聚物（c）的5至50重量％至少为5重量％的低分子量嵌段共聚物和（d）光引发剂。柔版印刷版前体，其包含夹在两个释放膜或剥离膜之间的光可固化层和载体。通过固化光固化性组合物得到的固化聚合物组合物; 含有固化的聚合物组合物的柔性版印刷板，用柔版印刷版印刷在基材上的方法。

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