基本信息:
- 专利标题： RESIST COMPOSITION
- 专利标题（英）：Resist composition
- 专利标题（中）：耐腐蚀组合物
- 申请号：PCT/JP2001/005033 申请日：2001-06-13
- 公开(公告)号：WO01096963A1 公开(公告)日：2001-12-20
- 主分类号： C08L27/12
- IPC分类号： C08L27/12 ; C08L29/14 ; G03F7/004 ; G03F7/039 ; H01L21/027
摘要：
A chemical amplification type resist composition which is highly transparent to light beams and excellent in dry-etching resistance and gives a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, evenness, heat resistance, etc. The resist composition is characterized by comprising (A) a fluoropolymer comprising (a) units of a fluorovinyl monomer having a group -CF2-OR (wherein R represents C1-10 alkyl) and (b) units of an alicyclic ethylenic monomer, (B) an acid-generating compound which generates an acid upon irradiation with light, and (C) an organic solvent.
摘要（中）：
一种对光束透明度高，耐干蚀刻性优异的化学放大型抗蚀剂组合物，其灵敏度，分辨率，均匀性，耐热性等优异的抗蚀剂图案。抗蚀剂组合物的特征在于，包含（A）含氟聚合物 包括（a）具有基团-CF2-OR（其中R表示C1-10烷基）的氟乙烯基单体的单元和（b）脂环族烯属单体的单元，（B）在照射时产生酸的产酸化合物 与（C）有机溶剂。