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1. 发明申请

WO2006082758A1 干渉装置审中-公开
标题翻译：干涉
公开(公告)号：WO2006082758A1
公开(公告)日：2006-08-10
申请号：PCT/JP2006/301330
申请日：2006-01-27
申请人：独立行政法人理化学研究所 , 原田研 , 明石哲也 , 戸川欣彦 , 松田強 , 守谷騰
发明人：原田研 , 明石哲也 , 戸川欣彦 , 松田強 , 守谷騰
IPC分类号： H01J37/295 , G02B21/00
CPC分类号： H01J37/295 , G01N23/00 , G02B19/0014 , G02B19/0047 , G03H5/00 , H01J37/04 , H01J2237/1514 , H01J2237/228 , H01J2237/2614
摘要： In a two-stage electron beam biprism interferometer, it is possible to adjust the direction of interference area and the azimuth of the interference fringes. The interferometer includes a biprism having upper-stage and lower-stage electron beam. By operating an azimuth angle F between filament electrodes (9u, 9b) of the biprism having the upper-stage and the lower-stage electron beam, it is possible to control the azimuth ? of interference area and the interference fringes formed therein. This can also be applied to an interferometer using light as a light source.
摘要翻译：在两级电子束双棱镜干涉仪中，可以调整干涉区域的方向和干涉条纹的方位角。干涉仪包括具有上级和下级电子束的双棱镜。通过在具有上级和下级电子束的双棱镜的细丝电极（9u，9b）之间操作方位角F，可以控制方位角θ 的干涉区域和其中形成的干涉条纹。这也可以应用于使用光作为光源的干涉仪。

2. 发明申请

WO2009068763A3 METHOD, DEVICE AND SYSTEM FOR MEASURING NANOSCALE DEFORMATIONS 审中-公开
标题翻译：用于测量纳米级变形的方法，装置和系统
公开(公告)号：WO2009068763A3
公开(公告)日：2009-07-23
申请号：PCT/FR2008001302
申请日：2008-09-17
申请人： CENTRE NAT RECH SCIENT , HYTCH MARTIN , SNOECK ETIENNE , HOUDELLIER FLORENT , HUE FLORIAN
发明人： HYTCH MARTIN , SNOECK ETIENNE , HOUDELLIER FLORENT , HUE FLORIAN
IPC分类号： G01N23/20 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/26 , H01J37/295 , H01J2237/151 , H01J2237/1514 , H01J2237/2614 , H01L22/12 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： Method of measuring nanoscale deformations in a portion (B) of a crystalline specimen, comprising the following steps: i) a lamella-shaped specimen comprising a measurement zone (B) and a reference zone (A), the latter being assumed to be free of deformations and coplanar with the measurement zone, is prepared; ii) one face of said specimen is illuminated by an electron beam (Fin); iii) a beam (F1 B) of the radiation diffracted by the measurement zone (B) is superposed on a beam (F1 A) of the radiation diffracted by the reference zone (A) so as to cause these two beams to interfere; iv) the spatial periodicity and the orientation of the fringes of the interference pattern (FI) are measured; and v) a difference in crystal parameter and/or orientation between said reference zone and measurement zone is deduced therefrom, this being indicative of a state of nanoscale deformation of said measurement zone. Device and system for implementing such a method.
摘要翻译：测量结晶样品的部分（B）中的纳米级变形的方法，包括以下步骤：i）包括测量区（B）和参考区（A）的薄片形样品，后者假定为自由的准备与变形区共面的测量区; ii）所述样本的一个面被电子束（Fin）照射; iii）由测量区（B）衍射的辐射光束（F1B）叠加在由参考区（A）衍射的辐射光束（F1A）上，以使这两个光束发生干涉; iv）测量干涉图案（FI）的条纹的空间周期性和取向; 以及v）由此推导出所述参考区与测量区之间的晶体参数和/或取向的差异，这表示所述测量区的纳米级变形的状态。实现这种方法的设备和系统。

3. 发明申请

WO2006090556A1 干渉装置审中-公开
标题翻译：干涉
公开(公告)号：WO2006090556A1
公开(公告)日：2006-08-31
申请号：PCT/JP2006/301334
申请日：2006-01-27
申请人：独立行政法人理化学研究所 , 原田研 , 明石哲也 , 戸川欣彦 , 松田強 , 守谷騰
发明人：原田研 , 明石哲也 , 戸川欣彦 , 松田強 , 守谷騰
IPC分类号： H01J37/295 , G02B21/00
CPC分类号： H01J37/04 , G01N23/00 , G02B19/0014 , G02B19/0047 , G03H5/00 , H01J37/295 , H01J2237/1514 , H01J2237/228 , H01J2237/2614
摘要： An electron beam bi-prism interferometer in which the width direction of the interference region of an electron beam hologram made by a filament electrode and the orientation of interference fringes can be adjusted. A structure having three electron beam bi-prisms, that is, upper, intermediate and lower electron beam bi-prisms is employed and the azimuth angles (F 1 , F 3 ) between the filament electrodes (9 1 , 9 2 , 9 3 ) of these three electron beam bi-prisms and the applied voltages are regulated to arbitrarily control the interference region and the azimuth ? of interference fringes formed therein and to control the interval (s) and the azimuth ? of the interference fringes independently while suppressing generation of Fresnel fringes. It is applicable to an interferometer employing light as a light source.
摘要翻译：一种电子束双棱镜干涉仪，其中可以调节由细丝电极制成的电子束全息图的干涉区域的宽度方向和干涉条纹的取向。使用具有三个电子束双棱镜的结构，即上部，中间和较低电子束双棱镜，并且方位角（F 1 1，F 3 3）在这三个电子束双棱镜的细丝电极（9个1，9个，9个3/3）之间和施加的电压被调节到任意控制干扰区域和方位角？干涉条纹形成在其中并控制间隔和方位角？的干涉条纹独立，同时抑制菲涅尔条纹的产生。它适用于采用光作为光源的干涉仪。

4. 发明申请

WO99057745A1 CHARGED PARTICLE BEAM ILLUMINATION OF BLANKING APERTURE ARRAY 审中-公开
标题翻译：填充孔径阵列的带束颗粒光束照射
公开(公告)号：WO99057745A1
公开(公告)日：1999-11-11
申请号：PCT/US1999/009537
申请日：1999-04-28
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/305 , H01J37/317 , H01L21/027
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3174 , H01J2237/1514 , H01J2237/31774
摘要： A charged particle beam column (100) efficiently illuminates a blanking aperture array (108) by splitting a charged particle beam (110) into multiple charged particle beams and focusing each charge particle beam on a separate aperture of the blanking aperture array (108). Where an electron source with a small effective source size is used, for example an electron field emission source or Schottky source, crossovers of the individual beams may occur within the separate apertures of the blanking aperture array. Consequently, no demagnification of the beams passing through the blanking aperture array is necessary to form a small exposure pixel on the writing plane. A beam splitter, shown as biprism (104) is aligned perpendicularly to optical axis (A) and splits electron beam (110) into separate beamlets.
摘要翻译：带电粒子束柱（100）通过将带电粒子束（110）分成多个带电粒子束并将每个电荷粒子束聚焦在消隐孔径阵列（108）的单独孔上来有效地照明消隐孔阵列（108）。在使用具有小的有效源尺寸的电子源的情况下，例如电子场发射源或肖特基源，各个光束的交叉可以发生在消隐孔阵列的分开的孔内。因此，不需要通过消隐孔阵列的光束的缩小以在书写平面上形成小的曝光像素。示出为双棱镜（104）的分束器垂直于光轴（A）对准，并将电子束（110）分裂成分立的子束。

5. 发明申请

WO2011122139A1 電子線干渉装置审中-公开
标题翻译：电子束干扰装置
公开(公告)号：WO2011122139A1
公开(公告)日：2011-10-06
申请号：PCT/JP2011/053162
申请日：2011-02-15
申请人：株式会社日立製作所 , 原田研 , 明石哲也
发明人：原田　研 , 明石　哲也
IPC分类号： H01J37/295 , H01J37/141
CPC分类号： H01J37/26 , H01J37/12 , H01J2237/1514 , H01J2237/2614
摘要：　本発明の透過型電子顕微鏡の干渉光学系は、結像レンズ系における第１結像レンズ（６１）内に第１の電子線バイプリズム（９１）を設置する手段を設け、前記第１の電子線バイプリズムを前記第１結像レンズの主面の上側近傍に、第２の電子線バイプリズム（９３）を前記第１結像レンズの主面の下側近傍にそれぞれ配置することを特徴とする。　これにより、試料への電子線の照射条件を変更した際にも、干渉条件（干渉縞間隔ｓと干渉領域幅Ｗ）が変化せずに、干渉顕微鏡像を得ることが可能になった。
摘要翻译：公开了一种透射电子显微镜的干涉光学系统，其中设置有用于在成像透镜系统中的第一成像透镜（61）内设置第一电子束双棱镜（91）的装置，使得第一电子束双棱镜第一成像透镜的主表面的上侧附近和第二电子束双棱镜（93）设置在第一成像透镜的主表面的下侧附近。因此，即使当用电子束照射样品的条件改变时，干涉条件（干涉条纹之间的间隔（s）和干涉区域的宽度（W））也不会改变，干涉显微镜图像可以获得。

6. 发明申请

WO2009068763A2 PROCEDE, DISPOSITIF ET SYSTEME DE MESURE DE DEFORMATIONS A L'ECHELLE NANOMETRIQUE 审中-公开
标题翻译：用于测量纳米尺度变形的方法，装置和系统
公开(公告)号：WO2009068763A2
公开(公告)日：2009-06-04
申请号：PCT/FR2008/001302
申请日：2008-09-17
申请人： CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE , HYTCH, Martin , SNOECK, Etienne , HOUDELLIER, Florent , HUE, Florian
发明人： HYTCH, Martin , SNOECK, Etienne , HOUDELLIER, Florent , HUE, Florian
IPC分类号： G01N23/20 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/26 , H01J37/295 , H01J2237/151 , H01J2237/1514 , H01J2237/2614 , H01L22/12 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： Procédé de mesure de déformations à l'échelle nanométrique dans une portion (B) d'un échantillon cristallin, comportant les étapes consistant à: i: préparer un échantillon en forme de lame, comprenant une zone de mesure (B) et une zone de référence (A), supposée sans déformations et coplanaire avec la zone de mesure; ii: éclairer une face dudit échantillon par un faisceau (F in ) d'électrons; iii: superposer un faisceau (F 1 B ) du rayonnement diffracté par la zone de mesure (B) avec un faisceau (F 1 A ) du rayonnement diffracté par la zone de référence (A), de manière à faire interférer ces deux faisceaux; iv: mesurer la périodicité spatiale et l'orientation des franges de la figure d'interférence (FI); et v: en déduire une différence de paramètre cristallin et/ou d'orientation entre lesdites zones de référence et de mesure, indicative d'un état de déformation à l'échelle nanométrique de cette dernière. Dispositif et système pour la mise en œuvre d'un tel procédé.
摘要翻译：测量结晶样品部分（B）中的纳米尺度变形的方法，包括以下步骤：i）包括测量区（B）和参考区（A）的薄片状样品，后者假设为自由的变形并与测量区共面; ii）所述样品的一面被电子束（Fin）照射; iii）由测量区域（B）衍射的辐射的光束（F1B）叠加在由参考区域（A）衍射的辐射的光束（F1A）上，以使这两个光束干涉; iv）测量干涉图案（FI）边缘的空间周期和取向; 和v）从其推导出所述参考区域和测量区域之间的晶体参数和/或取向的差异，这表示所述测量区域的纳米级变形的状态。用于实现这种方法的设备和系统。

7. 发明申请

WO2007052723A1 電子顕微鏡用位相板及びその製造方法审中-公开
标题翻译：电子显微镜相片及其制造方法
公开(公告)号：WO2007052723A1
公开(公告)日：2007-05-10
申请号：PCT/JP2006/321910
申请日：2006-11-01
申请人：ナガヤマアイピーホールディングスエルエルシー , 永山國昭
发明人：永山國昭
IPC分类号： H01J37/295 , H01J37/04
CPC分类号： H01J37/295 , H01J37/26 , H01J2237/1514 , H01J2237/2614
摘要：　開口部を有する支持体（１４）の該開口部に、磁性体細線リングの一部または磁性体細線棒（１５）を架橋させてなり、前記磁性体細線リングまたは磁性体細線棒（１５）がベクトルポテンシャルを生成し、磁性体細線リングの架橋している部分または磁性体細線棒（１５）の左右両側をそれぞれ通過する電子線間に位相差を形成させることを特徴とする、電子線損失をより効果的に防止し、低圧から高圧まで広範囲の加速電圧に適用可能で、製造上の困難性を伴わず、実用化が可能で高コントラストの像を得ることを可能とする電子顕微鏡用位相板を提供する。
摘要翻译：本发明提供一种能够有效防止电子束损失的电子显微镜用相位板，能够从低压到高压的广泛范围内应用于加速电压，可以实际使用而不伴随制造难度，并且可以获得高对比度的图像。相位板通过用磁性细线环或磁性细线（15）的一部分跨越支撑构件（14）的开口而构成，其特征在于，磁性细线环或磁性细线棒（15）建立向量电位，并且在电子束之间形成通过磁性细线环或磁环的跨越部分的两个左右两侧的相位差（15）。

8. 发明申请

WO2005098896A1 電子線干渉装置および電子顕微鏡审中-公开
标题翻译：电子束干扰装置和电子显微镜
公开(公告)号：WO2005098896A1
公开(公告)日：2005-10-20
申请号：PCT/JP2005/003865
申请日：2005-03-07
申请人：独立行政法人理化学研究所 , 原田研 , 明石哲也 , 戸川欣彦 , 松田強
发明人：原田研 , 明石哲也 , 戸川欣彦 , 松田強
IPC分类号： H01J37/295
CPC分类号： H01J37/295 , H01J37/26 , H01J2237/1514 , H01J2237/2614
摘要： A degree of freedom is imparted to the relative magnification of a sample image and the image of a filament electrode of an electron beam bi-prism in an electron beam interference optical system employing an interferometer and the electron beam bi-prism capable of controlling the important parameters of the interference microscope image obtained by the interferometer, i.e. the interference fringe interval s and the interference area width W, independently of each other. For the degree of freedom, an optical system using two electron beam bi-prisms arranged in the direction of the optical axis is employed in a two-stage electron beam bi-prism interferometer. Furthermore, a two-stage arrangement where two objective lenses (51, 52) are combined is employed and the focal lengths of the objective lenses are controlled independently of each other so that the relative magnification of the sample image and the image of filament electrode of the electron beam bi-prim can be set arbitrarily.
摘要翻译：在使用干涉仪的电子束干涉光学系统和能够控制重要的电子束双棱镜的情况下，赋予样本图像的相对放大率和电子束双棱镜的细丝电极的图像由干涉仪获得的干涉显微镜图像的参数，即干涉条纹间隔s和干涉区域宽度W，彼此独立。对于自由度，在两级电子束双棱镜干涉仪中采用使用沿光轴方向布置的两个电子束双棱镜的光学系统。此外，采用组合两个物镜（51,52）的两级布置，并且彼此独立地控制物镜的焦距，使得样品图像的相对放大倍数和细丝电极的图像电子束bi-prim可以任意设定。

9. 发明申请

WO2009007668A1 TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE 审中-公开
标题翻译：传输电子显微镜
公开(公告)号：WO2009007668A1
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/GB2008/001920
申请日：2008-06-05
申请人： MEDICAL RESEARCH COUNCIL , BERRIMAN, John , ROSENTHAL, Peter
发明人： BERRIMAN, John , ROSENTHAL, Peter
IPC分类号： H01J37/02 , H01J37/09 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/026 , H01J37/26 , H01J2237/0045 , H01J2237/0453 , H01J2237/1514
摘要： A transmission electron microscope has a target body position on the electron optical axis of the microscope, and an electrically conductive body off the axis of the microscope. The microscope also has an electron source for producing an axial electron beam. In use, the beam impinges upon a target body located at the target body position. The microscope further has a system for simultaneously producing a separate off-axis electron beam. In use, the off-axis electron beam impinges on the electrically conductive body causing secondary electrons to be emitted therefrom. The electrically conductive body is located such that the emitted secondary electrons impinge on the target body to neutralise positive charge which may build up on the target body.
摘要翻译：透射电子显微镜在显微镜的电子光轴上具有目标体位置，并且离开显微镜轴线的导电体。显微镜还具有用于产生轴向电子束的电子源。在使用中，梁撞击位于目标体位置的目标体。显微镜还具有同时产生单独的离轴电子束的系统。在使用中，离轴电子束照射在导电体上，导致从其发射二次电子。导电体被定位成使得发射的二次电子撞击目标体以中和可能在目标体上累积的正电荷。

10. 发明申请

WO2006121108A1 荷電粒子線装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束设备
公开(公告)号：WO2006121108A1
公开(公告)日：2006-11-16
申请号：PCT/JP2006/309466
申请日：2006-05-11
申请人：独立行政法人理化学研究所 , 原田研 , 明石哲也 , 戸川欣彦 , 松田強 , 守谷騰
发明人：原田研 , 明石哲也 , 戸川欣彦 , 松田強 , 守谷騰
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/295 , G01N23/04 , H01J37/04
CPC分类号： G01N23/04 , H01J37/023 , H01J37/067 , H01J37/20 , H01J37/26 , H01J2237/024 , H01J2237/1514 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/262 , H01J2237/317
摘要： Charged particle beam equipment having a rotary mechanism in which shift of the observing/machining position incident to the rotary operation of the equipment having the rotary mechanism can be corrected conveniently with high precision in a plane perpendicular to the optical axis of the optical system of charged particle beam or in a slightly inclining plane. An X-Y shift incident to rotation in a plane is determined from the angular information of a rotary mechanism such as a sample holder (10), diaphragms (20, 30) or biprisms (40, 50) in the charged particle beam equipment, and then driving or controlling is performed to cancel the X-Y shift.
摘要翻译：具有旋转机构的带电粒子束设备可以在垂直于带电的光学系统的光轴的平面中以高精度方便地校正入射到具有旋转机构的设备的旋转操作的观察/加工位置的偏移粒子束或稍微倾斜的平面。根据带电粒子束设备中的样品保持器（10），隔膜（20,30）或双棱镜（40,50）等旋转机构的角度信息确定在平面内的旋转的XY偏移，然后执行驱动或控制以取消XY偏移。

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