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1. 发明申请

WO2017115077A1 DYNAMIC HOLOGRAPHY FOCUSED DEPTH PRINTING DEVICE 审中-公开
标题翻译：动态全息聚焦深度印刷装置
公开(公告)号：WO2017115077A1
公开(公告)日：2017-07-06
申请号：PCT/GB2016/054041
申请日：2016-12-22
申请人： DAQRI HOLOGRAPHICS LTD
发明人： MULLINS, Brian
IPC分类号： G03H1/00 , B29C67/00 , G03H1/22
CPC分类号： G03H1/0005 , B29C64/106 , B29C64/277 , B33Y10/00 , G03H1/2294 , G03H2001/0094 , G03H2001/2292 , G03H2210/30 , G03H2225/32 , G03H2225/52
摘要： A printing device (106) includes a laser source and a LCOS-SLM (Liquid Crystal on Silicon Spatial Light Modulator). The printing device generates a laser control signal and a LCOS-SLM control signal. The laser source (110) generates a plurality of incident laser beams based on the laser control signal. The LCOS-SLM (112) receives the plurality of incident laser beams, modulates the plurality of incident laser beams based on the LCOS-SL M control signal to generate a plurality of holographic wavefronts (214,216) from the modulated plurality of incident laser beams. Each holographic wavefront forms at least one corresponding focal point. The printing device cures a surface layer or sub-surface layer (406) of a target material (206) at interference points of focal points of the plurality of holographic wavefronts. The cured surface layer of the target material forms a three-dimensional printed content.
摘要翻译：打印装置（106）包括激光源和LCOS-SLM（硅上液晶空间光调制器）。打印装置产生激光控制信号和LCOS-SLM控制信号。激光源（110）基于激光控制信号产生多个入射激光束。 LCOS-SLM（112）接收多个入射激光束，基于LCOS-SL M控制信号调制多个入射激光束以从经调制的多个入射激光束产生多个全息波前（214,216）。每个全息波前形成至少一个对应的焦点。印刷设备在多个全息波前的焦点的干涉点处固化目标材料（206）的表面层或子表面层（406）。目标材料的固化表面层形成三维打印内容。

2. 发明申请

WO2014073611A1 位相変調方法および位相変調装置审中-公开
标题翻译：相位调制方法和相位调制装置
公开(公告)号：WO2014073611A1
公开(公告)日：2014-05-15
申请号：PCT/JP2013/080130
申请日：2013-11-07
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：瀧口　優 , 井上　卓
IPC分类号： G02F1/01 , G02F1/13
CPC分类号： G03H1/0841 , G02B21/06 , G02B26/06 , G02B27/0927 , G02B27/0944 , G03H1/0005 , G03H1/0808 , G03H1/2294 , G03H2001/005 , G03H2001/0094 , G03H2001/085 , G03H2001/221 , G03H2210/20 , G03H2225/32 , G03H2225/52
摘要：　所望の強度分布を精度良く実現するための位相分布を簡易に求め得る位相変調方法を提供する。ターゲット面ＴＡにて変調光Ｐ２が所定の強度分布を有するように、位相変調面２０ａに表示させる位相分布を算出し、この位相分布を位相変調面２０ａに表示させ、読み出し光Ｐ１を位相変調面２０ａに入射させて変調光Ｐ２を生成する。位相分布を算出する際、位相変調面２０ａ上の領域をＮ個の領域Ａ１ …ＡＮに分割し、領域Ａ１ …ＡＮにおける強度分布の積分値が互いに等しくなるようにこれらの大きさを設定する。また、ターゲット面ＴＡ上の領域をＮ個の領域Ｂ１ …ＢＮに分割し、領域Ｂ１ …ＢＮにおける強度分布の積分値が互いに等しくなるようにこれらの大きさを設定する。領域Ａｎから領域Ｂｎまでの光路長Ｌｎを求め、光路長Ｌｎに基づいて領域Ａｎの位相を決定することにより、位相分布を算出する。
摘要翻译：提供一种相位调制方法，其以精度良好地容易地获得用于实现期望的强度分布的相位分布。计算要显示在相位调制表面（20a）上的相位分布，使得调制光（P2）在目标表面（TA）上具有规定的强度分布; 该相位分布被显示在相位调制表面（20a）上，并且通过使读入光（P1）入射到相位调制表面（20a）而产生相位调制光（P2）。在相位分布的计算中，相位调制面（20a）上的面积被划分成N个区域A1 ... AN，其大小被设定为使得区域A1中的强度分布的积分值 AN是相同的。此外，目标表面（TA）上的区域被划分为N个区域B1 ... BN，并且这些区域的大小被设置为使得区域B1 ... BN中的强度分布的积分值相同对彼此。通过从区域A到区域Bn找到光路长度Ln，并根据光路长度Ln确定区域An的相位来计算相位分布。

3. 发明申请

WO2010013052A2 EXPOSURE APPARATUS AND METHODS 审中-公开
标题翻译：接触装置和方法
公开(公告)号：WO2010013052A2
公开(公告)日：2010-02-04
申请号：PCT/GB2009/050945
申请日：2009-07-30
申请人： UNIVERSITY OF DURHAM , UNIVERSITY OF SHEFFIELD , IVEY, Peter, Anthony , McWILLIAM, Richard, Peter , PURVIS, Alan , WILLIAMS, Gavin, Lewis , SEED, Dr Nicholas, Luke , CURRY, Richard, Ian , TORIS-GARCIA, Jose, Juan, De Jesus
发明人： IVEY, Peter, Anthony , McWILLIAM, Richard, Peter , PURVIS, Alan , WILLIAMS, Gavin, Lewis , SEED, Dr Nicholas, Luke , CURRY, Richard, Ian , TORIS-GARCIA, Jose, Juan, De Jesus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03H1/08 , G03F7/70158 , G03F7/70291 , G03F7/703 , G03F7/70408 , G03F7/70416 , G03H1/0005 , G03H1/0443 , G03H1/22 , G03H1/2294 , G03H2001/0038 , G03H2001/005 , G03H2001/0088 , G03H2001/0094 , G03H2001/2215 , G03H2001/2221 , G03H2001/264 , G03H2225/32
摘要： A light beam collimated by illumination optics (4) from a radiation source (6) illuminates the surface of a wave front modulator (8) such as an Spatial Light Modulator (SLM) or Computer Generated Hologram photomask (CGH). The resulting wave travels via projection optics (10) to the substrate (12), passing through a projection lens assembly (14). The SLM (8) is programmed or CGH configured with a modulation pattern that is determined by the substrate (12) topography and desired pattern. The substrate topography is provided by Digital Holography (DH) surface profilometery performed by a DH microscope (18), which provides geometrical or topographical input to the CGH calculation routines (16). An arrangement for vertical or sloping surface patterning has a grating (22) superimposed onto the CGH pattern (24) to generate +1 and -1 orders. The SLM or CGH may be configured: using Fresnel patterns to provide an extended depth of field of the projected wave front; by encoding line segments of the desired pattern as cylindrical lines; by calculating inverse propagation between non-planar topography of the substrate and the SLM or CGH (using a Rayleigh-Sommerfield diffraction formula); and/or using iteration to determine a restricted encoding in the configuration of the SLM or CGH.
摘要翻译：由来自辐射源（6）的照明光学器件（4）准直的光束照射波前调制器（8）的表面，例如空间光调制器（SLM）或计算机生成全息图光掩模（CGH）。所得到的波经由投影光学器件（10）行进到衬底（12），穿过投影透镜组件（14）。 SLM（8）被编程或CGH配置有由衬底（12）形貌和期望图案确定的调制模式。由DH显微镜（18）执行的数字全息（DH）表面轮廓分析提供基板形貌，其向CGH计算例程（16）提供几何或形貌输入。用于垂直或倾斜表面图案化的装置具有叠加在CGH图案（24）上的光栅（22）以产生+1和-1阶。 SLM或CGH可以被配置为：使用菲涅耳图案来提供投影波前的扩展景深; 通过将期望图案的线段编码为圆柱形线; 通过计算衬底的非平面形貌与SLM或CGH（使用瑞利 - 索姆菲尔德衍射公式）之间的反向传播; 和/或使用迭代来确定SLM或CGH的配置中的受限编码。

4. 发明申请

WO2002088848A2 A SYSTEM AND METHOD FOR THE HOLOGRAPHIC DEPOSITION OF MATERIAL 审中-公开
标题翻译：一种用于材料的全息沉积的系统和方法
公开(公告)号：WO2002088848A2
公开(公告)日：2002-11-07
申请号：PCT/US2001/043556
申请日：2001-11-14
申请人： LOCKHEED MARTIN CORPORATION
发明人： ROSENBERGER, Brian, T. , CARRA, William, M.
IPC分类号： G03H1/00
CPC分类号： B29C64/135 , B29K2105/0055 , B33Y30/00 , G03H2001/0094
摘要： An apparatus and method for hologram induced deposition of material for use in the formation of three-dimensional structures is described. An electromagnetic energy source may be directed in the form of a hologram to a process chamber with a medium. The medium may be an organometallic gaseous medium. The hologram may induce the medium to form a solid structure associated with the shape of the hologram. The pressure of the gaseous medium may range from subatmospheric to greater than 100 psi. Alternatively, the medium may be a liquid polymer, a solid particle, or others. The hologram may be formed with an LCD panel or other means. Further, a holographic movie may be projected into one or more mediums to form complex three-dimensional structures.
摘要翻译：描述了用于形成三维结构的材料的全息图感应沉积的装置和方法。电磁能源可以以全息图的形式被引导到具有介质的处理室。介质可以是有机金属气体介质。全息图可以诱导介质形成与全息图的形状相关联的固体结构。气体介质的压力可以从低于大气压到大于100psi。或者，介质可以是液体聚合物，固体颗粒或其它物质。全息图可以用LCD面板或其他方式形成。此外，全息影片可投射到一个或多个介质中以形成复杂的三维结构。

5. 发明申请

WO01065314A3 PATTERNING METHODS AND SYSTEMS USING REFLECTED INTERFERENCE PATTERNS 审中-公开
标题翻译：使用反射干涉图案的绘图方法和系统
公开(公告)号：WO01065314A3
公开(公告)日：2002-03-28
申请号：PCT/US2001/005593
申请日：2001-02-22
IPC分类号： G03F7/20 , G03H1/08 , G03H5/00 , H01J37/317
CPC分类号： G03H1/04 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/2002 , G03F7/2049 , G03F7/70408 , G03H1/02 , G03H1/0402 , G03H1/0866 , G03H5/00 , G03H2001/0038 , G03H2001/0094 , G03H2001/0204 , G03H2001/0456 , G03H2001/0469 , G03H2210/30 , G03H2222/34 , G03H2260/14 , G03H2260/62 , G03H2260/63 , H01J37/3174
摘要： A method for patterning a layer on a substrate can include projecting coherent radiation toward a reflector surface so that the coherent radiation is reflected off the reflector surface to provide a holographic projection of a desired image wherein the reflector surface includes information that corresponds to an inverse of the holographic projection of the desired image. The substrate including the layer can be maintained in the path of the reflected radiation so that the holographic projection is projected onto the layer. Related systems are also discussed.
摘要翻译：用于图案化衬底上的层的方法可以包括将相干辐射投射到反射器表面，使得相干辐射从反射器表面反射以提供期望图像的全息投影，其中反射器表面包括对应于所需图像的全息投影。包括该层的衬底可以保持在反射辐射的路径中，使得全息投影投影到该层上。还讨论了相关系统。

6. 发明申请

WO9013062A2 MANUFACTURE OF FLAT PANEL DISPLAYS 审中-公开
标题翻译：平板显示器的制造
公开(公告)号：WO9013062A2
公开(公告)日：1990-11-01
申请号：PCT/GB9000589
申请日：1990-04-18
申请人： GIBSON STEWART HARRY , HUGLE WILLIAM BELL
发明人： HUGLE WILLIAM BELL
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/20 , G03H1/00 , G03H1/04 , G03H1/22
CPC分类号： G03F7/70408 , G03F7/001 , G03H1/0005 , G03H1/0408 , G03H2001/0094 , G03H2223/18
摘要： A method of forming e.g. pixel elements on a flat panel display for use as a flat screen for a TV or a computer display includes forming a volume holographic image on a recording medium (21) by interference between an object beam (OB) of coherent light after passage through a mask (22) and a reference beam (RB1) of coherent light which is totally internally reflected at a surface on which the recording medium (21) is disposed, then replacing the mask (22) by the flat panel (26) and forming on a photo-resist or other photosensitive coating thereof an image of the holographic recording using a second reference beam (RB2) replayed in the opposite direction from the first reference beam.
摘要翻译：一种形成用作TV或计算机显示器的平板显示器的平板显示器上的像素元件包括通过在通过掩模之后的相干光的物体束（OB）之间的干涉而在记录介质（21）上形成体积全息图像（22）和在其上设置有记录介质（21）的表面全内反射的相干光的参考光束（RB1），然后由平板（26）代替掩模（22）并形成在光抗蚀剂或其他光敏涂层使用在与第一参考光束相反的方向重放的第二参考光束（RB2）的全息记录图像。

7. 发明申请

WO2017115076A1 DYNAMIC HOLOGRAPHY 3D SOLIDIFICATION PRINTING DEVICE 审中-公开
标题翻译：动态全息三维凝固打印设备
公开(公告)号：WO2017115076A1
公开(公告)日：2017-07-06
申请号：PCT/GB2016/054040
申请日：2016-12-22
申请人： DAQRI HOLOGRAPHICS LTD
发明人： MULLINS, Brian
IPC分类号： G03H1/00 , G03H1/22 , B29C67/00
CPC分类号： G03H1/0005 , B29C64/10 , B29C64/264 , B29C64/386 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , G03H1/2286 , G03H1/2294 , G03H2001/0094 , G03H2001/2292 , G03H2210/30 , G03H2222/34 , G03H2225/32 , G03H2225/52 , G03H2225/60
摘要： A printing device (600) generates a first, second, and third laser control signal and a first, second, and third LCOS-SLM control signal based on a three-dimensional object (632). A first, second, and third laser source (606,614,618) generates a first, second, and third plurality of incident laser beams based on the first, second, and third laser control signal. A first, second, and third LCOS-SLM (602,612,616) receives the plurality of incident laser beams, to modulate the first, second, and third plurality of incident laser beams based on the first, second, and third LCOS-SLM control signal, to generate a first, second, and third focused light field region (626,628,630) based on interference points of the holographic wavefront generated by the modulated first, second, third plurality of incident laser beams. The first, second, and third focused light field regions form the three- dimensional object (632) in a target material.
摘要翻译：打印设备（600）基于三维对象（632）产生第一，第二和第三激光控制信号以及第一，第二和第三LCOS-SLM控制信号。第一，第二和第三激光源（606,614,618）基于第一，第二和第三激光控制信号产生第一，第二和第三多个入射激光束。第一，第二和第三LCOS-SLM（602,612,616）接收多个入射激光束，以基于第一，第二和第三LCOS-SLM控制信号调制第一，第二和第三多个入射激光束，基于由调制的第一，第二，第三多个入射激光束产生的全息波前的干涉点产生第一，第二和第三聚焦光场区域（626,628,630）。第一，第二和第三聚焦光场区域形成目标材料中的三维物体（632）。

8. 发明申请

WO2015011457A1 METHOD OF FORMING A DESIRED PATTERN ON A SUBSTRATE 审中-公开
标题翻译：在基板上形成所需图案的方法
公开(公告)号：WO2015011457A1
公开(公告)日：2015-01-29
申请号：PCT/GB2014/052224
申请日：2014-07-21
申请人： BERGEN TEKNOLOGIOVERFØRING AS , GOLDING, Louise
发明人： HOLST, Bodil
IPC分类号： G03F1/00 , G03F1/20 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2037 , G03F1/20 , G03F7/2045 , G03H1/0891 , G03H5/00 , G03H2001/0094 , G03H2001/2234
摘要： The present invention relates to a method of forming a desired pattern on a substrate comprising the steps of a) generating an atomic or molecular beam, in particular a beam of He atoms; b) providing a mask having a desired pattern such as a Fourier transform of the desired pattern on the substrate; c) directing the atomic or molecular beam through the patterned mask onto a substrate, whereby a pattern is formed on the substrate by interaction with the proportion of the atomic or molecular beam which penetrates through the mask, which pattern is based on the pattern of the mask, wherein the patterned mask is prepared by a method comprising d) providing a porous starting mask material having openings of a size which allow the atomic or molecular beam to penetrate through; e) creating the desired pattern on the mask by filling a proportion of the openings of the mask which thereby become non-transparent for the atomic or molecular beam. The method of the present invention is useful for preparing conducting circuit structures (micro-chips) or microelectromechanical systems (MEMS) or structures for micro/nano fluidics or nanostructured surfaces in general, ie. hydrophobic or hydrophilic surfaces or reflective/antireflective surfaces.
摘要翻译：本发明涉及一种在衬底上形成所需图案的方法，包括以下步骤：a）产生原子或分子束，特别是产生He原子束; b）提供具有期望图案的掩模，例如在基板上的期望图案的傅里叶变换; c）将原子或分子束引导通过图案化掩模到衬底上，由此通过与穿透掩模的原子或分子束的比例相互作用而在衬底上形成图案，该图案基于图案掩模，其中所述图案化掩模通过以下方法制备：d）提供具有允许原子或分子束穿透的尺寸的开口的多孔起始掩模材料; e）通过填充一部分掩模的开口，从而对于原子束或分子束变得不透明，在掩模上产生所需的图案。本发明的方法可用于制备一般的微/纳流体或微结构化表面的导电电路结构（微芯片）或微机电系统（MEMS）或结构。疏水或亲水表面或反射/抗反射表面。

9. 发明申请

WO2014103493A1 パターン化干渉光生成装置审中-公开
标题翻译：用于产生图形光干扰的装置
公开(公告)号：WO2014103493A1
公开(公告)日：2014-07-03
申请号：PCT/JP2013/078866
申请日：2013-10-24
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：伊藤　晴康 , 井上　卓 , 齋藤　寛 , 豊田　晴義
IPC分类号： B23K26/06 , B23K26/064 , B23K26/066 , G02B27/42 , G03H1/08 , G03H1/22
CPC分类号： G03H1/2205 , B23K26/0084 , B23K26/066 , B23K26/0676 , G02B26/06 , G02B27/42 , G03H1/2294 , G03H2001/0094 , G03H2001/085 , G03H2001/2207 , G03H2223/55
摘要：　パターン化干渉光生成装置（１）は、レーザ光源（１０）と、レーザ光源（１０）からのレーザ光を入力し、レーザ光の波面を制御するホログラムパターンを呈示して、波面制御光を出力する波面制御部（２０）と、波面制御部（２０）からの波面制御光を目標位置（２）に結像する結像光学系（４０）と、結像光学系（４０）の集光部に配置されたフィルタ（５０）と、結像光学系（４０）の集光部において所望次数の輝点が複数生成されるように、ホログラムパターンを制御する制御部（３０）とを備え、フィルタ（５０）は、複数の所望次数の輝点と１対１に対応する複数のスリットを有し、複数のスリットそれぞれは、複数の所望次数の輝点の中心に対して放射状に延在する長尺形状であり、複数のスリットそれぞれの中心側の一端を、中心から離間させ、目標位置に生成されるパターン化干渉光の周期構造の周期間隔を可変とする。
摘要翻译：一种用于产生图案光干涉的装置（1）包括：激光源（10）; 输入来自激光光源（10）的激光的波前控制部（20），显示控制激光波前的全息图，输出波前控制光; 成像光学系统（40），用于在来自波前控制单元（20）的波前控制光的目标位置（2）上形成图像; 设置在成像光学系统（40）的光聚焦单元上的滤光器（50），以及控制单元（30），用于控制全息图图案，使得在聚光单元上产生所需度的多个亮点的成像光学系统（40）; 其特征在于，所述过滤器（50）具有与所述多个亮点相对应的多个狭缝，所述多个狭缝具有相对于所述多个亮部的中心径向延伸的细长形状所需程度的点，多个狭缝的每一个的中心侧端部与中心分离，并且在目标位置上产生的图案化光干涉的周期性结构的周期性间隔是可变的。

10. 发明申请

WO2010142737A1 LASER IMAGE PROJECTION SYSTEM APPLICABLE TO THE MARKING OF OBJECTS AND METHOD FOR GENERATING HOLOGRAMS 审中-公开
标题翻译：适用于对象标记的激光图像投影系统及其生成方法
公开(公告)号：WO2010142737A1
公开(公告)日：2010-12-16
申请号：PCT/EP2010/058105
申请日：2010-06-09
申请人： EASY LASER, S. L. , DE ECHANIZ, Sebastian Rodrigo , SANS RAVELLAT, Ramon
发明人： DE ECHANIZ, Sebastian Rodrigo , SANS RAVELLAT, Ramon
IPC分类号： B23K26/06 , G03H1/04
CPC分类号： B23K26/06 , G02B5/1876 , G03H1/00 , G03H1/0005 , G03H1/08 , G03H1/2294 , G03H2001/0094 , G03H2001/0816 , G03H2001/0825 , G03H2001/306
摘要： The system comprises an SLM (3); means for irradiating a laser beam (1, 2) onto said SLM (3); controlling means (4a, 4b) intended to control said SLM (3) in order to define a CGH corresponding to the desired optical image and intended to be irradiated onto an object (5), by means of the modulated reflection of the phase of said irradiated laser light according to said CGH; and focusing means comprising a Fresnel lens holographically defined onto the SLM (3), to improve efficiency in the use of the irradiated laser light energy. The method comprises carrying out an equalization step of the pixels of one image onto which an IFTA is applied in order to generate a CGH for an SLM.
摘要翻译：该系统包括SLM（3）; 用于将激光束（1,2）照射到所述SLM（3）上的装置; 旨在控制所述SLM（3）的控制装置（4a，4b），以便通过所述第一相位的相位的调制反射来限定对应于期望的光学图像并且想要照射到物体（5）上的CGH 根据所述CGH照射的激光; 以及聚焦装置，包括全息地限定在SLM（3）上的菲涅耳透镜，以提高使用照射的激光光能的效率。该方法包括对其中应用IFTA的一个图像的像素进行均衡步骤，以产生用于SLM的CGH。

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