基本信息:
- 专利标题： LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
- 专利标题（中）：LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法
- 申请号：PCT/EP2011/070147 申请日：2011-11-15
- 公开(公告)号：WO2012076300A1 公开(公告)日：2012-06-14
- 发明人： VAN ZWET, Erwin , DE JAGER, Pieter , ONVLEE, Johannes , DE MAN, Hendrik
- 申请人： ASML Netherlands B.V. , VAN ZWET, Erwin , DE JAGER, Pieter , ONVLEE, Johannes , DE MAN, Hendrik
- 申请人地址： De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven NL
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.,VAN ZWET, Erwin,DE JAGER, Pieter,ONVLEE, Johannes,DE MAN, Hendrik
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.,VAN ZWET, Erwin,DE JAGER, Pieter,ONVLEE, Johannes,DE MAN, Hendrik
- 当前专利权人地址： De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven NL
- 代理机构： WEENINK, Willem
- 优先权： US61/420,965 20101208
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
A system for controlling the focus of a maskless lithographic apparatus is provided, in which a projection system for projecting an image of a programmable patterning device onto a substrate is provided. A first actuator system is configured to move at least one of the lenses of the projection system in a direction perpendicular to the optical axis of the projection system. A radiation beam expander is also provided, that is configured to project an image of the programmable patterning device onto said lens. Furthermore, a second actuator system is provided, configured to move the radiation beam expander in a direction parallel to the optical axis of the projection system in order to control the focus of the image projected onto the substrate.
摘要（中）：
提供了一种用于控制无掩模光刻设备的焦点的系统，其中提供了用于将可编程图案形成装置的图像投影到基板上的投影系统。 第一致动器系统被配置为沿着垂直于投影系统的光轴的方向移动投影系统的透镜中的至少一个。 还提供了辐射束扩展器，其被配置为将可编程图案形成装置的图像投影到所述透镜上。 此外，提供第二致动器系统，其被配置为沿着平行于投影系统的光轴的方向移动辐射束扩展器，以便控制投射到基板上的图像的焦点。