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1. 发明申请

WO2017018462A1 アルミニウム板およびアルミニウム板の製造方法审中-公开
标题翻译：铝板和生产铝板的方法
公开(公告)号：WO2017018462A1
公开(公告)日：2017-02-02
申请号：PCT/JP2016/072070
申请日：2016-07-27
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：小沢　佑介 , 川口　順二 , 松浦　睦
IPC分类号： C25F3/14 , C22C21/00 , C25D11/04 , C25F3/04 , H01G11/70 , H01M4/72
CPC分类号： H01M4/70 , C22C21/00 , C23F1/36 , C25D9/04 , C25D11/04 , C25D11/20 , C25D11/24 , C25D13/12 , C25F3/04 , H01G11/06 , H01G11/68 , H01G11/70 , H01G11/84 , H01M4/661 , H01M4/72 , Y02E60/13
摘要：活物質との密着性および塗布性が高く、高い強度を有するアルミニウム板およびアルミニウム板の製造方法を提供することを課題とする。複数の貫通孔の平均開口径が０．１μｍ以上１００μｍ以下であり、複数の貫通孔の平均開口率２％以上４０％以下であり、複数の貫通孔のうち、開口径が５μｍ以下の貫通孔の割合が４０％以下であり、複数の貫通孔のうち、開口径が４０μｍ以上の貫通孔の割合が４０％以下であり、複数の貫通孔のうち、貫通孔の面積Ｓ 1 と、貫通孔の長軸を直径とした円の面積Ｓ 0 との比率Ｓ 1 ／Ｓ 0 が、０．１以上１以下である貫通孔の割合が５０％以上である。
摘要翻译：本发明的目的是提供：具有良好的涂布性和对活性物质的粘附性的铝板，同时具有高强度; 以及铝板的制造方法。多个通孔的平均开口直径为0.1μm〜100μm（以下）。多个通孔的平均开口率为2％〜40％（以下）。在多个通孔中具有5μm以下的开口直径的孔的比率为40％以下; 多个通孔中开口直径为40μm以上的孔的比率为40％以下; 通孔的比率通孔面积S1与圆的面积S0的比例，其直径为通孔的长轴，即S1 / S0为0.1〜1（含）以上的多个的通孔为50％以上。

2. 发明申请

WO2015108842A1 SELECTIVE METAL/METAL OXIDE ETCH PROCESS 审中-公开
标题翻译：选择性金属/金属氧化物蚀刻工艺
公开(公告)号：WO2015108842A1
公开(公告)日：2015-07-23
申请号：PCT/US2015/011130
申请日：2015-01-13
申请人： SACHEM, INC.
发明人： VERMEULEN, Paul , ALLEN, Craig
IPC分类号： C23F1/34 , C23F1/36 , C23F1/38 , H01L21/3213
CPC分类号： H01L21/44 , C23F1/34 , C23F1/36 , C23F1/38 , H01L21/32134 , H01L29/45 , H01L29/66969 , H01L29/7869
摘要： The present invention provides a process for selectively etching molybdenum or titanium relative to a oxide semiconductor film, including providing a substrate comprising a layer of oxide semiconductor and a layer comprising molybdenum or titanium on the layer of oxide semiconductor; preparing the substrate by applying a photoresist layer over the layer comprising molybdenum or titanium, and then patterning and developing the photoresist layer to form an exposed portion of the layer comprising molybdenum or titanium; providing a composition comprising ammonia or ammonium hydroxide, a quaternary ammonium hydroxide and a peroxide; and applying the composition to the exposed portion for a time sufficient to etch and remove the exposed portion of the layer comprising molybdenum or titanium, wherein the etching selectively removes the molybdenum or titanium relative to the oxide semiconductor.
摘要翻译：本发明提供了一种相对于氧化物半导体膜选择性地蚀刻钼或钛的方法，包括在氧化物半导体层上提供包括氧化物半导体层和包含钼或钛的层的衬底; 通过在包含钼或钛的层上施加光致抗蚀剂层，然后对光致抗蚀剂层进行图案化和显影以形成包含钼或钛的层的暴露部分来制备衬底; 提供包含氨或氢氧化铵，氢氧化季铵和过氧化物的组合物; 以及将组合物施加到暴露部分足以蚀刻和去除包含钼或钛的层的暴露部分的时间，其中蚀刻相对于氧化物半导体选择性地除去钼或钛。

3. 发明申请

WO2010060408A3 PICKLING METHOD AND PICKLING PLANT 审中-公开
标题翻译：烘烤方法和敷料系统
公开(公告)号：WO2010060408A3
公开(公告)日：2010-10-07
申请号：PCT/DE2009001552
申请日：2009-11-03
申请人： KOENIG THOMAS
发明人： KOENIG THOMAS
IPC分类号： C23F1/36 , C23F1/46 , C23G1/22 , C23G1/36 , C23G3/02 , C25D21/14
CPC分类号： C23F1/36 , C23F1/46 , C23G1/22 , C23G1/36 , C23G3/027 , C25D11/16
摘要： Disclosed are a method for treating aluminum or aluminum alloy workpieces and a plant that can be operated according to such a method. According to the invention, a partial amount of a solution is withdrawn from a bath for treating the workpieces, solids are removed from said partial amount of the solution, and the partial amount of the solution is fed back to the bath at a predetermined concentration and a predetermined volume flow rate.
摘要翻译：公开了一种处理铝或铝合金工件的方法和一种可以用这种方法操作的系统。根据本发明，从浴槽中取出部分量的溶液用于处理工件，不含固体并以预定的浓度和预定的体积流量返回到槽中。

4. 发明申请

WO2009132758A1 VERFAHREN ZUM ENTSCHICHTEN VON WERKSTÜCKEN UND ENTSCHICHTUNGSLÖSUNG 审中-公开
标题翻译：方法去除涂层工件和反萃液
公开(公告)号：WO2009132758A1
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：PCT/EP2009/002631
申请日：2009-04-09
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , ANDREOLI, Tamara , RAUCH, Udo
发明人： ANDREOLI, Tamara , RAUCH, Udo
IPC分类号： C23F1/38 , C23F1/44 , C23G1/20 , C23G1/22 , C23F1/36
CPC分类号： C23F1/44 , C23F1/36 , C23F1/38 , C23G1/205 , C23G1/22
摘要： Ein Stoffgemisch zum Ablösen eines Schichtsystems von einem Werkstück besteht aus einer wässrigen, alkalischen Lösung, die zwischen 3 und 8 Gewichtsprozent KMnO 4 enthält und gleichzeitig einen alkalischen Anteil zwischen 6 und 15 Gewichtsprozent hat. Der alkalische Anteil wird in einer Ausführungsform durch KOH oder NaOh gebildet, wobei der pH-Wert der Lösung über 13 liegt. Ein Verfahren gemäss vorliegender Erfindung benützt das vorbeschriebene Stoffgemisch zur nasschemischen Entschichtung von Hartstoffschichten der Gruppe: metallisches AlCr, TiAlCr sowie andere AlCr Legierungen; deren Nitride, Carbide, Boride, Oxide bzw. deren Kombination.
摘要翻译：的物质混合物选自含有3至8之间重量％高锰酸钾碱性水溶液的工件上去除的层系统，并同时具有6至15重量％之间的碱性。通过KOH或NaOH形成在一个实施例中的碱性组分，溶液的pH值高于13。根据本发明的方法利用的基团的硬质涂层的湿法化学剥离上述混合物：金属ALCR，TiAlCr等ALCR合金; 它们的氮化物，碳化物，硼化物，氧化物或它们的组合。

5. 发明申请

WO2008102172A1 PHOTOVOLTAIC DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR 审中-公开
标题翻译：光伏器件及其制造方法
公开(公告)号：WO2008102172A1
公开(公告)日：2008-08-28
申请号：PCT/GB2008/050108
申请日：2008-02-20
申请人： RUCHAT, David John
发明人： RUCHAT, David John
IPC分类号： H01L31/0224 , H01L31/20 , C23F1/36
CPC分类号： C23F1/02 , C23F1/36 , H01L31/0468 , Y02E10/50
摘要： A method of etching a semiconductor device consisting of a substrate, optionally one or more base electrode layers, a silicon layer, and at least one backside electrode layer is disclosed. The method involves the steps of : applying a resist layer to the backside electrode layer and selectively removing portions thereof to expose discrete areas of the underlying backside electrode layer and etching away both the backside electrode layer and the underlying silicon layer in said discrete areas. The method is characterised in that: i. the resist layer is a polymeric alkalophobe composition, portions thereof being selectively removed by means of an acidic developer; ii. the backside electrode layer(s) are of a material which is resistant to said acidic developer, which is rinsed from the device after developing said portions of said resist layer, and iii. the etching of both said backside electrode layer and said silicon layer is conducted sequentially using the same alkaline etchant. The invention has particular application to the production of photovoltaic cells for generating electricity when exposed to light, and to flat panel displays for generating light when electricity is applied to the active substrate therein.
摘要翻译：公开了一种蚀刻由衬底，可选地一个或多个基极电极层，硅层和至少一个背面电极层组成的半导体器件的方法。该方法包括以下步骤：将抗蚀剂层施加到背面电极层，并选择性地去除其部分以暴露下面的背面电极层的离散区域，并蚀刻掉所述离散区域中的背面电极层和下面的硅层。该方法的特征在于：i。抗蚀剂层是聚合物基团组合物，其部分通过酸性显影剂选择性地除去; II。背面电极层是对所述酸性显影剂具有耐受性的材料，其在显影所述抗蚀剂层的所述部分之后从该器件冲洗，以及iii。使用相同的碱性蚀刻剂依次进行对所述背面电极层和所述硅层的蚀刻。本发明特别适用于在暴露于光时产生电力的光伏电池的生产，以及用于在向其中的有源衬底施加电力时产生光的平板显示器。

6. 发明申请

WO2004041532A1 アルミニウム合金と樹脂の複合体とその製造方法审中-公开
标题翻译：具有树脂的铝合金复合材料及其生产方法
公开(公告)号：WO2004041532A1
公开(公告)日：2004-05-21
申请号：PCT/JP2003/014213
申请日：2003-11-07
申请人：大成プラス株式会社 , 成富正徳 , 安藤直樹 , 高橋正雄
发明人：成富正徳 , 安藤直樹 , 高橋正雄
IPC分类号： B32B15/08
CPC分类号： B32B15/08 , B29C45/14311 , B29C45/14778 , B29K2081/04 , B29K2705/00 , B29K2705/02 , B32B15/20 , B32B27/28 , B32B2398/20 , C23F1/20 , C23F1/36 , Y10T428/31536 , Y10T428/31678 , Y10T428/31681
摘要： A method for producing a composite article of an aluminum alloy with a resin wherein a thermoplastic resin composition containing polyphenylene sulfide as a component is adhered to the surface of a shaped article of an aluminum alloy by the use of a method of injection molding or the like, characterized in that it comprises a pretreatment comprising immersing the shaped article of an aluminum alloy in an aqueous solution of at least one selected from among ammonia, hydrazine and a water-soluble amine compound. The method allows the formation of a composite article in which the aluminum alloy and the thermoplastic resin composition are not readily separated from each other, and thus can be employed for producing cases, parts, structures and the like of various devices which are free from problems with respect to their shape, structure and mechanical structure.
摘要翻译：一种用于制造具有树脂的铝合金复合体的方法，其中以聚苯硫醚为成分的热塑性树脂组合物通过注射成型等方法粘合在铝合金成形体的表面上其特征在于，其包括预处理，包括将铝合金成形制品浸入选自氨，肼和水溶性胺化合物中的至少一种的水溶液中。该方法允许形成其中铝合金和热塑性树脂组合物彼此不容易分离的复合制品，因此可用于生产没有问题的各种装置的壳体，部件，结构等关于它们的形状，结构和机械结构。

7. 发明申请

WO2004003410A1 SEALABLE SURFACE METHOD AND DEVICE 审中-公开
标题翻译：可密封的表面方法和装置
公开(公告)号：WO2004003410A1
公开(公告)日：2004-01-08
申请号：PCT/US2003/020562
申请日：2003-06-30
申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
发明人： TITEL, Don , WHEATLEY, Wayne, W. , SHARPE, Todd, W.
IPC分类号： F16J15/06
CPC分类号： C23C16/4409 , C23F1/00 , C23F1/36 , F16J15/062 , H01L21/67126
摘要： The present invention provides such an improved metallic surface for sealable mating to a seal device such as a gasket. In one embodiment, it provides a sealable apparatus that has a component and a seal device. The component has a seal contact area for receiving the seal device. The seal contact area comprises a metallic surface with randomly distributed micro-pits that are capable of sealably mating with the seal device when the seal contact area is operably mated to the seal device.
摘要翻译：本发明提供了一种改进的金属表面，用于与诸如垫圈的密封装置的可密封配合。在一个实施例中，其提供具有部件和密封装置的可密封装置。该部件具有用于接收密封装置的密封接触区域。密封接触区域包括具有随机分布的微凹坑的金属表面，当密封接触区域可操作地配合到密封装置时，能够与密封装置密封地配合。

8. 发明申请

WO1992019792A1 ETCHING SOLUTION 审中-公开
标题翻译：蚀刻解决方案
公开(公告)号：WO1992019792A1
公开(公告)日：1992-11-12
申请号：PCT/DE1992000321
申请日：1992-04-21
申请人： KERNFORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH , STARK, Walter , RUPRECHT, Robert
发明人： KERNFORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH
IPC分类号： C23F01/44
CPC分类号： C23F1/10 , C23F1/20 , C23F1/26 , C23F1/28 , C23F1/36 , C23F1/44
摘要： An etching solution for removing a metallic layer from a substrate contains a hydrogenated compound that dissolves the metal itself while evolving hydrogen and a nitro-substituted organic compound. The solution is characterized by the fact that the selected nitro-substituted organic compound is a compound having an easily hydrogenizable nitro group.

9. 发明申请

WO2018006276A1 长寿碱蚀剂和铝材及其碱蚀预处理方法审中-公开
公开(公告)号：WO2018006276A1
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：PCT/CN2016/088708
申请日：2016-07-05
申请人：深圳市恒兆智科技有限公司
发明人：王饶玲
IPC分类号： C23F1/36
CPC分类号： C23F1/36
摘要：一种长寿碱蚀剂，适用于各种铝材或铝合金材料的表面处理。长寿碱蚀剂包括20-30重量份硫代硫酸钠，15-30重量份阿拉伯树胶，10-20重量份三聚磷酸钠，5-10重量份酒石酸钠，5-10重量份硝酸钠，和1-2重量份烷基酚聚氧乙烯醚。阿拉伯树胶提高溶液粘度，增加溶液平整能力，酒石酸抑制硬块结垢，硝酸钠提高腐蚀速度，三聚磷酸钠和烷基酚聚氧乙烯醚提高清洗能力，降低表面张力，硫代硫酸钠沉淀金属离子，消除杂质影响。还公开了一种铝材碱蚀预处理方法和和一种铝材。

10. 发明申请

WO2017161580A1 铝材碱蚀剂和铝材碱蚀预处理方法审中-公开
公开(公告)号：WO2017161580A1
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：PCT/CN2016/077418
申请日：2016-03-25
申请人：深圳市恒兆智科技有限公司
发明人：王饶玲
IPC分类号： C23F1/36
CPC分类号： C23F1/36
摘要：一种铝材碱蚀剂，用于铝材表面处理前的碱蚀预处理，包括A组份和B组份，B组份为固体碱，A组份包括如下重量份数的成分：250-500份山梨糖醇液，20-25份硫代硫酸钠，10-20份亚硝酸钠，15-30份三聚磷酸钠，25-50份葡萄糖酸钠，180-300份水。还公开了一种铝材碱蚀预处理方法。

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