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    • 3. 发明申请
    • 化合物、樹脂、組成物並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法
    • 化合物,树脂,组合物,形成抗蚀剂图案的方法,
    • WO2018016640A1
    • 2018-01-25
    • PCT/JP2017/026530
    • 2017-07-21
    • 三菱瓦斯化学株式会社
    • 越後 雅敏
    • C07C43/215C07C39/15C07C43/20C07C43/205C07D311/78C07D311/82C08F12/22C08G8/04C08G8/20C08G8/36G03F7/031G03F7/11G03F7/26H01L21/30
    • C07C39/15C07C43/20C07C43/205C07C43/215C07D311/78C07D311/82C08F12/22C08G8/04C08G8/20C08G8/36G03F7/031G03F7/11G03F7/26H01L21/30
    • 下記式(0)で表される、化合物。(0)(R Y :水素原子、炭素数1~30のアルキル基又は炭素数6~30のアリール基、R Z: 炭素数1~60のN価の基又は単結合、R T :置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6~30のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数2~30のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、チオール基、水酸基又は水酸基の水素原子が含ビニルフェニルメチル基で置換された基(アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基は、エーテル結合、ケトン結合またはエステル結合を含んでいてもよい)、R T の少なくとも1つは水酸基の水素原子が含ビニルフェニルメチル基で置換された基を含む。X:酸素原子、硫黄原子又は無架橋、m:0~9の整数(少なくとも1つは1~9の整数)、N:1~4の整数、r:0~2の整数)
    • 由下式(0)表示的化合物。 (0)(R ý:氢原子,烷基或具有碳原子数为1〜30 6〜30个碳原子,R z中的一个芳基基团:碳原子数为1〜60 R 2 T:可以具有取代基的具有1至30个碳原子的烷基,可以具有取代基的具有6至20个碳原子的芳基, 30芳基,其具有1-2个碳原子,其可30具有取代基,具有1个碳原子,其可30具有取代基,卤素原子,硝基,氨基的烷氧基链烯基, 羧酸,硫醇基,羟基或其中氢原子被一个自由乙烯基苯基甲基(烷基,芳基,链烯基,烷氧基,含有醚键,酮键或酯键的羟基 并且至少一个R T是羟基的氢原子是含乙烯基的 .X包括取代的基团Enirumechiru团:氧原子,硫原子或交联的,M:0〜9的整数(至少一个为1〜9的整数),N:1〜4的整数,R: 一个从0到2的整数)