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1. 发明申请

WO2017047355A1 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体审中-公开
标题翻译：基板处理装置，基板处理方法和存储介质
公开(公告)号：WO2017047355A1
公开(公告)日：2017-03-23
申请号：PCT/JP2016/075001
申请日：2016-08-26
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：小玉　輝彦 , 榎本　正志 , 田所　真任 , 橋本　崇史
IPC分类号： H01L21/027 , B05C9/14 , B05C11/08 , B05D1/36 , B05D3/00 , G01B11/02 , G03F7/26
CPC分类号： B05C9/14 , B05C11/08 , B05D1/36 , B05D3/00 , G01B11/02 , G03F7/26 , H01L21/027
摘要：【課題】基板の周端部において異常なレジストパターンが形成されることを防ぐこと。【解決手段】本発明の基板処理方法は、基板の表面の周端部について、当該基板の径方向に沿った高さの分布を取得する工程と、次いで、前記高さの分布に基づいて前記周端部の高さの落ち込みを矯正するように前記基板の表面全体に下層膜を形成する工程と、続いて、前記下層膜の表面全体にレジスト膜を形成する工程と、を備える。従って、この基板の周端部においては、レジスト膜の表面に対して露光時のフォーカスがずれることが抑えられる。その結果として、当該周端部において異常なレジストパターンが形成されることを抑えることができる。
摘要翻译： [问题]为了防止在基板的周缘部形成异常的抗蚀剂图案。 [解决方案]该基板处理方法具有：沿着基板的径向获取基板的表面的周缘部的高度分布的步骤; 接下来，基于高度分布来校正在基板的整个表面上形成下层膜的步骤，使得在周边边缘部分处的高度下降被校正; 以及其后在下层膜的整个表面上形成抗蚀剂膜的步骤。因此，能够抑制曝光时的基板周边部的抗蚀剂膜表面的聚焦偏移。结果，可以抑制在周边部分形成异常的抗蚀剂图案。

2. 发明申请

WO2017004502A1 SYSTEMS AND METHODS TO DISPENSE AND MIX REAGENTS 审中-公开
标题翻译：配制和混合试剂的系统和方法
公开(公告)号：WO2017004502A1
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：PCT/US2016/040661
申请日：2016-07-01
申请人： CENTRILLION TECHNOLOGY HOLDINGS CORPORATION , CRNOGORAC, Filip , MCGALL, Glenn
发明人： CRNOGORAC, Filip , MCGALL, Glenn , LI, Bolan
IPC分类号： B01J8/10 , B01J8/02 , B01F11/00 , G01N31/00
CPC分类号： B01J19/0046 , B01J2219/00333 , B01J2219/0036 , B01J2219/00421 , B01J2219/00443 , B01J2219/00529 , B01J2219/00536 , B01J2219/00596 , B01J2219/00608 , B01J2219/00612 , B01J2219/00659 , B01J2219/00675 , B01J2219/00691 , B01J2219/00722 , B05C11/023 , B05C11/08 , B05C11/1039 , B05C13/00 , B05D1/005 , C40B50/18 , C40B60/14 , G03F7/162 , G03F7/30 , G03F7/3014
摘要： The present disclosure provides methods, device, and system for wafer processing. The wafer processing apparatus uses lid dispenser to disperse at least one reagent to the surface of the wafer. Further, the wafer is positioned on top of a rotatable vacuum chuck configured to spread at least one reagent over the surface of the wafer via a centrifugal force or surface tension, thereby permitting the at least one reagent to react with an additional reagent. Further, when dispensing the at least one reagent, a separation gap between the lid dispenser and the wafer is at a predetermined distance, for example, from 50 μm to 2 mm.
摘要翻译：本公开提供了用于晶片处理的方法，装置和系统。晶片处理装置使用盖分配器将至少一种试剂分散到晶片的表面。此外，晶片位于可旋转真空卡盘的顶部，该卡盘构造成经由离心力或表面张力将至少一种试剂扩散到晶片的表面上，从而允许至少一种试剂与另外的试剂反应。此外，当分配至少一种试剂时，盖分配器和晶片之间的间隔距离为例如50μm至2mm的预定距离。

3. 发明申请

WO2015054036A1 PHOTOCHROMIC OPTICAL ARTICLE HAVING ALLOPHANATE PROTECTIVE COATING AND PROCESS FOR MAKING SAME 审中-公开
标题翻译：具有异丙烯酸保护涂料的光致发光制品及其制造方法
公开(公告)号：WO2015054036A1
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：PCT/US2014/058932
申请日：2014-10-03
申请人： TRANSITIONS OPTICAL, INC.
发明人： TURPEN, Joseph, David , KUTCHKO, Cynthia , OWENS, Glen, Todd , LAHSANGAH, Vitawat , KOENIG, Jerry, L., II
IPC分类号： C09D175/14 , C09D175/16
CPC分类号： G02B5/223 , B05C5/02 , B05C11/08 , B05C11/1036 , B05C11/1039 , B05C13/00 , B05D1/005 , B05D3/007 , B05D3/0272 , B05D3/144 , B05D7/546 , B29D11/00884 , C08G18/227 , C08G18/289 , C08G18/4063 , C08G18/44 , C08G18/6225 , C08G18/7831 , C08G18/7837 , C08G18/807 , C08G18/8175 , C08J7/042 , C08J7/123 , C08J2369/00 , C08J2433/14 , C08J2475/06 , C09D5/32 , C09D175/06 , C09K9/02 , C09K2211/14 , G02B1/14 , G02B5/23 , G02C7/102 , G03C1/73
摘要： A photochromic optical article is provided, which includes: an optical substrate; a photochromic layer over a surface of the optical substrate, wherein the photochromic layer includes a photochromic compound; and a protective layer over the photochromic layer, wherein the protective layer includes a matrix that includes residues of an ethylenically unsaturated radically polymerizable material that includes at least one allophanate group. A method of forming the photochromic optical article is also provided.
摘要翻译：提供一种光致变色光学制品，其包括：光学基片; 在所述光学基板的表面上的光致变色层，其中所述光致变色层包括光致变色化合物; 以及在所述光致变色层上的保护层，其中所述保护层包括包括包含至少一个脲基甲酸酯基团的烯属不饱和自由基聚合材料的残基的基质。还提供了形成光致变色光学制品的方法。

4. 发明申请

WO2014061353A1 基板処理装置审中-公开
标题翻译：基板处理装置
公开(公告)号：WO2014061353A1
公开(公告)日：2014-04-24
申请号：PCT/JP2013/073195
申请日：2013-08-29
申请人：大日本スクリーン製造株式会社
发明人：橋詰　彰夫 , 太田　喬
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/31138 , B05C9/14 , B05C11/08 , B05C11/1015 , B08B3/08 , G03F7/42 , H01L21/31133 , H01L21/67034 , H01L21/67051 , H01L21/67109
摘要：　この基板処理装置は、基板Ｗを水平姿勢に保持する基板保持手段（１３）と、前記基板保持手段に保持されている基板Ｗの表面に処理液を供給する処理液供給手段（３０，３５）と、前記基板保持手段に保持されている基板Ｗを回転させる基板回転手段（１４）と、前記基板保持手段に保持されている基板Ｗと対向するヒータ（３）を有し、前記ヒータを、前記基板保持手段から独立して支持するヒータ支持部材（２５）と、前記ヒータと前記基板保持手段に保持されている基板とが接近／離反するように、前記基板保持部材および前記ヒータ支持部材の少なくとも一方を移動させる移動手段（２３）とを含む。
摘要翻译：该基板处理装置具有用于将水平取向的基板（W）保持的基板保持机构（13），用于向由所述基板（W）保持的基板（W）的外表面供给处理液的处理液供给单元（30,35）基板保持装置，用于旋转由基板保持装置保持的基板（W）的基板旋转装置（14）和由基板保持装置保持的面对基板（W）的加热器（3）。该基板处理装置包括用于独立于基板保持装置支撑加热器的加热器支撑构件（25）和用于移动基板保持装置和/或加热器支撑构件的移动装置（23），使得加热器和基板由基板保持装置保持的移动靠近或远离彼此。

5. 发明申请

WO2011135731A1 基板処理装置及び薄膜の製造方法审中-公开
标题翻译：基板加工装置及制造薄膜的方法
公开(公告)号：WO2011135731A1
公开(公告)日：2011-11-03
申请号：PCT/JP2010/057919
申请日：2010-04-28
申请人：株式会社ユーテック , 鈴木光博 , 木島健 , 本多祐二
发明人：鈴木　光博 , 木島　健 , 本多　祐二
IPC分类号： H01L21/31 , B05C11/08 , B05C15/00 , B05D1/40 , B05D3/00 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67017 , B05C11/023 , B05C11/08 , B05D1/005 , B05D3/0486 , H01L21/02197 , H01L21/02282 , H01L21/6715 , H01L21/67196 , H01L21/67207
摘要：　基板上に塗布された膜に塵が付着するのを抑制できる基板処理装置を提供する。本発明の一態様は、基板上に膜をスピンコートにより塗布するためのスピンコート処理室４ａと、前記スピンコート処理室内の空気中の塵の量を調整する第１の空調機構と、前記基板上に塗布された膜にランプアニール処理を行うためのアニール処理室７ａと、前記スピンコート処理室および前記アニール処理室それぞれに繋げられ、前記スピンコート処理室と前記アニール処理室の相互間において前記基板を搬送するための搬送室２ａと、前記搬送室内の空気中の塵の量を調整する第２の空調機構と、を具備することを特徴とする基板処理装置である。
摘要翻译：公开了一种基板处理装置，其中可以抑制施加在基板上的膜上的灰尘附着。基板处理装置设有：旋涂室（4a），其中通过旋涂将膜施加在基板上; 第一空调机构，其调节旋涂室中的空气中的灰尘的量; 退火室（7a），其中施加在基板上的膜被灯退火; 传送室（2a），其连接到旋涂室和退火室，并且在旋涂室和退火室之间传送基板; 以及调节传送室中的空气中的灰尘量的第二空调机构。

6. 发明申请

WO2007102330A1 積層体の製造方法审中-公开
标题翻译：生产层压板的方法
公开(公告)号：WO2007102330A1
公开(公告)日：2007-09-13
申请号：PCT/JP2007/053572
申请日：2007-02-27
申请人：株式会社トクヤマ , 森力宏 , 深田典行 , 高橋直人
发明人：森力宏 , 深田典行 , 高橋直人
IPC分类号： B05D1/40 , B05D7/24 , G02C7/10 , G02C13/00 , G02B5/23
CPC分类号： B29D11/0073 , B05C11/08 , B05D1/005 , B29C41/045 , B29D11/00884 , G02B1/10 , G02B5/23
摘要：本発明は、眼鏡レンズ等の基材に対して、湿気硬化型ポリウレタン樹脂を含むコーティング組成物を用いてポリウレタンプライマー層を形成する際に、プライマー液の飛散およびその再付着に起因するプライマー層の品質低下を防止する方法を提供することを目的としている。本発明に係る積層体の製造方法は、湿気硬化型ポリウレタン樹脂を含むコーティング組成物を基材表面にスピンコートし、ポリウレタン層を有する積層体を製造する際に、スピンコート装置の側壁および/または底部から強制排気しつつスピンコートを行うことを特徴とし、さらに好ましくは、スピンコート装置が、上部カバー、下部容器および下部容器に装備された回転可能な基材支持装置を有し、上部カバーおよび下部容器底部に排気口を有し、該基材支持装置が、下端開口径が上端開口径よりも大である円筒部材中に内設してなる。
摘要翻译：通过使用含有耐湿硬化性聚氨酯树脂的涂料组合物，在基材（如眼镜镜片）上形成聚氨酯底漆层的情况下，可防止引发液的飞散，引起底漆层质量下降的方法 - 其中。提供了一种通过使用含有湿固化性聚氨酯树脂的涂料组合物旋涂基材表面来生产具有聚氨酯层的层压体的方法，其特征在于，在从侧壁进行强制抽出的同时进行旋涂和/或旋转涂布机的底部。优选地，旋转涂布机配备有上盖，下容器和装配到下容器的可旋转基材支撑单元，其中上盖和下容器的底部设置有排气口，并且其中底座材料支撑单元设置在具有比其上端开口直径大的下端开口直径的圆柱形构件的内部。

7. 发明申请

WO2006013850A1 塗布成膜装置及び塗布成膜方法审中-公开
标题翻译：涂膜成膜装置和涂膜成膜方法
公开(公告)号：WO2006013850A1
公开(公告)日：2006-02-09
申请号：PCT/JP2005/014104
申请日：2005-08-02
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 寺田正一 , 左田信幸
发明人：寺田正一 , 左田信幸
IPC分类号： H01L21/027 , B05C11/00 , B05D1/40 , B05D3/00
CPC分类号： H01L21/6715 , B05C5/0216 , B05C11/08 , B05C11/1015 , H01L21/67288
摘要：　ウエハＷを搬送アーム機構Ａ２により筺体３内に搬入し、スピンチャック３１でウエハＷを回転させるとともに、ノズル５から塗布液をウエハＷに供給し、塗布膜を形成する。塗布後にウエハＷを筺体３から搬出するときに、当該ウエハＷの表面の画像データをラインセンサ７２により取得し、この画像データに基づいて判定プログラム８３ｃが塗布むらの有無を判定する。
摘要翻译：通过传送臂机构（A2）将晶片（W）携带到壳体（3）中，通过旋转卡盘（31）旋转晶片（W），并且将涂布液体从晶片（W）供给到晶片形成喷嘴（5）和涂膜。在涂布后从壳体（3）进行晶片（W）的时刻，由线传感器（72）拍摄晶片（W）的表面的图像数据，并根据图像数据判断程序（83c）判断涂层不均匀性的存在。

8. 发明申请

WO01063606A1 METHOD OF MANUFACTURING A CIRCULAR OPTICAL STORAGE DISC AND CIRCULAR OPTICAL STORAGE DISC 审中-公开
标题翻译：圆形光存储盘和圆形光存储盘的制造方法
公开(公告)号：WO01063606A1
公开(公告)日：2001-08-30
申请号：PCT/EP2001/000772
申请日：2001-01-24
IPC分类号： B05C11/08 , G11B7/253 , G11B7/254 , G11B7/2542 , G11B7/26
CPC分类号： B05C11/08 , G11B7/253 , G11B7/2542 , G11B7/266
摘要： In the method of manufacturing a circular optical storage disc (10), an extension body (21) is present around the substrate (11) of the optical disc (10) during the spin coating of cover or spacer layers (15). The extension body (21) may consist of one or several pieces. The outer periphery (23) has a circular or polygonal shape. The inner periphery of the extension body is in close circumferential contact with the periphery (13) of the optical disc substrate (11). The surface (22) of the extension body is substantially flush with the surface (12) of the substrate (11) of the optical disc in order not to impede the flow of spin coating liquid during spin coating. The raised edge (16), which usually forms at the periphery (13) of the substrate (11) is now transferred to the outer periphery (23) of the extension body (21). After the coating operation the extension body (21) is removed. By choosing a surface (22) to which the coating (15) adheres poorly, reuse of the extension body (21) is facilitated. The manufactured optical storage disc (10) has no or a very small raised edge (16), and the method causes no extra birefringence.
摘要翻译：在制造圆形光存储盘（10）的方法中，在盖或间隔层（15）的旋涂期间，在光盘（10）的基板（11）周围存在延伸体（21）。延伸体（21）可以由一片或多片组成。外周（23）具有圆形或多边形。延伸体的内周与光盘基板（11）的周边（13）紧密地周向接触。延伸体的表面（22）与光盘的基板（11）的表面（12）基本齐平，以便在旋涂期间不会阻碍旋涂液的流动。通常在基板（11）的周边（13）处形成的凸起边缘（16）现在被转移到延伸体（21）的外周（23）。在涂覆操作之后，移除延伸体（21）。通过选择涂层（15）粘附的表面（22），促进了延伸体（21）的再利用。制造的光存储盘（10）没有或具有非常小的凸起边缘（16），并且该方法不引起额外的双折射。

9. 发明申请

WO01015818A1 METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING AIR OVER A SPINNING MICROELECTRONIC SUBSTRATE 审中-公开
标题翻译：用于控制旋转微电子基板上的空气的方法和装置
公开(公告)号：WO01015818A1
公开(公告)日：2001-03-08
申请号：PCT/US2000/023641
申请日：2000-08-28
IPC分类号： B05C11/08 , B05C11/10 , B05D1/40 , B05D7/00 , G03F7/16 , H01L21/00 , B05C13/02 , B05D5/00
CPC分类号： H01L21/6715 , B05C11/08 , G03F7/162
摘要： A method and apparatus for forming a generally uniform liquid layer on an upper surface (113) of a microelectronic substrate (112). The apparatus can include a support (133) that engages less than the entire lower surface (114) of the microelectronic substrate (112) and rotates the microelectronic substrate (112) at a selected rate. A barrier (140) can extend over the upper surface (113) of the microelectronic substrate (112) and can rotate at about the same rate as the substrate (112) to separate a rotating, internal air volume (160) adjacent to the upper surface (113) and within the barrier (140) from a stationary external air volume (150) outside the barrier (140). The rotating, internal air volume (160) can reduce the likelihood for liquid/air interface disturbances that create non-uniformities in the liquid layer. Accordingly, the method and apparatus can increase the range of thicknesses to which the liquid layer can be formed and can reduce the topographical non-uniformities of the liquid layer.
摘要翻译：一种用于在微电子衬底（112）的上表面（113）上形成大致均匀的液体层的方法和装置。该装置可以包括接合小于微电子衬底（112）的整个下表面（114）的支撑件（133），并以选定的速率旋转微电子衬底（112）。阻挡层（140）可以在微电子衬底（112）的上表面（113）上方延伸并且可以以与衬底（112）大致相同的速率旋转，以分离与上部（112）相邻的旋转的内部空气体积（160）表面（113）和屏障（140）内的阻挡物（140）外的固定外部空气体积（150）内。旋转的内部空气体积（160）可以降低在液体层中产生不均匀性的液体/空气界面干扰的可能性。因此，该方法和装置可以增加可以形成液体层的厚度的范围，并且可以减小液体层的形貌不均匀性。

10. 发明申请

WO01008814A1 CIRCULAR OR ANNULAR COATING FILM FORMING METHOD 审中-公开
标题翻译：圆形或环形涂膜成型方法
公开(公告)号：WO01008814A1
公开(公告)日：2001-02-08
申请号：PCT/JP2000/004789
申请日：2000-07-17
IPC分类号： B05C5/02 , B05C11/08 , B05D1/00 , B05D1/40
CPC分类号： B05C5/0216 , B05C11/08 , B05D1/002
摘要： A method of forming a circular or annular coating film on a substrate (W) using a device of simple structure without using coating liquid wastefully, comprising the steps of, using a painting device (A) formed of a rotatable table (1) suckingly holding the substrate (W) horizontally and a horizontally movable nozzle (10) liftable relative to the table (1) and having a delivery hole (10a) at the tip part thereof, rotating the table (1) and supplying coating liquid from the delivery hole (10a) in a linear state on to the substrate (W) while moving the nozzle (10) by a specified interval between the rotating center of the table (1) and an outward specified position in one direction with the nozzle (10) held at a specified height relative to the rotating table (1) so as to form a circular or annular coating film on the substrate (W).
摘要翻译：一种使用简单结构的装置在基板（W）上形成圆形或环形涂膜的方法，而不用浪费地使用涂布液，包括以下步骤：使用由可旋转工作台（1）形成的涂装装置（1）水平移动的基板（W）和可相对于工作台（1）升降的水平移动的喷嘴（10），并且在其顶端具有排出孔（10a），使工作台（1）旋转并从输送孔（10）保持在所述工作台（1）的旋转中心与一个方向的外部规定位置之间的规定间隔移动所述喷嘴（10）的状态下，将所述喷嘴（10a）以直线状态移动到所述基板（W）相对于旋转台（1）在指定高度处，以在基底（W）上形成圆形或环形涂膜。

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