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1. 发明申请

WO2014086493A1 DIFFUSIONSGEKÜHLTE GASLASERANORDNUNG UND VERFAHREN ZUR EINSTELLUNG DER ENTLADUNGSVERTEILUNG BEI EINER DIFFUSIONSGEKÜHLTEN GASLASERANORDNUNG 审中-公开
标题翻译：风冷扩散气体激光器和方法并将其安装在扩散冷冻气体激光器结构上的排出分布
公开(公告)号：WO2014086493A1
公开(公告)日：2014-06-12
申请号：PCT/EP2013/003679
申请日：2013-12-05
申请人： TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH
发明人： SCHWANDT, Markus , KNUPFER, Stefan , MAHR, Gerold
IPC分类号： H01S3/038 , H01S3/223 , H01S3/097
CPC分类号： H01S3/097 , H01S3/038 , H01S3/0388 , H01S3/2232
摘要： Eine diffusionsgekühlte Gaslaseranordnung (1) mit einer ersten und einer zweiten Elektrode (2, 5) sowie einem zwischen den Elektroden (2, 5) angeordneten Entladungsspalt (4), wobei auf zumindest einer der Elektroden (5) entladungsspaltseitig ein Dielektrikum (13) angeordnet ist, ist dadurch gekennzeichnet, dass die dielektrische Dicke d/sres des Dielektrikums (13) zur Beeinflussung der Entladungsverteilung im Entladungsspalt (4) entlang zumindest einer Dimension der Elektrode (5), auf der das Dielektrikum (13) angeordnet ist, variiert, wobei d die Dicke des Dielektrikums (13) und ε res die resultierende Dielektrizitätszahl des Dielektrikums (13) ist und an seiner dicksten Stelle eine Dicke von mindestens 1 mm aufweist oder größer als ein Hundertstel der Länge einer Elektrode oder größer als ein Tausendstel einer durch die Frequenz einer einzukoppelnden elektrischen Hochfrequenzleistung betimmten Wellenlänge ist.
摘要翻译：（1），具有第一和第二电极（2,5）和A扩散冷却气体激光器构成的电极之间（2,5）布置在所述放电间隙（4），布置在所述电极（5）的放电间隙侧的至少一个，电介质（13）是，其特征在于，所述介电厚度d /用于影响在放电间隙中的放电分布的电介质（13）的SRES（4）沿所述电极的至少一个尺寸（5）在其上的电介质（13）而变化，其中 d是电介质（13）的厚度，并且？解析度是所述电介质（13）的所得到的介电常数，并具有在其最厚点，比电极或更大的长度的比通过的千分之一一百分之一的厚度至少为1毫米或更大的被耦合在高频电力狗世界波长的频率。

2. 发明申请

WO2016016309A1 IMPEDANZANPASSUNGSANORDNUNG FÜR EINE GASLASERANREGUNGSANORDNUNG UND GASLASERANREGUNGSANORDNUNG 审中-公开
标题翻译：阻抗匹配安排气体激光器刺激系统和气体激光器的激励装置
公开(公告)号：WO2016016309A1
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：PCT/EP2015/067390
申请日：2015-07-29
申请人： TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH
发明人： SCHWANDT, Markus , MAHR, Gerold , KNUPFER, Stefan , FRIESEN, Sergej
IPC分类号： H01S3/038 , H01S3/097
CPC分类号： H01S3/09702 , H01S3/0385 , H01S3/0971
摘要： Impedanzanpassungsanordnung für eine Gaslaseranregungsanordnung (1, 1'), mit einer Hochfrequenzanschlussleitung (11b, 11b'), die an einem ersten Anschlusspunkt (20.1, 20.1') an eine Leistungsquelle (20) und an einem zweiten Anschlusspunkt (10.1, 10.1') an eine Gaslaser-Elektrode (5, 5') anschließbar ist, ist dadurch gekennzeichnet, dass sich die Impedanz der Hochfrequenzanschlussleitung (11b, 11b') zumindest in einem Abschnitt (24, 24') durch Änderung der Ausgestaltung, insbesondere eines Parameters, der Hochfrequenzanschlussleitung (11b, 11b') in diesem Abschnitt ändert.
摘要翻译：用于气体激光激发装置（1，1“）的阻抗匹配装置，其具有高频连接线（11B，11B”），其在第一连接点（20.1，20.1“）到电源（20）和在第二连接点（10.1，10.1”），以气体激光器的电极（5,5“）通过改变配置，特别是RF连接电缆的一个参数被连接，其特征在于RF连接电缆的阻抗（11B，11B”至少在一个部分（24，24“））（11B，11B“）在此部分改变。

3. 发明申请

WO2016016307A1 GASLASERANREGUNGSANORDNUNG MIT EINER HOCHFREQUENZANSCHLUSSLEITUNG 审中-公开
标题翻译：具有高频率电力电缆气体激光器的激励装置
公开(公告)号：WO2016016307A1
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：PCT/EP2015/067387
申请日：2015-07-29
申请人： TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH
发明人： SCHWANDT, Markus , MAHR, Gerold , KNUPFER, Stefan , FRIESEN, Sergej
IPC分类号： H01S3/038 , H01S3/097
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/09705 , H01S3/2232
摘要： Eine Gaslaseranregungsanordnung (1, 1') mit einer Hochfrequenzanschlussleitung (11b, 11b'), die an einer ersten Anschlussstelle an eine Leistungsquelle anschließbar ist und an einer zweiten Anschlussstelle an eine Gaslaser-Elektrode (5, 5'), insbesondere an zumindest einer Einspeisestelle (10, 10'), angeschlossen ist, ist dadurch gekennzeichnet, dass in einem ersten Bereich (21, 21'), in dem sowohl ein Abschnitt (11b, 11b') der Hochfrequenzanschlussleitung als auch ein Abschnitt der Gaslaser-Elektrode (5, 5') angeordnet ist, eine Abschirmung (22, 22') zwischen der Hochfrequenzanschlussleitung (11b, 11b') und der Elektrode (5, 5') vorgesehen ist, wobei die Abschirmung (22, 22') sich auch in einen zweiten Bereich (23, 23') erstreckt, in dem lediglich ein zweiter Abschnitt der Gaslaser-Elektrode (5, 5') angeordnet ist.
摘要翻译：一种气体激光激发装置（1，1“）与高频连接线（11B，11B”），其可连接到第一连接点到电源，并在气体激光器的电极（5,5“）的一个第二连接点，尤其是在至少一个进料点（10，10“）连接，其特征在于，在第一区域（21，21”），其中两个部分的连接线与所述气体激光器的电极的一部分中的高频（11B，11B“）（5， 5“）被设置，屏蔽（22，22”的高频之间）的连接线（11B，11B“）和所述电极（5,5”）设置，其中，所述屏蔽件（22，22“）还延伸在第二区域中（23，23“）延伸，其中，仅该气体激光电极（5,5的第二部分”）被布置。

4. 发明申请

WO2016016312A1 GASLASERANREGUNGSANORDNUNG 审中-公开
标题翻译：气体激光激励装置
公开(公告)号：WO2016016312A1
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：PCT/EP2015/067393
申请日：2015-07-29
申请人： TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH
发明人： SCHWANDT, Markus , MAHR, Gerold , KNUPFER, Stefan , FRIESEN, Sergej
IPC分类号： H01S3/097 , H01S3/038
CPC分类号： H01S3/0385 , H01S3/09702 , H01S3/0971
摘要： Bei einer Gaslaseranregungsanordnung (1, 1') mit einer integrierten Impedanzanpassungsanordnung, umfasst die Impedanzanpassungsanordnung: a) eine Hochfrequenzanschlussleitung (11b, 11b'), die an eine Leistungsquelle (20) anschließbar ist, b) eine Gaslaserelektrode (5, 5'), die mit der Hochfrequenzanschlussleitung (11b, 11b') verbunden ist wobei die Hochfrequenzanschlussleitung (11b, 11b') geeignet ist Hochfrequenzleistung von der Leistungsquelle (20) zu der Gaslaserelektrode (5, 5') zu übertragen, und c) eine Schirmungsanordnung zur Abschirmung der zu übertragenden Hochfrequenzleistung, wobei die Schirmungsanordnung zwischen Hochfrequenzanschlussleitung und Gaslaserelektrode (5, 5') angeordnet ist; wobei d) die Hochfrequenzanschlussleitung (11b, 11b') mit der Gaslaserelektrode (5, 5') und/oder der Schirmungsanordnung derart zusammenwirkt, dass sich die resultierende Impedanz zumindest über einen Abschnitt der Hochfrequenzanschlussleitung (11b, 11b') verändert.
摘要翻译：），这（与电源20）连接，b）一种气体激光器的电极（5,5“）：在气体激光激发装置（1，1”）A）的连接线（11B，11B具有集成阻抗匹配电路的高频，阻抗匹配装置包括与高频连接线（11B，11B“）（与高频连接线11b，11b）的连接”是从电源（20）到所述气体激光器的电极（5,5“）来传送合适的高频功率，以及c）一个Schirmungsanordnung屏蔽被布置成被传输的高频功率，所述连接电缆和气体激光器的电极（5,5“）之间的高频Schirmungsanordnung; 其中d）高频连接线（11B，11B“）（与气体激光电极5，5”）和/或Schirmungsanordnung协作，使得所得阻抗上变化的高频的连接线）的至少一部分（11B，11B”。

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