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1. 发明申请

WO2016156479A1 SPRITZGIEßWERKZEUG UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SPRITZGIEßTEILS 审中-公开
标题翻译：注塑模及其制造方法的注射成型
公开(公告)号：WO2016156479A1
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：PCT/EP2016/057040
申请日：2016-03-31
申请人： PLASMATREAT GMBH , UNIVERSITÄT PADERBORN
发明人： ENNEKING, Leonhard , GRISHIN, Artur , BUSKE, Christian , KNOSPE, Alexander , NORDMEYER, Timo , MORITZER, Elmar , SCHMIDT, Martin Andreas , LEISTER, Christian
IPC分类号： B29C45/00 , B29C59/14
CPC分类号： B29C45/0053 , B29C59/14 , B29C2045/0079 , B29C2059/145
摘要： Die Erfindung betrifft ein Spritzgießwerkzeug (2, 32, 72) zur Herstellung eines Spritzgießteils (8, 38, 88), insbesondere aus Kunststoff, mit einer Spritzgießform (4, 34, 74), die eine Kavität (6, 36, 86) entsprechend dem Negativ der Form des herzustellenden Spritzgießteils (8, 38, 88) aufweist, wobei eine Plasmadüse (18, 52, 92, 130), die zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmastrahls (154) eingerichtet ist, derart an die Spritzgießform (4, 34, 74) angeschlossen ist, dass ein in der Spritzgießform (4, 34, 74) hergestelltes Spritzgießteil (8, 38, 88) in der Spritzgießform (4, 34, 74) mit einem Plasmastrahl (154) beaufschlagbar ist. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Spritzgießteils (8, 38, 88) mit einem Spritzgießwerkzeug (2, 32, 72), bei dem das Spritzgießmaterial, insbesondere ein Kunststoff, in eine Kavität (6, 36, 86) der Spritzgießform (4, 34, 74) eingeleitet wird, so dass sich ein Spritzgießteil (8, 38, 88) bildet, und bei dem das Spritzgießteil (8, 38, 88) in der Spritzgießform (4, 34, 74) mit einem atmosphärischen Plasmastrahl (154) beaufschlagt wird.
摘要翻译：本发明涉及一种注射模制工具（2，32，72）用于制造注射成型件（8，38，88），特别是由塑料制成的，与对应于一注射模具（4,34，74）具有空腔（6，36，86）注塑部分（8，38，88）的形状，的负其中，适于产生大气压等离子体射流（154），以这样的方式（以注射模具4,34一个等离子体喷嘴（18，52，92，130）， 74连接），其在注塑模具（4,34，74）中产生在注塑模具（4,34，74）（用等离子流154注射成型件（8，38，88））可被作用。此外，本发明涉及一种方法，用于与注射成型模具（2,32，72），产生一个注射成型（8，38，88），其中所述注射模制材料，特别是塑料，在注射模具的模腔（6，36，86）（ 4，34，74）被引入，从而形成注射成型（8，38，88），并且其中在注塑模具（4，34中的注射模制部件（8，38，88），74）（与大气等离子流 154）被应用。

2. 发明申请

WO2017157846A1 VORRICHTUNG ZUR UMFORMUNG METALLISCHER BAUTEILE SOWIE DAMIT DURCHGEFÜHRTES VERFAHREN 审中-公开
标题翻译：用于形成金属部件的装置和由此进行的方法
公开(公告)号：WO2017157846A1
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：PCT/EP2017/055832
申请日：2017-03-13
申请人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT , PLASMATREAT GMBH
发明人： BUSKE, Christian , EDER, Florian , GRISHIN, Artur , KNOSPE, Alexander
IPC分类号： C23C16/00 , C22F1/06 , H05H1/00 , B21D37/16
CPC分类号： H05H1/2406 , C22F1/06 , H05H2001/2418
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung, die zur Umformung von metallischen Werkstoffen einsetzbar ist. Die Erfindung betrifft demnach eine Vorrichtung zur Biegeumformung wie der Druckumformung, beispielsweise durch Flächenwalzen, der Zugumformung, beispielsweise durch Streckziehen und/oder der Zugdruckumformung, beispielsweise zum Tiefziehen. Zur Verminderung der durch Reibungsverluste und Reibungsschäden während des Umformungsprozesses auftretender Schäden und Energieverluste wird vorgeschlagen, in der Vorrichtung ein Plasmaerzeugungsmodul vorzusehen, durch das ausgewählte Oberflächen der Werkzeuge der Vorrichtung und/oder der umzuformenden metallischen Bauteile mit einer Beschichtung im Nanometerbereich, bevorzugt vor der Umformung, beschichtbar sind und nach der Umformung behandelbar sind, also beispielsweise von der organischen Schutzschicht wieder gereinigt werden. Die Erfindung betrifft auch ein mit der Vorrichtung durchführbares Verfahren.
摘要翻译：本发明涉及一种可用于形成金属材料的装置。的，本发明涉及一种用于由液态＆AUML弯曲变形作为压力变形，例如;通过拉伸chenwalzen，所述Zugumformung，例如形成和/或Zugdruckumformung，例如用于深冲。为了减少摩擦损失和Reibungssch BEAR成形过程SCH＆AUML期间发生的瓦特BEAR;所述和能量损失提出提供在设备中的等离子生成模块，通过拾取AUML;的设备和/或再成形金属部件陈用的工具HLTE表面BEAR 纳米范围内的涂层，优选在形成之前，是可涂覆的并且可以在成形之后进行处理，即例如从有机保护层再次清洁。本发明还涉及可以用该设备执行的方法。

3. 发明申请

WO2009156390A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM AUFBRINGEN EINER SCHICHT, INSBESONDERE EINER SELBSTREINIGEND UND/ODER ANTIMIKROBIELL WIRKENDEN PHOTOKATALYTISCHEN SCHICHT, AUF EINE OBERFLÄCHE 审中-公开
标题翻译：方法和装置应用层中，尤其是自清洁和/或抗菌署理光催化层的表面
公开(公告)号：WO2009156390A1
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：PCT/EP2009/057799
申请日：2009-06-23
申请人： PlasmaTreat GmbH , BUSKE, Christian , KNOSPE, Alexander , BEER, Thomas , FEHLING, Kay
发明人： BUSKE, Christian , KNOSPE, Alexander , BEER, Thomas , FEHLING, Kay
IPC分类号： H05H1/42
CPC分类号： H05H1/42
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Aufbringen einer selbstreinigend Schicht, insbesondere einer selbstreinigend und/oder antimikrobiell wirkenden photokatalytischen, Schicht, auf eine Oberfläche, bei dem ein atmosphärischer Plasmastrahl durch elektrische Entladung in einem Arbeitsgas erzeugt wird und bei dem ein Precursormaterial getrennt vom Arbeitsgas eingebracht wird, wobei das Precursormaterial als Aerosol direkt in den Plasmastrahl eingebracht wird. Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zum atmosphärischen Plasmaauftrag einer Schicht auf eine Oberfläche, mit einer Plasmaquelle (2) zum Erzeugen eines Plasmastrahls (26) und mit einer Mischvorrichtung (3, 3', 3''), die das Einbringen eines Precursormaterials als Aerosol (34) direkt in den Plasmastrahl vorsieht.
摘要翻译：本发明涉及应用自清洁层，特别是一种自清洁和/或抗菌的光催化，涂层，被引入到在其中由放电的工作气体中产生的大气压等离子体射流的表面，并且其中的一个方法从工作气体中分离的前体材料其中所述前体材料被引入作为气溶胶直接进入等离子体射流。本发明还涉及一种用于层的大气等离子体沉积的设备上的等离子体源（2），用于产生等离子束（26）的表面，并用混合装置（3，3“ 3' ”），前体材料的掺入作为气溶胶（34）直接提供到等离子体射流。

4. 发明申请

WO2005078715A2 VERFAHREN ZUM BESCHICHTEN EINES OPTISCHEN DATENTRÄGERS SOWIE EIN BESCHICHTETER OPTISCHER DATENTRÄGER 审中-公开
标题翻译：方法涂层的光盘和镀膜光学DISK
公开(公告)号：WO2005078715A2
公开(公告)日：2005-08-25
申请号：PCT/EP2005/001485
申请日：2005-02-14
申请人： PLASMATREAT GMBH , BUSKE, Christian , KNOSPE, Alexander
发明人： BUSKE, Christian , KNOSPE, Alexander
IPC分类号： G11B7/24
CPC分类号： G11B7/26 , G11B7/24056 , G11B7/2548
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines optischen Datenträgers, wobei der Datenträger mindestens eine Substratschicht und mindestens eine Reflexionsschicht aufweist, bei dem aus einem Arbeitsgas mit Hilfe einer atmosphärischen Plasmaentladung ein Plasmastrahl erzeugt wird, bei dem ein Precursormaterial dem Arbeitsgas oder dem Plasmastrahl zugeführt und im Plasmastrahl zur Reaktion gebracht wird und bei dem das aus dem Precursormaterial entstehende Reaktionsprodukt auf der mindestens einen Substratschicht als Zusatzschicht abgeschieden wird. Die Zusatzschicht kann einerseits als Schutzschicht oder Barriereschicht dienen. Andererseits kann die Zusatzschicht eine reflektive Schicht im Aufbau des optischen Datenträgers dienen. Die Erfindung betrifft auch einen optischen Datenträger mit einer durch atmosphärische Plasmabeschichtung hergestellten Zusatzschicht.
摘要翻译：本发明涉及一种用于涂覆光学数据载体，其具有在所述至少一个基片层和至少在其被从工艺气体通过其中供应到工作气体的前体材料的大气压等离子体放电来产生等离子体束的反射层，或等离子体射流和所述数据载体等离子体射流，继续反应，并且其中从所述前体材料所得到的反应产物被沉积在基底上的至少一个层作为附加的层。附加层可充当保护层或阻挡层。在另一方面，附加层可作为在光学数据载体的结构的反射层。本发明还涉及具有通过大气等离子涂料添加剂层而制备的溶液的光学数据载体。

5. 发明申请

WO2015055716A1 VERFAHREN ZUR VORBEHANDLUNG EINER SUBSTRATOBERFLÄCHE UND VERFAHREN ZUR BESCHICHTUNG DER SUBSTRATOBERFLÄCHE 审中-公开
标题翻译：处理对基材表面的涂料基材表面的制备及方法
公开(公告)号：WO2015055716A1
公开(公告)日：2015-04-23
申请号：PCT/EP2014/072115
申请日：2014-10-15
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , PLASMATREAT GMBH
发明人： IHDE, Jörg , WILKEN, Ralph , DEGENHARDT, Jost , KNOSPE, Alexander , BUSKE, Christian
IPC分类号： C25D5/56 , C23C18/20 , C23C14/22
CPC分类号： C25D5/56 , C23C4/08 , C23C4/131 , C23C18/2006
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vorbehandlung einer Oberfläche eines Substrats (50), insbesondere für einen nachfolgenden Galvanisierungsprozess oder einen nachfolgenden elektrostatischen Beschichtungsprozess, wobei bei dem Verfahren durch eine Entladung zwischen Elektroden (16; 5, 32) in einem Prozessgas (18) ein Atmosphärendruckplasma erzeugt wird, mindestens eine der Elektroden eine Opferelektrode (16) ist, von der durch die Entladung Material abgetragen wird, es sich bei dem abgetragenen Material um leitfähige, insbesondere metallische, Partikel (30) handelt und/oder aus dem abgetragenen Material leitfähige, insbesondere metallische, Partikel (30) entstehen, und die Partikel so auf der Oberfläche des Substrats abgeschieden werden, dass die elektrische Leitfähigkeit der Oberfläche des Substrats erhöht wird. Ferner betrifft die Erfindung Verfahren zur Beschichtung einer Oberfläche eines Substrats, bei denen eine Schicht auf eine vorbehandelte Oberfläche des Substrats aufgebracht wird. Die Erfindung betrifft überdies ein durch das Vorbehandiungsverfahren erhältliches Vorbehandlungsprodukt und ein durch die Beschichtungsverfahren erhältliches Produkt.
摘要翻译：本发明涉及一种通过电极之间的放电预处理的基材（50）的表面，特别是用于后续的电镀工艺或后续的静电涂装方法，其中在所述方法（16; 5，32）的工艺气体（18），大气压等离子体中形成所述电极中的至少一个是牺牲电极（16）从通过排出材料，它是在烧蚀的材料去除是导电的，尤其是金属，颗粒物（30）和/或从所移除的材料导电，并且特别是金属颗粒（30）形成，并且所述颗粒沉积在基底的表面上，该衬底的表面的导电性提高。此外，本发明提供用于涂布，其中层被施加到所述衬底的预处理表面是关心的基板的表面的方法。本发明还涉及由该Vorbehandiungsverfahren预处理产物获得的，并且通过涂覆工艺产品的获得。

6. 发明申请

WO2010057853A1 VERFAHREN ZUR ATMOSPHÄRISCHEN BESCHICHTUNG VON NANOOBERFLÄCHEN 审中-公开
标题翻译：方法大气涂层纳米表面
公开(公告)号：WO2010057853A1
公开(公告)日：2010-05-27
申请号：PCT/EP2009/065234
申请日：2009-11-16
申请人： PLASMATREAT GmbH , KNOSPE, Alexander , BEER, Thomas , KÜBLER, Michael , BURR, August
发明人： KNOSPE, Alexander , BEER, Thomas , KÜBLER, Michael , BURR, August
IPC分类号： H05H1/42 , H05H1/24
CPC分类号： H05H1/42 , B29C33/58 , H05H2240/10 , H05H2245/123
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Aufbringen einer Schicht auf eine Nanooberfläche eines Werkstücks, bei dem ein atmosphärischer Plasmastrahl durch elektrische Entladung in einem Arbeitsgas erzeugt wird und ein Precursormaterial räumlich getrennt vom Arbeitsgas zugeführt wird, wobei das Precursormaterial direkt dem Plasmastrahl zugeführt wird und die aufgebrachte Schicht eine der Nanooberfläche des Werkstücks im Wesentlichen entsprechende Nanooberfläche aufweist. Die Erfindung betrifft insbesondere ein Verfahren zum Aufbringen einer Trennschicht bei Abformprozessen, wobei das abzuformende Werkstück eine Nanooberfläche aufweist.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于将一个层的工件，其中通过放电产生的工作气体在大气等离子体射流和前体材料从工作气体饲喂空间上分开，其特征在于，所述前体材料直接供给到等离子体射流和涂覆层的纳米表面大致对应纳米表面的工件的纳米表面中的一个。更具体地说，本发明涉及在Abformprozessen施加分离层的方法，其中所述工件具有纳米abzuformende表面。

7. 发明申请

WO2021023612A1 VERFAHREN ZUM BEREITSTELLEN EINER ELEKTRODENFOLIE ZUR HERSTELLUNG EINES LITHIUM-IONEN-AKKUMULATORS UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES LITHIUM-IONEN-AKKUMULATORS 审中-公开
公开(公告)号：WO2021023612A1
公开(公告)日：2021-02-11
申请号：PCT/EP2020/071479
申请日：2020-07-30
申请人： PLASMATREAT GMBH
发明人： KNOSPE, Alexander , ASAD, Syed Salman , BUSKE, Christian , GOLDMANN, Hannes
IPC分类号： H01M4/04 , H01M10/052
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bereitstellen einer Elektrodenfolie (14, 22, 24, 144, 154) zur Herstellung eines Lithium-Ionen-Akkumulators, bei dem eine Metallfolie (2, 32, 36, 110, 110') mit einer Beschichtung (10, 34, 38, 120, 120', 130, 130') aus Elektrodenmaterial bereitgestellt wird und bei dem die Beschichtung (10, 34, 38, 120', 130, 130') aus Elektrodenmaterial plasmabehandelt wird, wobei die Beschichtung (10, 34, 38, 120', 130, 130') aus Elektrodenmaterial plasmabehandelt wird, indem die Beschichtung (10, 34, 38, 120', 130, 130') mit einem atmosphärischen Plasmastrahl (16, 80, 146) beaufschlagt wird. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Lithium-Ionen-Akkumulators, bei dem eine erste Elektrodenfolie (22, 144) für die negative Elektrode und eine zweite Elektrodenfolie (24, 154) für die positive Elektrode bereitgestellt werden, bei dem die erste und die zweite Elektrodenfolie (22, 24, 144, 154) unter Zwischenlage einer Separatorlage (26, 160) zu einem Folienstapel (30, 158) übereinander angeordnet werden und bei dem der Folienstapel (30, 158) mit einem flüssigen Elektrolyt (44, 170) getränkt wird, wobei die erste und/oder die zweite Elektrodenfolie (22, 24, 144, 154) mit dem zuvor genannten Verfahren bereitgestellt werden.

8. 发明申请

WO2011042459A1 ATMOSPHÄRENDRUCKPLASMAVERFAHREN ZUR HERSTELLUNG OBERFLÄCHENMODIFIZIERTER PARTIKEL UND VON BESCHICHTUNGEN 审中-公开
标题翻译：常压等离子体工艺用于生产表面改性的颗粒和涂料的
公开(公告)号：WO2011042459A1
公开(公告)日：2011-04-14
申请号：PCT/EP2010/064906
申请日：2010-10-06
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , PLASMATREAT GMBH , IHDE, Jörg , WILKEN, Ralph , DEGENHARDT, Jost , KNOSPE, Alexander , BUSKE, Christian
发明人： IHDE, Jörg , WILKEN, Ralph , DEGENHARDT, Jost , KNOSPE, Alexander , BUSKE, Christian
IPC分类号： C23C14/32 , B22F1/02 , H05H1/34
CPC分类号： C23C14/325 , B22F1/02 , H05H1/2406 , H05H1/42 , H05H1/48
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter Partikel in einem Atmosphärendruckplasma, sowie ein Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung mit darin dispergierten Partikeln unter Verwendung eines Atmosphärendruckplasmas. In beiden Verfahren wird das Plasma durch eine Entladung zwischen Elektroden in einem Prozessgas erzeugt. Ferner sind beide Verfahren dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Elektroden eine Sputterelektrode ist, von der durch die Entladung Partikel abgesputtert werden. Die vorliegende Erfindung betrifft darüber hinaus Verfahren zur Herstellung von Verbundmaterialien, bei denen mit einem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte oberflächenmodifizierte Partikel in eine Matrix eingebaut werden, sowie die Verbundmaterialien als solche. Schließlich schlägt die Erfindung auch Plasmadüsen, sowie diese enthaltende Vorrichtungen vor, mit denen die erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter Partikel und zur Herstellung von Beschichtungen mit darin dispergierten Partikeln vorteilhaft durchgeführt werden können. Mit den erfindungsgemäßen Verfahren können auf leichte Weise oberflächenmodifizierte Partikel und Beschichtungen mit darin dispergierten Partikeln erzeugt werden, wobei auch bei Mikro- und Nanopartikeln Agglomerationsprobleme weitgehend vermieden werden können.
摘要翻译：本发明涉及到一种用于在大气压等离子体的制备表面改性的颗粒的方法，并使用大气压等离子体具有分散在其中的颗粒用于制备涂层的方法。在这两种方法中，通过将处理气体在电极之间的放电产生的等离子体。此外，这两种方法的特征在于，所述电极的至少一个是溅射电极由通过颗粒排出溅射。本发明还涉及用于制造复合材料，其中通过本发明的方法生产的，表面改性的颗粒在并入基质，以及复合材料本身。最后，本发明还等离子体射流，以及含有这些装置提出，与根据本发明的方法可有利地用于表面改性的颗粒的制备和生产涂料的情况下进行，其中分散有颗粒。利用本发明的方法中，表面改性的颗粒，并含有分散的颗粒能够容易地形成，并且甚至可以在微米和纳米粒子凝聚的问题在很大程度上避免涂层。

9. 发明申请

WO2018141802A1 ATMOSPHÄRENDRUCKPLASMAVERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON PLASMAPOLYMEREN BESCHICHTUNGEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2018141802A1
公开(公告)日：2018-08-09
申请号：PCT/EP2018/052421
申请日：2018-01-31
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , PLASMATREAT GMBH
发明人： REGULA, Christoph , IHDE, Jörg , WILKEN, Ralph , DEGENHARDT, Jost , KNOSPE, Alexander , ASAD, Syed Salman , BUSKE, Christian
IPC分类号： B05D1/00 , H01M4/66 , H01M4/02
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung einer plasmapolymeren Schicht in einem Atmosphärendruckplasma auf einem metallischen Substrat, wobei das Plasma durch eine Entladung zwischen Elektroden erzeugt wird, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine organische Beschichtungsvorläuferverbindung in den Bereich des relaxierenden Plasmas eingespeist und als plasmapolymere Schicht auf dem metallischen Substrat abgeschieden wird, wobei Stickstoff oder Formiergas als Prozessgas verwendet wird und die mindestens eine organische Beschichtungsvorläuferverbindung ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus heterozyklischen Verbindungen, zyklischen nicht-funktionalisierten Kohlenwasserstoffen und Kohlenwasserstoffen mit mindestens einer funktionellen Gruppe. Die Erfindung betriff überdies einen Artikel, eine Elektrode und einen Kondensator, die jeweils ein metallisches Substrat mit einer Oberfläche und einer plasmapolymeren Schicht auf der Oberfläche umfassen, ein Verfahren zur Herstellung der Elektrode, ein Verfahren zur Herstellung des Kondensators sowie eine Batteriezelle und einen Lithium-Ionen-Akkumulator die die Elektrode umfassen.

10. 发明申请

WO2016041900A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR INNENBEHANDLUNG, INSBESONDERE ZUR INNENBESCHICHTUNG EINES ROHRES 审中-公开
标题翻译：室内处理方法及设备，特别适用于内衬管道
公开(公告)号：WO2016041900A1
公开(公告)日：2016-03-24
申请号：PCT/EP2015/070950
申请日：2015-09-14
申请人： SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT , PLASMATREAT GMBH
发明人： EDER, Florian , MALEIKA, Marek , SCHMIDT, Martin , BUSKE, Christian , KNOSPE, Alexander
IPC分类号： C23C16/04 , C23C16/50
CPC分类号： C23C16/045 , C23C16/50
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Innenbehandlung, insbesondere zur Innenbeschichtung eines Rohres (2, 4, 6), bei dem innerhalb des zu behandelnden bzw. zu beschichtenden Rohres (2, 4, 6) ein Plasma (36, 72, 132) erzeugt wird und bei dem das Plasma (36, 72, 132) unter Verwendung eines durch das Rohr (2, 4, 6) bewegten Plasmaerzeugungsmoduls (12, 42, 62, 82, 112, 122, 162) erzeugt wird. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Innenbehandlung, insbesondere zur Innenbeschichtung eines Rohres (202), bei dem innerhalb des Rohres (202) ein induktiv oder kapazitiv gekoppeltes Plasma (206) erzeugt wird und optional ein Precursor (38) derart mit dem Plasma (206) in Wechselwirkung gebracht wird, dass sich auf der Innenseite des Rohres (202) eine Beschichtung (8) bildet. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Vorrichtung (10, 40, 60, 80, 110, 120, 140, 160) eingerichtet zur Durchführung eines dieser Verfahren oder aufweisend jeweilige Mittel zur Durchführung eines der dieser Verfahren sowie eine Vorrichtung (10, 40, 60, 80, 110, 120, 140, 160) zur Innenbehandlung, insbesondere zur Innenbeschichtung eines Rohres (2, 4, 6) mit einem Plasmaerzeugungsmodul (12, 42, 62, 82, 112, 22, 162), das dazu eingerichtet ist, durch ein Rohr (2, 4, 6) bewegt zu werden und innerhalb des Rohres (2, 4, 6) ein Plasma (36, 72, 132) zu erzeugen, und mit einem Transportmechanismus (16), der dazu eingerichtet ist, das Plasmaerzeugungsmodul (12, 42, 62, 82, 112, 122, 162) durch das Rohr (2, 30 4, 6) hindurch zu bewegen.
摘要翻译：产生，本发明涉及一种用于内部处理的方法，特别是用于一个管（2，4,6），其中内的待处理或待涂覆管的内部涂层（2，4，6）的等离子体（36，72，132）且其中所述通过管道使用等离子体（36，72，132）（2，4，6）移动等离子体生成模块（12，42，62，82，112，122，162）被产生。此外，本发明涉及一种用于内部处理的方法，特别是用于一个管（202）的内涂层，其特征在于，所述管（202），则产生的感应或电容耦合等离子体（206）和，任选地，前体（38）（使之与等离子体206内）被带入该相互作用（在管202）的内部形成的涂层（8）。此外，本发明涉及一种装置（10，40，60，80，110，120，140，160）适于执行这些方法之一或包含各自用于执行这些程序的一个，以及一个装置（10，40，60，80 ，110，120，140，160）到内治疗，特别是用于一个管（2，4的内涂层，6）用等离子生成模块（12，42，62，82，112，22，162）由一个适于管（2，4，6）移动，并在管内（2，4，6）的等离子体（36，72，132）来生产，并用其适于等离子体产生模块的输送机构（16）（ 12，42，62，82，112，122，162），通过管道（2，30 4，移动6）从中穿过。

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