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    • 1. 发明申请
    • STRAHLUNGSEMITTIERENDER HALBLEITERCHIP
    • 发射辐射的半导体芯片
    • WO2013041279A1
    • 2013-03-28
    • PCT/EP2012/064891
    • 2012-07-30
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHBEHRINGER, Martin, RudolfKLEMP, ChristophTÅNGRING, IvarHEIDBORN, Peter
    • BEHRINGER, Martin, RudolfKLEMP, ChristophTÅNGRING, IvarHEIDBORN, Peter
    • H01L33/30
    • H01L33/30H01L33/0025H01L33/06H01L2924/0002H01L2924/00
    • Es wird ein strahlungsemittierender Halbleiterchip (1) angegeben, der einen Halbleiterkörper mit einer Halbleiterschichtenfolge (2) aufweist, wobei sich der Halbleiterkörper mit der Halbleiterschichtenfolge in einer vertikalen Richtung zwischen einer ersten Hauptfläche (21) und einer zweiten Hauptfläche (22) erstreckt; die Halbleiterschichtenfolge einen zur Erzeugung von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich (5), einen ersten Bereich (3) eines ersten Leitungstyps und einen zweiten Bereich (4) eines vom ersten Leitungstyp verschiedenen zweiten Leitungstyps aufweist; der erste Bereich sich in vertikaler Richtung zwischen der ersten Hauptfläche und dem aktiven Bereich erstreckt; der zweite Bereich sich in vertikaler Richtung zwischen der zweiten Hauptfläche und dem aktiven Bereich erstreckt; zumindest eine Schicht des aktiven Bereichs auf einem arsenidischen Verbindungshalbleitermaterial basiert; und der erste Bereich oder der zweite Bereich bezogen auf die jeweilige Ausdehnung in vertikaler Richtung zumindest zur Hälfte auf einem phosphidischen Verbindungshalbleitermaterial basieren.
    • 提供了一种具有半导体本体的半导体层序列(2),发射辐射的半导体芯片(1),其中,所述半导体本体具有在第一主表面(21)和第二主表面(22)之间的垂直方向上的半导体层序列; 具有用于产生辐射活性区域的半导体层序列(5),第一区域(3)具有第一导电类型和第二区域(4)从所述第一第二导电类型不同的导电类型的; 所述第一区域在所述第一主表面和所述有源区之间的垂直方向上延伸; 所述第二区域在所述第二主表面和有源区之间的垂直方向上延伸; 上的arsenidischen化合物半导体材料的有源区中的至少一个层是基于; 并且第一区域或基于在半至少基于一个phosphidic化合物半导体材料的垂直方向的各个膨胀的第二区域。
    • 3. 发明申请
    • OPTOELEKTRONISCHER HALBLEITERCHIP
    • 光电子半导体芯片
    • WO2013029847A1
    • 2013-03-07
    • PCT/EP2012/063274
    • 2012-07-06
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHTÅNGRING, IvarSCHMID, Wolfgang
    • TÅNGRING, IvarSCHMID, Wolfgang
    • H01L33/14H01L33/20H01L33/38H01L33/40
    • H01L33/62H01L33/145H01L33/20H01L33/38H01L33/405H01L2224/48463
    • In mindestens einer Ausführungsform des optoelektronischen Halbleiterchips (1) umfasst dieser eine Halbleiterschichtenfolge (2) mit mindestens einer aktiven Schicht (20). Weiterhin weist der Halbleiterchip (1) eine Oberseitenkontaktstruktur (3) an einer Strahlungshauptseite (23) der Halbleiterschichtenfolge (2) und eine Unterseitenkontaktstruktur (4) an einer der Strahlungshauptseite (23) gegenüberliegenden Unterseite (24) auf. Ferner beinhaltet der Halbleiterchip (1) mindestens zwei Gräben (5), die von der Strahlungshauptseite (23) hin zur Unterseite (24) reichen. In Draufsicht auf die Strahlungshauptseite (23) gesehen sind die Oberseitenkontaktstruktur (3) und die Unterseitenkontaktstruktur (4) voneinander beabstandet angeordnet. Ebenfalls in Draufsicht auf die Strahlungshauptseite (23) gesehen befinden sich die Gräben (5) zwischen der Oberseitenkontaktstruktur (3) und der Unterseitenkontaktstruktur (4).
    • 在光电子半导体芯片(1),其包括具有至少一个有源层(20)的半导体层序列(2)中的至少一个实施例。 此外,半导体芯片(1)具有上半导体层序列(2)和在所述辐射主侧(23)的底部(24)相反的一个底接触结构(4)的辐射主侧(23)顶接触结构(3)。 此外,半导体芯片(1)包括至少两个沟槽(5)的辐射主侧(23)朝向丰富的底部(24)的。 在主辐射侧(23)的平面图中看到的,顶接触结构(3)和底接触结构(4)被布置成间隔开。 还可以看到在主放射侧(23)的俯视图是在沟槽(5)的顶接触结构(3)和底接触结构(4)之间。