专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2012148606A2 METHOD AND SYSTEM FOR FORMING NON-MANHATTAN PATTERNS USING VARIABLE SHAPED BEAM LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：使用变形光束光刻技术形成非曼哈坦模式的方法和系统
公开(公告)号：WO2012148606A2
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：PCT/US2012/030487
申请日：2012-03-24
申请人： D2S, INC. , FUJIMURA, Akira , BORK, Ingo , JACQUES, Etienne
发明人： FUJIMURA, Akira , BORK, Ingo , JACQUES, Etienne
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F1/78 , G03F1/144 , G03F1/20 , G03F1/36 , G03F7/705 , G06F17/5068 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J2237/31754 , H01J2237/31764 , H01J2237/31769 , H01J2237/31776
摘要： A method and system for fracturing or mask data preparation or proximity effect correction is disclosed in which a series of charged particle beam shots is determined, where the series of shots is capable of forming a continuous non-manhattan track on a surface, such that the non-manhattan track has a line width roughness (LWR) which nearly equals a target LWR. A method and system for fracturing or mask data preparation or proximity effect correction is also disclosed in which at least two series of shots are determined, where each series of shots is capable of forming a continuous non-manhattan track on a surface, and where the space between tracks has space width roughness (SWR) which nearly equals a target SWR.
摘要翻译：公开了一种用于压裂或掩模数据准备或邻近效应校正的方法和系统，其中确定一系列带电粒子束射击，其中一系列射击能够形成连续的非曼哈顿在表面上追踪，使得非曼哈顿轨道具有几乎等于目标LWR的线宽粗糙度（LWR）。还公开了一种用于压裂或掩模数据准备或邻近效应校正的方法和系统，其中确定至少两个镜头系列，其中每个镜头系列能够在表面上形成连续的非曼哈顿轨道，并且其中轨道之间的空间具有几乎等于目标SWR的空间宽度粗糙度（SWR）。

2. 发明申请

WO2012118621A2 METHOD AND SYSTEM FOR DESIGN OF ENHANCED PATTERNS FOR CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于填充粒子束光刻的增强图案的设计方法和系统
公开(公告)号：WO2012118621A2
公开(公告)日：2012-09-07
申请号：PCT/US2012/025328
申请日：2012-02-16
申请人： D2S, INC. , FUJIMURA, Akira , HAGIWARA, Kazuyuki , MEIER, Stephen F. , BORK, Ingo
发明人： FUJIMURA, Akira , HAGIWARA, Kazuyuki , MEIER, Stephen F. , BORK, Ingo
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/68 , G03F1/78 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J2237/31769 , H01J2237/31771 , H01J2237/31776
摘要： A method and system for fracturing or mask data preparation are presented in which overlapping shots are generated to increase dosage in selected portions of a pattern, thus improving the fidelity and/or the critical dimension variation of the transferred pattern. In various embodiments, the improvements may affect the ends of paths or lines, or square or nearly-square patterns. Simulation is used to determine the pattern that will be produced on the surface.
摘要翻译：提出了一种用于压裂或掩模数据准备的方法和系统，其中产生重叠射击以增加图案的选定部分中的剂量，从而改善转印图案的保真度和/或临界尺寸变化。在各种实施例中，改进可能影响路径或线的端部，或方形或近似正方形的图案。模拟用于确定将在表面上产生的图案。

3. 发明申请

WO2013003102A1 METHOD AND SYSTEM FOR FORMING PATTERNS WITH CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用填充颗粒光束成像形成图案的方法和系统
公开(公告)号：WO2013003102A1
公开(公告)日：2013-01-03
申请号：PCT/US2012/043042
申请日：2012-06-19
申请人： D2S, INC. , FUJIMURA, Akira , BORK, Ingo
发明人： FUJIMURA, Akira , BORK, Ingo
IPC分类号： G03F1/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2037 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/20 , G03F1/78 , H01J37/3174 , H01J2237/31764 , H01J2237/31771 , H01J2237/31776 , H01L21/027 , Y10S430/143
摘要： In a method for fracturing or mask data preparation or mask process correction for charged particle beam lithography, a plurality of shots are determined that will form a pattern on a surface, where shots are determined so as to reduce sensitivity of the resulting pattern to changes in beam blur (ß f ). At least some shots in the plurality of shots overlap other shots. In some embodiments, ß f is reduced by controlling the amount of shot overlap in the plurality of shots, either during initial shot determination, or in a post-processing step. The reduced sensitivity to ß f expands the process window for the charged particle beam lithography process.
摘要翻译：在用于对带电粒子束光刻进行压裂或掩模数据准备或掩模处理校正的方法中，确定将在表面上形成图案的多个镜头，其中确定镜头，以便将所得到的图案的灵敏度降低到光束模糊（ßf）。多个镜头中的至少一些镜头重叠其他镜头。在一些实施例中，通过在初始拍摄确定期间或在后处理步骤中控制多个拍摄中的拍摄重叠量来减小ßf。对ßf的敏感性降低扩大了带电粒子束光刻工艺的工艺窗口。

4. 发明申请

WO2012051082A2 METHOD AND SYSTEM FOR FORMING HIGH ACCURACY PATTERNS USING CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：使用带电粒子束光刻技术形成高精度图案的方法和系统
公开(公告)号：WO2012051082A2
公开(公告)日：2012-04-19
申请号：PCT/US2011/055536
申请日：2011-10-09
申请人： D2S, INC. , FUJIMURA, Akira , HAGIWARA, Kazuyuki , MEIER, Stephen F. , BORK, Ingo
发明人： FUJIMURA, Akira , HAGIWARA, Kazuyuki , MEIER, Stephen F. , BORK, Ingo
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F7/70441 , G06F17/5077 , G06F2217/12
摘要： A method and system for fracturing or mask data preparation for charged particle beam lithography are disclosed in which accuracy and/or edge slope of a pattern formed on a surface by a set of charged particle beam shots is enhanced by use of partially-overlapping shots. In some embodiments, dosages of the shots may vary with respect to each other before proximity effect correction. Particle beam simulation may be used to calculate the pattern and the edge slope. Enhanced edge slope can improve critical dimension (CD) variation and line-edge roughness (LER) of the pattern produced on the surface.
摘要翻译：公开了一种用于带电粒子束光刻的压裂或掩模数据准备的方法和系统，其中通过一组带电粒子束射击在表面上形成的图案的准确度和/或边缘斜率被增强通过使用部分重叠的镜头。在一些实施例中，在临近效应校正之前，镜头的剂量可以相对于彼此变化。粒子束模拟可用于计算图案和边缘斜率。增强的边缘斜率可以改善表面上产生的图案的临界尺寸（CD）变化和线边缘粗糙度（LER）。

5. 发明申请

WO2013098322A2 VERFAHREN ZUM BESTIMMEN EINER POSITION EINES KOLBENS IN EINEM KOLBENDRUCKSPEICHER MITTELS INDUKTIVSENSOREN SOWIE GEEIGNET AUSGEBILDETER KOLBENDRUCKSPEICHER 审中-公开
标题翻译：用于确定活塞的位置中的活塞ACCUMULATOR方法的装置的编码器的，以及适合经过培训活塞式蓄能器
公开(公告)号：WO2013098322A2
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：PCT/EP2012/076946
申请日：2012-12-27
申请人： ROBERT BOSCH GMBH , SPINDLER, Susanne , ZICKGRAF, Bernhard , WEISS, Stefan , BORK, Ingo , WEISSER, Christoph , BAUER, Richard
发明人： SPINDLER, Susanne , ZICKGRAF, Bernhard , WEISS, Stefan , BORK, Ingo , WEISSER, Christoph , BAUER, Richard
IPC分类号： F15B1/24
CPC分类号： F15B19/005 , F15B1/24 , F15B2201/205 , F15B2201/31 , F15B2201/515
摘要： Es werden ein Kolbenspeicher (1) sowie ein Verfahren zum Bestimmen einer Position eines Kolbens (5), der sich innerhalb eines Gehäuses (3) des Kolbenspeichers (1) bewegen kann, beschrieben. An einer Mantelfläche (21) des Gehäuses (3) sind dabei ein oder mehrere Induktivsensoren (15) außen angeordnet und dazu ausgelegt, eine Bewegung des Kolbens (5) im Innern des Gehäuses (3) aufgrund von elektromagnetischer Induktion zu detektieren. Auf diese Weise kann eine technisch einfach zu realisierende, berührungsfreie Bestimmung der aktuellen Position des Kolbens (5) implementiert werden und beispielsweise zur Überwachung eines Ladezustands des Kolbendruckspeichers (1) benutzt werden.
摘要翻译：将描述用于确定可在活塞式储存器（1）的壳体（3）内移动的活塞（5）的位置的活塞式储存器（1）和方法。 S布置，并且适于执行所述活塞的运动（5）在所述壳体BEAR的内部;是使用（3）其中的一个或多个感应传感器（15）在所述外壳＆AUML用途的Mantelfl BEAR表面（21）（3）由于AU ROAD 检测电磁感应。以这种方式，在技术上易于实施，经由导航用途货币自由判定所述活塞（5）来实现的，并且例如当前位置的，用于与Uuml;监测电荷活塞压力储存器（1）中的状态，可以使用。

6. 发明申请

WO2012076459A1 BLASENSPEICHER 审中-公开
标题翻译：磁泡存储器
公开(公告)号：WO2012076459A1
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：PCT/EP2011/071729
申请日：2011-12-05
申请人： ROBERT BOSCH GMBH , VOGT, Andreas , SCHMUTTERMAIR, Peter , BORK, Ingo , ENGELBERG, Ralph
发明人： VOGT, Andreas , SCHMUTTERMAIR, Peter , BORK, Ingo , ENGELBERG, Ralph
IPC分类号： F15B1/10
CPC分类号： F15B1/103 , F15B1/165 , F15B2201/205 , F15B2201/3152 , F15B2201/3153 , F15B2201/3158
摘要： Die Erfindung betrifft einen Blasenspeicher mit einem Gehäuse (4), in welchem eine Blase (5) angeordnet ist. Um einen Blasenspeicher zu schaffen, der einfach aufgebaut und kostengünstig herstellbar ist, weist die Blase (5) mindestens einen vorbestimmten Verformungsbereich auf, in dem sich die Blase (5) im Betrieb des Blasenspeichers (1) definiert verformt.
摘要翻译：本发明涉及一种气囊蓄压器具有壳体（4），其中一个气囊位于（5）。为了创建一个磁泡存储器，这是简单且廉价地制造，（5）连接到至少一个预定的位移范围，其中，所述囊储存器（1）的操作期间的气泡（5）变形所限定的囊。

7. 发明申请

WO2013087775A1 WICKELVERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES ROTATIONSSYMMETRISCHEN, ROHRARTIGEN HOHLKÖRPERFORMLINGS, VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER VORRICHTUNG ZUM HERSTELLEN DES SELBEN 审中-公开
标题翻译：卷绕方法用于生产平衡的旋转，管状中空体成型，设备和方法制造器件生产同样
公开(公告)号：WO2013087775A1
公开(公告)日：2013-06-20
申请号：PCT/EP2012/075392
申请日：2012-12-13
申请人： ROBERT BOSCH GMBH , SEUFERT, Thomas , BORK, Ingo
发明人： SEUFERT, Thomas , BORK, Ingo
IPC分类号： B29C33/46 , B29C53/60 , B29C53/82 , B29C53/84
CPC分类号： B29D23/00 , B29C33/505 , B29C53/60 , B29C53/824 , B29L2023/00
摘要： Wickelverfahren zum Herstellen eines rotationssymmetrischen, rohrartigen Hohlkorperformlings, Vorrichtung (10) zum Herstellen eines rotationssymmetrischen, rohrartigen Hohlkorperformlings sowie Verfahren zum Herstellen einer Vorrichtung zum Herstellen eines rotationssymmetrischen, rohrartigen Hohlkorperformlings, wobei mit einem Harz getränkte Verstärkungsfasern in einem Wickelvorgang auf einen drehbar angetriebenen Wickelkern (1) aufgewickelt werden, dessen Außendurchmesser dem Innendurchmesser des Hohlkorperformlings entspricht und wobei nach einem anschließenden Härten des Hohlkorperformlings mittels Wärmezufuhr der Hohlkorperformling von dem Wickelkern abgezogen wird. Der Außendurchmesser des Wickelkerns weist zum Wickelvorgang und/oder zu Härten des Hohlkorperformlings einen den Innendurchmesser des herzustellenden Hohlkorperformlings entsprechenden Außendurchmesser auf, der zum Abziehen des Hohlkorperformlings von dem Wickelkern auf einen geringeren Außendurchmesser reduziert wird.
摘要翻译：用于生产旋转对称的，管状Hohlkorperformlings和一种制造设备，用于制造一个旋转对称的，管状Hohlkorperformlings的方法产生旋转对称的，管状Hohlkorperformlings，装置（10）的包装方法，其中在用树脂浸渍强化用纤维上的可旋转驱动的卷芯（1卷绕操作）可以被包裹，其外径对应于Hohlkorperformlings的内径和由卷绕芯的Hohlkorperformling的供热装置Hohlkorperformlings的随后固化后抽出。面向卷绕操作和/或固化所述Hohlkorperformlings一个对应于所产生的Hohlkorperformlings外径是用于绘制从卷绕芯减小到更小的外径的Hohlkorperformlings的内径卷芯的外径。

8. 发明申请

WO2012076436A1 HYDROSPEICHEREINRICHTUNG 审中-公开
标题翻译： HYDRO存储设备
公开(公告)号：WO2012076436A1
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：PCT/EP2011/071691
申请日：2011-12-05
申请人： ROBERT BOSCH GMBH , VOGT, Andreas , SCHMUTTERMAIR, Peter , BORK, Ingo , ENGELBERG, Ralph
发明人： VOGT, Andreas , SCHMUTTERMAIR, Peter , BORK, Ingo , ENGELBERG, Ralph
IPC分类号： F15B1/10
CPC分类号： F15B1/04 , F15B1/10 , F15B2201/3151 , F15B2201/3156 , F15B2201/405
摘要： Die Erfindung betrifft eine Hydrospeichereinrichtung in der Bauart eines Membranspeichers, mit einer Membran (16), die ein Pneumatikvolumen von einem Hydraulikvolumen trennt. Um die Hydrospeichereinrichtung im Hinblick auf ihren Wirkungsgrad und/oder ihre Herstellkosten zu verbessern, ist die Membran (16) zwischen zwei Haltekörpern (4,5) eingespannt, die jeweils mehrere Vertiefungen (11-14) aufweisen und zwischen denen die Membran (16) eingespannt ist, um mehrere hydropneumatische Membranspeicher darzustellen.
摘要翻译：本发明涉及在膜商店的设计的液压蓄能器，以分离液压体积的充气体积的膜（16）。为了提高液压存储装置鉴于它们的效率和/或两个支承体之间的其制造成本，所述膜（16）（4,5）被夹紧，每一个都具有多个凹部（11-14），并且其之间的隔膜（16）被夹紧到表示多个液压气动隔膜累加器。

9. 发明申请

WO2013158573A1 METHOD AND SYSTEM FOR FORMING PATTERNS USING CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPH 审中-公开
标题翻译：使用充电颗粒光栅形成图案的方法和系统
公开(公告)号：WO2013158573A1
公开(公告)日：2013-10-24
申请号：PCT/US2013/036669
申请日：2013-04-15
申请人： D2S, INC.
发明人： FUJIMURA, Akira , AADAMOV, Anatoly , KHALIULLIN, Eldar , BORK, Ingo
IPC分类号： H01L21/027 , G03F1/70
CPC分类号： G03F1/70 , G03F1/36 , G06F17/50 , G06F17/5009 , G06F17/5036 , G06F17/5068
摘要： A method for mask data preparation (MDP) is disclosed, in which a set of shots is determined that will form a pattern on a reticle, where the determination includes calculating the pattern that will be formed on a substrate using an optical lithographic process with a reticle formed using the set of shots. A method for optical proximity correction (OPC) or MDP is also disclosed, in which a preliminary set of charged particle beam shots is generated using a preliminary mask model, and then the shots are modified by calculating both a reticle pattern using a final mask model, and a resulting substrate pattern. A method for OPC is also disclosed, in which an ideal pattern for a photomask is calculated from a desired substrate pattern, where the model used in the calculation includes only optical lithography effects and/or substrate processing effects.
摘要翻译：公开了一种用于掩模数据准备（MDP）的方法，其中确定将在掩模版上形成图案的一组镜头，其中所述确定包括使用光学平版印刷工艺计算将在基底上形成的图案，使用一组镜头形成掩模版。还公开了一种用于光学邻近校正（OPC）或MDP的方法，其中使用初步掩模模型产生初始的带电粒子束照射集，然后通过使用最终掩模模型计算掩模版图案来修改镜头，以及所得到的衬底图案。还公开了一种用于OPC的方法，其中根据期望的衬底图案计算光掩模的理想图案，其中计算中使用的模型仅包括光学光刻效果和/或衬底处理效果。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式